「On Line Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain an element analyzer capable of detecting many kinds of elements on-line for a real time regardless of a solid, liquid or gaseous sample form without requiring a complicated pretreatment process to determine them.例文帳に追加

固体、液体、気体などの試料形態を問わず、また、複雑な前処理工程を必要とせず、多種類の元素をオンラインで、かつリアルタイムにて検出し、定量すること。 - 特許庁

The operation time storage part 21 stores operation time required for each of operations obtained by dividing a series of wire harness manufacturing process based on an assembly line into a plurality of operations.例文帳に追加

作業時間記憶部２１は、流れ作業による一連のワイヤハーネスの製造工程を複数に分割したそれぞれの作業に要する作業時間を記憶する。 - 特許庁

To take into consideration the operating hours of a particular process on a production line, where production is carried out as products with a plurality of specifications coexist, and to manage the production start time of the product with the specifications to be put into a specified process, so that the product reaches the process within the operating times thereof.例文帳に追加

複数の仕様の製品を混在させて生産する生産ライン上の特定の工程の稼働時間を考慮し、その工程に投入すべき仕様の製品が稼働時間内にその工程に到着するように予めその仕様の製品の生産開始時刻を管理する。 - 特許庁

This game machine manufacturing line is provided with a conveyer line 10 conveying the conveyance objects 50 to be finished as a game machine, first and second retreat lines 12 and 14 allowing the conveyance objects 50 conveyed on the conveyer line 10 to temporarily retreat and a conveyer line 16 provided in the downstream side of the conveyer line 10 and conveying the conveyance objects 50 toward a shipping process.例文帳に追加

遊技機として完成されるべき搬送対象品５０を搬送する搬送ライン１０と、搬送ライン１０で搬送されてきた搬送対象品５０を一時的に退避させ得る第１および第２退避ライン１２,１４と、搬送ライン１０の下流側に設けられ、搬送対象品５０を出荷工程へ向けて搬送する搬出ライン１６とを設ける。 - 特許庁

At the mastering process 1, two key reading flags are recorded on a straight line passing a rotational center of the optical disk, and at the key information detecting process 2, each information in the preset track range is taken out among informations of each track positioned on the straight line connecting these flags and detected as reproduction permitting intrinsic information to the optical disk.例文帳に追加

マスタリング工程１では光ディスクの回転中心を通る直線上に、２つのキー読み取りフラグを記録し、キー情報の検出工程２では、これらのフラグを結んだ直線上の位置にある各トラックの情報のうち、予め設定したトラック範囲の各情報を取り出して、光ディスクの固有の再生許可情報として検出する。 - 特許庁

To provide a method of cooling a paper container with a plug for liquid in a filling line wherein no cooling water enters between a spout and a cap of the plug and remains there in a cooling process after box-making, hot-filling and sealing on the filling line.例文帳に追加

充填ラインの製箱・ホット充填・密封後の冷却工程で、冷却水が口栓のスパウトとキャップとの間に浸水して残ることがない充填ラインにおける口栓付液体用紙容器の冷却方法を提供する。 - 特許庁

The method and the system are achieved in such a way that, in the mass production line of the semiconductor production process, the foreign-body inspection apparatus is miniaturized and that the foreign-body inspection apparatus is placed on a conveyance system between the input port and the output port of a treatment device in a semiconductor production line or between treatment devices.例文帳に追加

半導体製造工程の量産ラインにおいて、異物検査装置を小型にし、半導体製造ラインの処理装置の入出力口あるいは処理装置間の搬送系に載置することにより達成される。 - 特許庁

A light- shielding film is not formed under the TFTs, which constitute data line driving circuits, scanning line drive circuits or the like which are formed in a peripheral region on the TFT array substrate 10 and formed by the same production process with the TFTs 30.例文帳に追加

このＴＦＴと同一製造プロセスでＴＦＴアレイ基板上の周辺領域に形成されるデータ線駆動回路、走査線駆動回路等を構成するＴＦＴについては、その下側に遮光膜を設けない。 - 特許庁

Thereafter, a production line (device) is selected based on the formed schedule, and management of product lots or arrangement of transport is performed so that each processing process for manufacturing the product is executed in each selected production line (device).例文帳に追加

その後、作成したスケジュールに基づいて製造ライン（装置）を選択し、製品を製造する各処理工程が、それぞれ選択された製造ライン（装置）で実施されるように、製品ロットを管理したり、輸送手配をしたりする。 - 特許庁

A TFT constituting a data line driving circuit, a scanning line driving circuit or the like is formed in the peripheral area on the TFT array substrate in the same manufacturing process as the TFT, however, no light-shielding film is formed below the TFT in the peripheral area.例文帳に追加

このＴＦＴと同一製造プロセスでＴＦＴアレイ基板上の周辺領域に形成されるデータ線駆動回路、走査線駆動回路等を構成するＴＦＴについては、その下側に遮光膜を設けない。 - 特許庁

In the process of producing a dummy pattern on a scribe line, the scribe line is divided for every chip, and the dummy pattern is produced at a specified gap from the center point of the chip as the reference point of production in the dummy producing region assigned to each chip.例文帳に追加

スクライブライン上にダミーパターンを発生するにあたり、スクライブラインをチップ毎に分割し、チップ毎に割り当てられたダミー発生領域に、チップの中心点を発生基準点として規定ギャップ値をもってダミーパターンを発生させる。 - 特許庁

To provide a beveling method that can prevent chipping arising on or near the crossed line of the rear and side of a GaP wafer in a beveling process and reduces GaP wafer cracks in the beveling process and the subsequent.例文帳に追加

ベベリング工程で、ＧａＰウェーハの裏面と側面との交線の上に、あるいはその近辺に発生するチッピングが防止でき、従って、ベベリング工程以後の工程におけるＧａＰウェーハの割れを低減できるベベリング方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the sensor device, the following processes are performed, namely a first process for forming signal lines 33-35 on a flexible board 31 and a second process for film-forming a sensor material for forming a sensor element 32 to the flexible board where a signal line is formed.例文帳に追加

フレキシブル基板（３１）上に信号線（３３〜３５）を形成する第１工程と、信号線が形成されたフレキシブル基板に対して、センサ素子（３２）を形成するためのセンサ材料を成膜する第２工程と、を行う。 - 特許庁

Such devices, also referred to as process diagnostic vehicles (PDVs), are configured for in-line monitoring of electrical characteristics of PV cell feature parts and are formed on the substrate using the same process steps for PV cell fabrication.例文帳に追加

このような装置は、プロセス診断ビヒクル（ＰＤＶ）とも称されるが、ＰＶセル特徴部の電気的特性をインライン監視するように構成され、ＰＶセル製造のための同じプロセスステップを使用して基板上に形成される。 - 特許庁

To provide a push button mounting structure that can prevent floating and slip of a push button with simple structure and can reduce labor cost based on the elimination of a working process in a line due to exclusion of a welding process.例文帳に追加

簡単な構造で押しボタンの浮きと外れを防ぐことができ、溶着する工程を省くことができてラインにおいて一つの作業工程を減らすことができ、人件費を削減することができる押しボタン取付構造を提供する。 - 特許庁

To raise the accuracy of observation and the process of a profile line by preventing the charging of a test piece at the observation and process of the test piece by a charged particle beam device and effectively utilize a processing gas to be blown on the test piece at processing.例文帳に追加

荷電粒子ビーム装置による試料の観察や加工の際に、試料の帯電を防いで輪郭線の観察や加工の精度を上げるとともに、加工時には試料に吹き付ける加工用ガスを有効に活用する。 - 特許庁

After that, the part of the interlayer film 6 on the scribe line 4s is selectively removed, so as to have the interlayer film 6 on the scribe line 4s removed or left with a thickness of not thicker than 5 nm when the interlayer film 6 on the protruding patterns 4 in the chip region 1a is removed by polishing in the next process.例文帳に追加

その後、次に行われる研磨によってチップ領域１ａ内の凸パターン４上における層間膜６が除去された時点で、スクライブライン４ｓ上の層間膜６が除去されるかまたは５ｎｍ以下の膜厚で残るように、スクライブライン４ｓ上の層間膜６の一部を選択的に除去する。 - 特許庁

To improve products in manufacturing yield by reducing influence of irregularities in a line width of a pattern formed on a reticle so as to form the pattern having a uniform line width on a wafer, in a process of forming a prescribed pattern by transferring a pattern formed on the reticle onto the wafer by the use of photography.例文帳に追加

レチクルに形成されたパターンを写真技術を利用してウェハ上に転写することにより所定のパターンを形成するプロセスにおいて、レチクルに形成されたパターンの線幅のばらつきによる影響を低減することにより、ウェハ上に均一の線幅を有するパターンを形成して製品の歩留まり向上を図る。 - 特許庁

The blood component-collecting apparatus 1 detects a ratio of the plasma in the blood component which flows in a first line 21 (a first line 21a on the side of a blood collecting needle) on the side of the blood collecting needle 29 beyond a branch connector 21f and is returned to a donor by a turbidity sensor 19 in a blood return process.例文帳に追加

血液成分採取装置１は、返血工程において、濁度センサ１９により、分岐コネクター２１ｆより採血針２９側の第１のライン２１（採血針側第１ライン２１ａ）中を流れ、ドナーに返血される血液成分中の血漿の占める割合を検出する。 - 特許庁

The stop process indication 902a accompanies with a PUSH index 904 showing timing to push when the 3rd stop indication figure b608 comes on a temper line and STOP index 903 which shows the 3rd stop figure 7 of stopped signal 607 on the temper line.例文帳に追加

停止過程表示９０２ａには、第３停止指示図柄ｂ６０８がテンパイライン上に来た時が目押しタイミングであること示すＰＵＳＨインデックス９０４と、テンパイライン上に停止した符号６０７の第３停止図柄７を示すＳＴＯＰインデックス９０３とが附随する。 - 特許庁

Based on a measured result or an estimated result of work hours at each workplace for each type of work to a plurality of kinds of works, processes at workplaces of a plurality of kinds of works are set at each work process on the assembly line by a work process setting section 6.例文帳に追加

複数種のワークに対してワークの種別毎の各作業部位における作業時間を測定した結果または見積もった結果に基づいて、複数種のワークの作業部位の処理を流れ作業の各作業工程に作業工程設定部６により設定する。 - 特許庁

The process #101a of forming the plasma CVD film on a semiconductor substrate and the process #101b of discharging air to a main discharge line in which a turbo pump used at the time is interposed and low-press cleaning the inside of a reaction chamber are successively repeated and the CVD film is formed on the predetermined plurality of the semiconductor substrates.例文帳に追加

半導体基板にプラズマＣＶＤ膜を形成する工程＃101ａと、その際に使用したターボポンプを介装したメイン排気ラインに排気して反応室内を低圧クリーニングする工程＃101ｂとを順次に繰り返して、予め決めた複数枚の半導体基板にＣＶＤ膜を形成する。 - 特許庁

Contamination evaluation is executed to the semiconductor substrate on the way of manufacturing in the manufacturing line of the semiconductor device, and if the substrate current value does not satisfy a condition specified by a proceeding step working process, an optimum cleaning process purposing the removal of the adsorbed substances on the substrate surface is applied.例文帳に追加

また、半導体装置の製造ラインにおいて製造途中の半導体基板に対して汚染評価を実施し、基板電流値が後段階作業工程の定める条件を満たさない場合は基板表面吸着物質の除去を目的とする最適な洗浄工程を実施する。 - 特許庁

In a processing process before a plurality of paper stocks are processed and supplied to a seed box 6, the amount of a cationic coagulant added in the slurry of the paper stocks in the processing process is automatically controlled on the basis of cation demand measurement values by on-line cation demand measuring devices 20A and 30A.例文帳に追加

複数の紙料を調成し種箱６に供給する前の調成工程において、前記紙料のスラリーをオンラインのカチオンデマンド測定装置２０Ａ，３０Ａによるカチオンデマンド測定値に基づき、前記調成工程におけるカチオン凝結剤の添加量を自動制御する。 - 特許庁

An electrode does not remain on the same potential line 40 after cutting a board even when the same potential line 40 and the electrode are formed to be partly overlaid in a region 41 including a cut line 50 of a TFD array side mother board 100, since it has a process for removing a conductive layer around the same potential line 40, namely the electrode.例文帳に追加

同電位ライン４０の周りの導電層、すなわち電極を除去する工程を有することとしたので、ＴＦＤアレイ側マザー基板１００の切断線５０を含んだ領域４１で同電位ライン４０と電極とが一部重なって形成される場合でも、電極が基板切断後の同電位ライン４０上に残ることは無い。 - 特許庁

To provide a technology for realizing a line pacemaker system capable of preparing a flexible process plan corresponding to variable amount production of various kinds and quickly generating progress data and a controlling method for the system in respect to a line pacemaker system for showing the results of a production plan on a production line and managing the progress of the production line.例文帳に追加

生産ラインにおける生産計画に対してその実績を示し、当該生産ラインの進捗を管理するラインペースメーカシステムにおいて、多種変量生産に対応して柔軟な工程計画を作成して迅速な進捗データの生成を行なうラインペースメーカシステムおよびその制御方法を実現する技術を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the pneumatic tire comprises the vulcanization process of vulcanizing a raw cover and molding the pneumatic tire and the color line painting process wherein the color line for knowing apart the tires is formed, on the tread face 2 of the vulcanized pneumatic tire 1, by applying a color paint in the tire circumferential direction using a spray gun.例文帳に追加

生カバーを加硫して空気入りタイヤを成型する加硫工程と、前記加硫済みの空気入りタイヤ１のトレッド面２に、有色の塗料をスプレーガンを用いてタイヤ周方向に塗布することによりタイヤ識別用のカラーラインを形成するカラーライン塗装工程とを含むことを特徴とする空気入りタイヤの製造方法である。 - 特許庁

The inspection method for ejection of an inkjet device comprising an ink head with a plurality of ejection nozzles includes: a process of continuously ejecting ink from respective ejection nozzles of the ink head to form a parallel line pattern while moving the ink head in the conveyance direction on an image reception base material; and a process of determining defective ejection from line width and pattern interval of the line pattern.例文帳に追加

複数の吐出ノズルを有するインクヘッドからなるインクジェット装置の吐出検査方法であって、検査用受像基材上に、インクヘッドを搬送方向に移動させながら、前記インクヘッドの各吐出ノズルからインクを連続吐出し、平行なラインパターンを形成する工程と、ラインパターンの線幅及びパターン間隔から吐出の良不良を判断する工程と、を有する吐出検査方法。 - 特許庁

Discontinuous parts in the image are extracted as the discontinuous information and parts formed by linking the discontinuous parts are extracted as a contour of the object image from the fact that the line process is turned on or off, depending on local density difference.例文帳に追加

ラインプロセスが局所的な濃度差によってオンまたはオフすることにより画像中の不連続部分が不連続情報、この不連続部分を連結させたものが物体画像の輪郭として抽出できる。 - 特許庁

MPC controller algorithm is created by use of a process model to generate an MPC control model, and is downloaded to the MPC controller on the basis of the new control model while the MPC controller operates on-line.例文帳に追加

ＭＰＣ制御モデルを生成するためにプロセスモデルを使用し、ＭＰＣコントローラアルゴリズムを作成し、該ＭＰＣコントローラがオンラインで動作している間に該新しい制御モデルに基づいてＭＰＣコントローラにダウンロードする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of reducing loads on work at the time of transferring a process newly developed on a development line to a plant, and to provide a semiconductor processing device.例文帳に追加

開発ラインで新規に開発されたプロセスを工場に移管する際の作業上の負荷を低減させることが可能な半導体デバイスの製造方法および半導体プロセス処理装置を提供すること。 - 特許庁

A master signal for controlling each motor of the shaftless drive part is calculated based on a correction signal obtained by adding a required correction value to a reference velocity set by performing a smoothing process of a detection signal on the line shaft side.例文帳に追加

シャフトレス駆動部分の各モータを制御するマスタ信号を、ラインシャフト側の検出信号をスムージング処理して設定した基準速度に、所要の補正量を加算して得られる補正信号に基づいて算出する。 - 特許庁

To facilitate a setting operation in a displacement sensor when conducting a measuring process based on a feature point or a plurality of local areas on a distribution of height with respect to a direction along a line beam obtained by a photographing operation.例文帳に追加

変位センサにおいて、撮像して得られたラインビームに沿う方向に対する高さの分布上の複数の局所領域または特徴点に基づく計測処理を実行する際の設定作業を簡易化する。 - 特許庁

If the core of the blank appears on the surface layer of a raceway groove 21A in the forging process, on the surface layer of the raceway groove 21A, a number of extremely bent fiber flows T are observed to line up in rows with directionality.例文帳に追加

鍛造工程で素材の芯部が軌道溝２１Ａの表層部に出現すると、軌道溝２１Ａの表層部は、多数の鍛流線Ｔが極端に折れ曲がって方向性を持って並んだ状態になる。 - 特許庁

A fluctuation amount of base line of a mark detecting system is estimated with an interrupting process on the basis of the information about irradiation of the lighting beam radiated to a reticle on which a pattern is formed and the predetermined model formula.例文帳に追加

パターンが形成されたレチクルに対して照射される照明光の照射に関する情報と、所定のモデル式とに基づいて、割り込み処理によりマーク検出系のベースラインの変動量を推定する。 - 特許庁

For aligning a rotary blade position with the center of the dicing region 60, i.e., a center line 61 in the cutting process, a recognition camera detects positions of the alignment marks 51a, 51b, the center line 61 is obtained based on the detection result, and the cutting is made by aligning the position of the rotary blade on the center line 61.例文帳に追加

そして、切削工程において、ダイシング領域６０の中心、即ちセンターライン６１に回転ブレードの位置を合わせる際、アラインメントマーク５１ａ，５１ｂの位置を認識カメラにより検出し、その検出結果に基づいてセンターライン６１を求め、当該センターライン６１上に回転ブレードの位置を合わせて切削を行うものである。 - 特許庁

The effect on product production is avoided when a communication failure occurs by making a working machine arranged for each process read information and making a production line fluidize on the basis of a barcode printed on the work instruction label 1.例文帳に追加

そして、この作業指示ラベル１に印刷されたバーコードに基づき、工程毎に配置された加工機械に情報を読み取らせ生産ラインを流動させることにより、通信障害が発生した場合の製品の生産に対する影響を回避する。 - 特許庁

To provide an oil supply type screw compressor capable of suppressing a temperature rise of the suction air which occurs when a high temperature oil mist from a seal line generated on the radial suction system is mixed with the air in the suction process.例文帳に追加

ラジアル吸込み方式で生じるシールラインからの高温のオイルミストが吸気工程中の空気と混合して、吸入空気が温度上昇するのを抑制する。 - 特許庁

To develop a method for effectively preventing the generation of hydrogen sulfide, e.g., from waste water based on microorganisms, e.g., in a waste water treatment process for a sewer line and a sewage treatment plant.例文帳に追加

下水管路や下水処理場などの排水処理工程などにおいて、微生物に基づく排水中などからの硫化水素の発生を効果的に防止する方法を開発すること。 - 特許庁

On a substrate provided with a capacitor lower part interlayer insulation film 1 and a plug 3, a line pattern by an electrode forming material 6 which reaches the plug 3 is formed by using a damascene process.例文帳に追加

まずキャパシタ下部層間絶縁膜１およびプラグ３を備える基板上に、ダマシンプロセスを用いてプラグ３まで達する電極形成材料６によるラインパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a map display device and method, capable of shortening the time necessary for the process of displaying the road name of a two-line road on a map image.例文帳に追加

二条線道路の道路名称を地図画像に表示する処理にかかる時間を短くできるようにすることが可能な「地図表示装置および地図表示方法」を提供する。 - 特許庁

To extract a component of spatial frequency which particularly needs evaluation in formation of a device or in analysis of a material or process of edge roughness on a micro line pattern, and express it by an index.例文帳に追加

微細ラインパターン上のエッジラフネスのうち、デバイスの作成上あるいは材料やプロセスの解析上特に評価が必要となる空間周波数の成分を抽出し、指標で表す。 - 特許庁

To sufficiently assure lithography process tolerance, such as exposure tolerance and depth of focus, while reducing the line width difference by the pattern density of resist patterns without exerting load on manufacturing a mask.例文帳に追加

マスクの製造に負荷をかけることなく、レジストパターンのパターン密度による線幅差を縮小しつつ、露光裕度および焦点深度などのリソグラフィプロセス裕度を十分に確保する。 - 特許庁

To provide a non-volatile semiconductor memory device that prevents a bit line leak caused by charging on a shielding film generated in a process for manufacturing a semiconductor memory device and is of high reliability.例文帳に追加

半導体記憶装置の製造工程で発生する遮光膜への帯電に起因するビットラインリークを防止し、信頼性の高い不揮発性半導体記憶装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a developing device, process cartridge and image forming apparatus, capable of preventing the occurrence of unevenness in density like vertical lines caused by twill line-like grooves formed on an outer peripheral face of a hollow body.例文帳に追加

中空体の外周面に形成されたアヤメ状の溝によって生じる縦スジ状の濃度ムラを防止できる現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁