「On Line Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Since a signal switching circuit 4 for switching the shift clocks of shift registers in a signal line driving circuit and a scanning line driving circuit are constituted only by TFTs, the circuit 4 can be formed on a transparent substrate by the same process as that for forming pixel TFTs.例文帳に追加

第１および信号切替回路はＴＦＴからなるインバータと、ＴＦＴスイッチとで構成され、制御入力信号の論理を切り替えることにより、各駆動回路内のシフトレジスタに入力されるシフトクロックを切り替えることができる。 - 特許庁

To provide an electronic device in which connection reliability is enhanced by preventing disconnection at the joint of interconnect lines when an interconnect line is formed to be connected with a substrate on which an interconnect line is formed through a level difference, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

基板上に形成された配線と、この基板に段差を介して接続するような配線を形成する際に、これら配線の接続部分の断線を防止し、その接続信頼性を向上した電子装置、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A V gesture determination part 1103 determines whether a segment drawn on a display screen to connect coordinates inputted in a coordinate input process include a line written in one stroke and a substantially V-shaped segment having an intersection with this line or not.例文帳に追加

Ｖジェスチャ判定部１１０３が、座標入力工程において入力された座標間を結んでディスプレイ画面に線画された線画が、１ストロークで書かれた線と、この線と交点を持つ略Ｖ字形状の線画とを含むか否かを判定する。 - 特許庁

The right and left pair of the line markers 10R shaken out to the outside of a machine body of a traveling machine body and drawing a traveling scheme line on a field surface for the next process of transplanting is provided by being driven by a marker motor 15 and also operated by an implement-operating lever.例文帳に追加

走行機体の機体外側に振り出されて、植付け次工程における走行予定線を圃場面に線引きする左右一対の線引マーカ１０Ｒは、マーカモータ１５によって駆動されると共に、作業機操作レバーによって操作される。 - 特許庁

In the method, the super-thin line circuit layer can be formed by electrolytic plating without depending on an etching means, and a carrier object and a metal avoiding layer, which are required for forming the super-thin line circuit layer, are removed during a manufacture process or when it is terminated.例文帳に追加

本発明方法においては、電解メッキによりエッチング手段に頼らず超細線回路層を形成することができ、製造工程中或いは終了時に超細線回路層形成に必要なキャリア体、金属阻隔層を除去する。 - 特許庁

Each DMAC, when a transfer start command is input from the CPU 12, repeats process for inputting/transferring the image data at every one line by one line each based on the setting, transferring one page of the image data to the white/black dual beam print engine.例文帳に追加

各ＤＭＡＣは、ＣＰＵ１２から転送開始命令を入力すると、設定に従って１ライン置きに１ライン分ずつ画像データを入力して転送する処理を繰り返し、白黒デュアルビームプリントエンジンに１ページの画像データを転送する。 - 特許庁

Subsequently, the plurality of lines of containers are aligned into the single line by repeating speed reducing process and accelerating process of the containers more than at least one time on the conveyor connected to the inlet accelerating conveyor, while sucking from the container carrying surface and the bottom surfaces of the containers by negative pressure.例文帳に追加

事後、容器搬送面から容器底面を負圧で吸引しながら前記入口加速コンベヤに接続するコンベヤ上で容器の減速工程と加速工程を少なくとも1回以上繰返して複数列の容器を単列化する。 - 特許庁

To provide a system and a method for controlling conveyance, which are capable of properly setting the number of optical members sent out from a normal processing route to a sampling process route on a process line where a plurality of kinds of optical members are conveyed in a mixed fashion.例文帳に追加

複数種類の光学部材が混在して搬送されている加工ラインにおいて、通常加工ルートから抜取り処理ルートへ送り出される光学部材の数を適正に設定可能な搬送制御システムおよび方法を提供する。 - 特許庁

In fixation of the reinforcing plates, one or more welding bead parts in parallel arrangement are formed by line welding process on the body side and on the collision side approximately along the longitudinal direction of the top plate or bottom plate, and it is favorable that the welding strength on the body side is larger than that on the collision side.例文帳に追加

補強プレートの固定では、線溶接によって天板または底板の長手方向に略沿って車体側と衝突側にそれぞれ１本または並列した２本以上の溶接ビードが形成され、車体側の溶接強度が衝突側の溶接強度より大きいのが望ましい。 - 特許庁

The printed circuit board includes a through hole for mounting components with leads, a soldering part for effecting a soldering process and a process for effecting additional soldering on the soldering part or a part of the components with leads to effect the additional soldering while indicating the number of a process of additional soldering or a line by silk.例文帳に追加

プリント基板は前記リード部品を実装する貫通穴と半田処理を行う半田付け部を有し、前記リード部品の一部の半田付け部に追加半田を行う工程を有し、前記追加半田を行う前記リード部品の前記半田付け部近傍に、追加半田の工程の番号または線をシルク表示し、追加半田を行う。 - 特許庁

A dummy interconnect line 13 and non-dummy interconnect lines 12a and 12b are then formed simultaneously on the first interlayer insulating film 10 and a second interlayer insulating film 11 is formed on the first interlayer insulating film 10 by plasma process.例文帳に追加

次に、第１層間絶縁膜１０に、ダミー配線１３と、非ダミー配線１２ａ及び１２ｂとを同時に形成し、更に、第１層間絶縁膜１０の上に、プラズマプロセスによって、第２層間絶縁膜１１を形成する。 - 特許庁

A 'corner'-based modeling system is used to assist in evaluating possible placements of packages accumulated on a line conveyor, and a placement evaluation process is used to select a 'best' package placement based on heuristic analysis.例文帳に追加

“コーナ”準拠のモデリング・システムを利用してライン・コンベヤ上に集積された梱包製品の可能な配置の評価が補助され、配置評価プロセスを利用して、発見的解析に依存した“最良”の梱包製品の配置を選択する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment system capable of detecting an abnormality of the chip on a substrate in a stage before the inspection process of the substrate is performed in-line by measuring the temperature or temperature distribution of the substrate accompanied by operation or the chip on the substrate during treatment.例文帳に追加

動作を伴う基板や処理中の基板上のチップの温度または温度分布をインラインで計測して、基板の検査工程を行う前の段階で基板上のチップの異常を検出できる基板処理システムを提供する。 - 特許庁

In the soldering process, the semiconductor devices 12 are each arranged through a soldering sheet 33 on a junction provided on the circuit board 11, and a weight 35 is placed so as to stride over at least three semiconductor devices 12 which are not arranged on a straight line.例文帳に追加

半田付け工程として、回路基板１１上に設けられた接合部上に半田シート３３を介して各半導体素子１２を配置するとともに、一直線上に無い少なくとも３個の半導体素子１２に跨った状態で錘３５を載置する。 - 特許庁

The slimming processing method for a resist pattern for performing slimming processing for a resist pattern formed on a substrate comprises a slimming processing process by applying a reacting substance for solubilizing a resist pattern onto the resist pattern, carrying out heat treatment under predetermined heat treatment conditions and executing development processing for resist pattern slimming processing; and a first line width measuring process for measuring the line width of the resist pattern before the slimming processing process.例文帳に追加

基板上に形成したレジストパターンをスリミング処理するレジストパターンのスリミング処理方法において、レジストパターン上にレジストパターンを可溶化する反応物質を塗布し、次に予め決定された熱処理条件で熱処理し、次に現像処理することによって、レジストパターンにスリミング処理を行うスリミング処理工程と、スリミング処理工程前にレジストパターンの線幅を測定する第１の線幅測定工程とを含む。 - 特許庁

In the vehicle assembly line assembling parts in order on a vehicle body after a painting process to complete the vehicle through a inspection, a parallel assembly line assembling parts on the vehicle body from a vehicle body bottom part and assembling parts on the vehicle body from a vehicle body upper part in parallel is included.例文帳に追加

本発明は塗装工程を終えた車体に、部品を順次車体に組付け、検査を経て完成車にする車両の組立ラインにおいて、車体底部から前記車体への部品の組付けと車体上部から前記車体への部品の組付けとを並行して行う並行組付ラインを有することを特徴とする車両の組立ラインを提供する。 - 特許庁

A laser printer 1 is so constituted that a pinch roller 32 which is provided on the side of a main body casing 10 and operates at a position (shown by a dotted line) where it disturbs loading and unloading of the process cartridge 40 can be moved to a position (shown by a solid line) where it disturbs neither the loading nor unloading.例文帳に追加

レーザプリンタ１は、本体ケーシング１０側に設けられプロセスカートリッジ４０の着脱の妨げとなる位置（点線で示す位置）で作用するピンチローラ３２を、その着脱の妨げとならない位置（実線で示す位置）へ移動できるように構成されている。 - 特許庁

More specifically, the dual damascene process depends on a PVD-Ti/CVD-TiN barrier layer and forms an aluminum line showing great reduction in a saturation resistance level, the inhibition of the electro migration, or both of them especially in a line longer than 100 micrometers.例文帳に追加

具体的には、本デュアル・ダマシン・プロセスはＰＶＤ−Ｔｉ／ＣＶＤ−ＴｉＮ障壁層に依存して、特に１００マイクロメートルより長い線において飽和抵抗レベルの大幅な低下またはエレクトロマイグレーションの抑止あるいはその両方を示すアルミニウム線を形成する。 - 特許庁

The part 71 is positioned by the part 71 and the two parts 74 abutting on the outer peripheral surface of the part 71, so that play caused by process common difference can be minimized in comparison with the conventional fitting structure of a recessed line part and a projected line part.例文帳に追加

円筒部７１と、この円筒部７１の外周面に当接する２つの位置決め突部７４とによって円筒部７１を位置決めできるから、従来の凹条部と凸条部との嵌合構造に比べ、加工公差によるがたつきを最小限にすることができる。 - 特許庁

A production line evaluation means 4 calculates a Q-Time upper limit based on the preconditions 3 and evaluates the production line by means of the ratio of the Q-Time upper limit to average processing time Ep per lot (i.e., upper limit WL for the number of work-in-process lots).例文帳に追加

生産ライン評価手段４は、前提条件３ａに基づきQ-Time上限値を求めるとともに、Q-Time上限値と１ロットあたりの平均処理時間Ｅｐとの比（すなわち仕掛ロット数上限値ＷＬ）を用いて生産ラインの評価を行っている。 - 特許庁

To provide an image recording system, an image recording method, a conversion apparatus and a conversion method by which a printed wiring pattern with a desired line width can be drawn on a substrate in an exposure apparatus without carrying out an electron variable magnification process on raster data rasterized with predetermined resolution, that is, without carrying out an electron variable magnification process on digital data.例文帳に追加

所定の解像度でラスタライズされたラスターデータに電子変倍処理、つまり、デジタルデータに電子変倍処理を実施することなく、露光装置において、基板上に所望の線幅を有するプリント配線パターンを描画することができる画像記録システム、画像記録方法、変換装置および変換方法を提供することにある。 - 特許庁

By this, control of a work-in-process in the work treatment device S at the time of stop of a continuously flowing production line or a defective product can be made easily, and wasteful work such as applying a further treatment on the defective product at a subsequent process can be saved.例文帳に追加

これによって、連続して流れるラインが止まった際の該ワーク処理装置Ｓでの仕掛り品や不良品の管理を容易に行うことができるとともに、不良品に後工程でさらに処理を行ってしまうような無駄を省くこともできる。 - 特許庁

To provide an extrusion machine capable of obtaining a product shape having not only definite curvature but also continuously changing curvature in an extrusion process without performing bending processing in a post-process and capable of arranging forming equipments on a straight line.例文帳に追加

一定の曲率のみならず曲率が連続的に変化する製品形状を、後工程で曲げ加工することなく押出成形工程内で得ることができるとともに、成形設備を直線上に配置することができる押出成形装置を提供する。 - 特許庁

Then, in the restraining process and the second cooling process, the bearing ring 10 is restrained in a ridge line part 14 so that the bearing ring 10 is not in contact with the restraining member 30 on the outer peripheral surface 11 of the bearing ring 10 and the end face 12.例文帳に追加

そして、拘束工程および第２冷却工程では、軸受軌道輪１０の外周面１１および端面１２において、軸受軌道輪１０と拘束部材３０とが接触することなく、稜線部１４において、軸受軌道輪１０が拘束される。 - 特許庁

Namely, the analysis part 11 performs a process for putting pieces of attribute information on respective retrieval object words together into one line by using a repetition pattern since the format of attribute information on a retrieval object appears repeatedly in the retrieval result at a one-object one-line constitution part.例文帳に追加

すなわち、検索結果解析部11では、入力された検索結果が一対象一行化部において、検索対象に関する属性情報の書式は検索結果の中で繰り返し出現するので、この繰り返しパタンを用いて、各検索対象語との属性情報を一行にまとめる処理を行う。 - 特許庁

In the initial registration process above, authentication data (Device ID, R1: 22) and (login, mdp: 23) are exchanged in on-line or off-line, then an encrypted channel is set up at the start of each session after the mutual authentication including an encryption function and an encryption key Kses 33 is calculated without transmitting a secret element on a network after that.例文帳に追加

前記初期登録プロセスでは、オンライン又はオフラインで、認証データ（ＤｅｖｉｃｅＩＤ，Ｒ１；ｌｏｇｉｎ，ｍｄｐ）の交換が行われ、次いで暗号化チャネルが、暗号関数を含む相互認証の後の各セッションの初めにセットアップされ、さらにその後、ネットワーク上で秘密要素を送信することなく暗号キーＫｓｅｓが計算される。 - 特許庁

In the second dividing process, the second substrate base material 32 is divided by applying laser beams while a reflection membrane 14 for reflecting laser beams is arranged between the first substrate base material 31 and the second substrate base material 32 to let it overlap on the second dividing line when viewed in the direction of slope line on a surface of the second substrate base material 32.例文帳に追加

第２分断工程では、レーザー光を反射する反射膜１４を、第２基板母材３２の表面の法線方向から見て第２分断ラインに重なるように、第１基板母材３１と第２基板母材３２との間に配置した状態で、第２基板母材３２をレーザー分断する。 - 特許庁

To provide a moisture value estimating method of coal capable of quickly and easily estimating a moisture value of the coal by measurement of a near infrared radiation spectrum and use of a regression model, capable of peforming on-line monitor and an on-line analysis for a process control and capable of making an easy and quick analysis usable at a mining site.例文帳に追加

近赤外分光スペクトルの測定と、回帰モデルの利用により、石炭の水分値を迅速・簡便に推定することができ、プロセスコントロール用のオンラインモニターや、オンライン分析が可能で、しかも採掘現場で使用可能な簡易で迅速な分析を行うことができる石炭の水分値推定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new automatic inspection device and a new automatic inspection method for measuring and evaluating automatically eccentricity in a contractedly formed part of a glass tube end part, and for allowing on-line product inspection in a production process.例文帳に追加

ガラス管端部の絞り成形部の偏心を自動計測し、評価することができ、製造工程でオンライン製品検査が可能な新しい自動検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

Relating to this process cartridge, the electrophotographic image forming device main body is provided with first and second positioning part 14a(13a) for positioning on the line same as the shaft of the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

プロセスカートリッジＢは電子写真画像形成装置本体Ａ１に電子写真感光体１と同一軸線上で位置決めするための第１及び第２の位置決め部１４ａ（１３ａ）を有する。 - 特許庁

When the cover section 1 is mounted on the manhole D2 to drive the blower 2, the gas in a pipe line is exhausted, a sound is absorbed by the sound absorbing material 5 in this process and, at the same time, an odor is absorbed by the deodorizing material 6.例文帳に追加

蓋部１をマンホールＤ２に取り付けて送風機２を駆動すると管路内のガスが排気され、この過程で音が吸音材５に吸収されると共に臭いが脱臭材６に吸収される。 - 特許庁

A scorotron type electrifier 21 is located on the side opposite to an LED array head 141 in a vertical direction toward a linear line L2 which is passed through an emission part 143 and extends along the removal direction of a process cartridge 8.例文帳に追加

スコロトロン型帯電器２１は、出射部１４３を通りプロセスカートリッジ８の着脱方向に沿う直線Ｌ２に対し、上下方向において、ＬＥＤアレイヘッド１４１とは反対側に位置している。 - 特許庁

In the resin application process of the flip-flop mounting of the semiconductor chip, an adhesive resin 15 is applied to a semiconductor chip mounting part on a wiring board 4 in a cross-line shape or a plurality-of- points shape.例文帳に追加

半導体チップのフリップチップ実装における樹脂塗布工程において、配線基板４の半導体チップ搭載部分に接着樹脂１５を交差線状、または複数点状に塗布する。 - 特許庁

At the above process, the chemical added in the softened water reacts on the feed water line 12, the stem boiler 31, and the condensate piping 7 to suppress corrosion thereof and the occurrence of scales.例文帳に追加

軟水中に添加された薬剤は、以上の過程において給水路１２、蒸気ボイラ３ａ等および復水配管７に作用し、これらの腐食を抑制すると共にスケールの発生を抑制する。 - 特許庁

Next, an ITO film in an amorphous state at normal temperatures is stacked on the gate insulating film and a data line and a drain electrode are formed by patterning in a wet etching process that utilizes a photosensitive film pattern.例文帳に追加

次に、ゲート絶縁膜上に常温で非晶質状態のＩＴＯ膜を積層して感光膜パターンを利用した湿式エッチング工程でパターニングして、データ線及びドレイン電極を形成する。 - 特許庁

The superposition pattern includes a plurality of pattern elements equally distributed on a first circle and a second circle different in size to be used as a support for providing a suture line in the process of implanting a cornea.例文帳に追加

前記重畳パターンは、角膜移植中に縫合線を設けるためのサポートとするために、大きさの異なる第１円及び第２円上に同等に分布する複数のパターン要素を含んでいる。 - 特許庁

To provide a thin plate on which electrodes having a stable line width are formed, and to provide a device and a method for alignment capable of performing accurate alignment in the manufacturing process of the thin plate.例文帳に追加

安定した線幅の電極が形成された薄板、および該薄板の製造工程において正確な位置合わせを行なうことができる位置合わせ装置および位置合わせ方法を提供する。 - 特許庁

Resist patterns (monitor patterns 13a-13d) for measuring line widths are formed on a substrate having a STI surface 11 and an active area surface 12 in the same process as that for forming resist patterns for a mask.例文帳に追加

ＳＴＩ表面１１と活性領域表面１２とを有する基板上に、マスク用のレジストパターンの形成と同一工程で、線幅測定用のレジストパターン（モニタパターン１３ａ〜１３ｄ）を形成する。 - 特許庁

A scribe line 4s, comprising a protruding pattern 4 surrounding a chip region 1a on a substrate 1, is formed in the same process in which active regions 4a comprising the protruding patterns 4 are formed.例文帳に追加

基板１上のチップ領域１ａに凸パターン４からなるアクティブ領域４ａを形成すると同一工程で、チップ領域１ａを囲む凸パターン４からなるスクライブライン４ｓを形成する。 - 特許庁

Subsequently, through the laser process using the laser beam irradiation, the opening area is formed continuously on the upper insulating layer 15 and overcoat film 12 area corresponding to a connection pad for the interconnect line 11.例文帳に追加

この後、レーザビームを照射するレーザ加工により、配線１１の接続パッド部に対応する部分における上層絶縁膜１５およびオーバーコート膜１２に開口部を連続して形成する。 - 特許庁

Initial stage of a process for exposing a specified mask pattern such that a plurality of integrated circuit chip regions 12 are formed on a semiconductor wafer WF while being spaced apart by a scribe line region 13 is shown.例文帳に追加

半導体ウェハＷＦ上に複数の集積回路チップ領域１２がスクライブライン領域１３を隔てて形成されるよう所定のマスクパターンを露光するプロセスの初期段階を示している。 - 特許庁

To provide a nonvolatile semiconductor storage device such that while a heat process associated with a nickel silicide film formed on a word line is reduced, the resistance of a contact plug portion is reduced, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

ワードラインに形成したニッケルシリサイド膜にかかる熱工程を低減しつつ、コンタクトプラグ部分の抵抗も同時に低減する不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

On the side of a mask-manufacturing line L1, a name for specifying the mask and the progress date and time data of the mask-manufacturing process are turned to items and a mask data base is constructed inside a mask manufacture progress management work station WS1.例文帳に追加

マスク製造ラインＬ_1側では、マスクを特定する名称およびマスク製造工程の進捗日時データを項目として、マスク製造進捗管理ワークステーションＷＳ_1内にマスクデータベースを構築する。 - 特許庁

To create data for one compressed image, the radiation imaging apparatus creates difference data in the direction of the signal line for each image data making up the data for the one image, and performs a compression process on the difference data.例文帳に追加

また、圧縮１画像分データを作成する場合、１画像分データを構成する各画像データについて信号線方向の差分データを作成し、当該差分データに対して圧縮処理を行う。 - 特許庁

The upper engraving fixture takes out, in its moving process, the cylindrical surface of the metallic article placed in the recessed part of the upper surface of the lower engraving fixture, to the upper surface of the lower engraving fixture, and thus a line drawing and a letter are engraved on the cylindrical surface.例文帳に追加

上側刻印治具が移動過程で下側刻印治具の上面の凹部に置かれる金属品の円筒面を下側刻印治具の上面へ連れ出してローレットと線図と文字を刻設する。 - 特許庁