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PROFILE LINEの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 343件
A stray light correction apparatus 5 calculates a profile of pixel values of the black region of the image read from the check original 2 corresponding to the original middle part and an average of pixel values of each line in the main scanning direction of the read image.例文帳に追加
迷光補正装置5は、検査用原稿2の読取画像で、原稿中央部の黒領域の画素値の副走査方向に沿ったプロファイルと、その読取画像における主走査方向ラインごとにそのラインの画素値の平均値を計算する。 - 特許庁
It is further preferable for the substrate to be coated with a coating film containing 50 wt.% of aluminum or more and having an oxide film of the coating film surface not thicker than 0.3 μm and to have 0.05-2.0 μm arithmetical mean deviation from mean line of the profile Ra of the substrate surface.例文帳に追加
基板がアルミニウムを50重量%以上含有するめっき皮膜を備え、めっき皮膜表面の酸化膜の厚さが0.30μm以下であり、基板表面の粗さが、中心線平均粗さRaで0.05〜2.0μmであればなおよい。 - 特許庁
To provide a positive resist composition which exhibits good sensitivity, resolution and pattern profile, small line edge roughness and good surface roughness as a composition for pattern formation with an active ray or radiation, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
活性光線又は放射線によるパターン形成用として、感度、解像力、パターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスが小さく、更には、表面ラフネスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The painting information substitution part 114 substitutes storage information stored in a painting information area corresponding to one of the coordinates selected by the processing part 112 by painting information of a content corresponding to the direction range of a vector contacting with the profile line.例文帳に追加
塗り情報置換部114は、点データ読出処理部112が選択した座標のいずれかに対応する塗り情報領域に記憶された記憶情報を、輪郭線に接するベクトルの向きの範囲に対応する内容の塗り情報に置換する。 - 特許庁
To provide a negative resist composition which realizes both of desired high sensitivity and high resolution, which can form a rectangular profile and which decreases changes in the line width during post exposure after irradiation of ionization radiation under reduced pressure.例文帳に追加
所望の高感度及び高解像度の両立を達成することのでき、矩形プロファイルが得られ且つ減圧条件下における電離放射線照射後引き置き時の線幅変化が低減されたネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
The projection distance, in the direction XX' on a tread surface, of the geometrical main line of the cross surface of the whole coupling element of each rubber stud is at least 80% of the profile peripheral length of each rubber stud measured on one and the same tread surface.例文帳に追加
各ゴムスタッドの全連結要素の交差面(10)の幾何学的主要線(11)の、トレッド面上への方向XX′における投影距離は、同一トレッド面上で測定された各ゴムスタッドの輪郭周囲長さの少なくとも80%である。 - 特許庁
A two-dimensional image generating art 14d generates a two-dimensional image showing at least the elevation line, flight predetermined altitude and present altitude position, on the basis of the second composite data, and displays the two-dimensional image as the flight profile on a display device 17.例文帳に追加
2D画像生成部14dは、第2の合成データに基づいて少なくとも標高線、飛行予定高度、及び現在高度位置を示す2次元画像を生成して、この2次元画像を飛行プロファイルとして表示装置17に表示する。 - 特許庁
To provide a transmission line that can be manufactured more inexpensively and with higher accuracy in comparison with an NRD guide of a conventional structure, can attain a low profile, and can realize the transmission characteristic equal to or more than that of the conventional NRD guide.例文帳に追加
従来構造のNRDガイドに比べて安価で高精度に製造でき、さらに薄型化を図ることができ、かつ、従来のNRDガイドと同等以上の伝送特性を実現することができるようにした伝送線路を提供する。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive composition which ensures a good pattern profile and good line edge roughness in normal exposure (dry exposure) and immersion exposure, a pattern forming method using the positive photosensitive composition, and to provide a compound used for the positive photosensitive composition.例文帳に追加
通常露光(ドライ露光)、液浸露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物を提供する。 - 特許庁
The ink jet recording ink composition comprises color pigments and a water-based liquid medium, and the value of TEP(Tangential Edge Profile) of one dot-line on plain paper is controlled below 10 in using the ink composition and water insoluble dyestuffs are used as pigments.例文帳に追加
色材と水性液媒体からなるインクジェット記録用インク組成物において、インク組成物を使用した場合に普通紙上の1ドットラインのTEP(Tangential Edge Profile)値10以下に抑制し、色材として水不溶性顔料を使用する。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive composition free from problems relating to tailing in a pattern profile or line edge roughness so as to solve problems in the techniques to improve the performance of microphotofabrication using far UV rays, in particular, ArF excimer laser light.例文帳に追加
遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ションの性能向上技術における課題を解決することであり、パターン形状の裾引き、ラインエッジラフネスの点で問題のないポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁
Under a state where the light shielding member 9 is aligned with a chip 6 to be picked up, profile and dimensions of the light transmitting portion T are set such that the light transmitting portion T reaches a contour line 6b set on the outside of the outline 6a of the chip.例文帳に追加
透光部Tの形状・寸法を、遮光部材9をピックアップ対象のチップ6に位置合わせした状態において、透光部Tがチップの外形線6aの外側に設定された外郭線6bまで到達するように設定する。 - 特許庁
To provide an information processing apparatus for generating a parts catalog in which line drawing that draws parts is associated with information specifying each part so that information for specifying a designated part can be identified uniquely when the line drawing that draws the part is designated, and to provide a parts catalog generation method, and a parts catalog generation profile.例文帳に追加
パーツを描いた線画を指定した際に指定されたパーツを特定するための情報が一意に識別できるように、パーツを描いた線画と各パーツを特定する情報とが対応付けられたパーツカタログを作成することが可能な情報処理装置、パーツカタログ作成方法、パーツカタログ生成プロファイルを提供することを目的としている。 - 特許庁
At this time, TCP(transformer-coupled plasma)/bias power ratio is larger than 20, and also HBr/HeO2 gas flow ratio is larger than 1.9, and consequently polysilicon: cap SiO2 selectivity becomes larger than 10:1, and a polysilicon line having a substantially vertical profile is formed.例文帳に追加
このとき、TCP/バイアス電力比が20よりも大きく、かつHBr/HeO_2ガス流量比が1.9よりも大きく、その結果、ポリシリコン:キャップSiO_2選択性が10:1よりも大きくなり、実質的に垂直なプロファイルを有するポリシリコン線が形成される。 - 特許庁
To provide a staple-line-reinforcing profile in which features satisfying requirements of one or more different assemblies are simultaneously incorporated, and to provide a single-profiled buttress which can be used on a surgical staple-cartridge assembly and/or a surgical anvil assembly.例文帳に追加
1つ以上の異なるアセンブリの要件を満足する特徴を同時に組み込むステープルライン補強プロファイルを提供すること、および外科用ステープルカートリッジアセンブリおよび/または外科用アンビルカートリッジアセンブリ上で使用され得る単一プロファイルバットレスを提供すること。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good line edge roughness, to provide a pattern forming method using the composition and a resin purifying method used for the composition.例文帳に追加
高感度、高解像性、良好なパターン形状及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足させる、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いられる樹脂の精製方法を提供する。 - 特許庁
Each projection C_1-C_N which is formed on a light guide plate 11 and extends in X axis direction is formed into arc-shape having an identical curvature in the profile of its YZ cross-section and the ridge line of each projection C_1-C_N is formed so as to be located on a common virtual plane.例文帳に追加
導光板11上に形成され、X軸方向に延在する各凸部C_1〜C_Nは、そのYZ断面の輪郭が、同一の曲率を有する円弧であり、各凸部C_1〜C_Nの稜線は、共通の仮想平面上に位置するように形成されている。 - 特許庁
To provide a positive resist composition which can be used suitably in a process using ArF excimer laser light as an exposure light source, which is superior in line edge roughness and free of pattern collapses, will cause no problem regarding development defects, and is superior in a pattern profile and exposure latitude, and to provide a method for forming a pattern that uses the composition.例文帳に追加
ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
This map display device uses a city area map data showing a city area map in which the profile (shape) of a road, building and the like is shown by an aggregation of line segments and a road polygon data in which only the road and intersection parts of the city area map data are polygonized to form a polygon data.例文帳に追加
地図表示装置は、道路や建物等の輪郭(形状)を線分の集合で表した市街地図を表す市街地図データと、その市街地図データの道路及び交差点部分のみをポリゴン化してポリゴンデータにした道路ポリゴンデータとを使用する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition which can be suitably used when ArF excimer laser light is used as an exposure light source, excels in line edge roughness, and causes neither pattern collapse nor problem of development defects, and a pattern forming method using the same, and to further provide a positive resist composition excellent in pattern profile and exposure latitude and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a mold for the vulcanization molding of a tire which molds a vulcanized tire not causing the occurrence of burr or crack even if the parting line position between sectors comes to a groove extending in the cross-sectional direction of a tire profile.例文帳に追加
セクター間の分割線位置がタイヤプロファイル断面方向に伸びる溝に掛かる場合であっても、バリの発生やラック(亀裂)の発生が無い加硫タイヤを成形することが出来るタイヤ加硫成形用金型及びその金型を使用して成形したタイヤを提供する。 - 特許庁
In the flexible wiring board 10 having a characteristic impedance control circuit 20, a planar projection profile of a bent location 20A of the characteristic impedance circuit forms an arc along a tangent line, after the circuit board is bent.例文帳に追加
特性インピーダンス制御回路20を有するフレキシブル配線板10において、前記特性インピーダンス制御回路の折り曲げ個所20Aの、折り曲げ後における平面投影形状が接線に沿うような円弧状をなすことを特徴とするフレキシブル配線板。 - 特許庁
Regarding a modular system 100 forming a line guide apparatus guiding lines 80, a guide chain 20 formed of guide members 1, end-section mounting members 30, 40 and/or a guide hollow profile with a circular or rectangular cross section, are contained.例文帳に追加
ライン80を案内するライン案内装置を形成するモジュラーシステム100に関し、かつ案内部材1から形成される案内チェーン20、端部取付け部材30、40、及び/又は円形又は長方形60の横断面を有する案内中空プロファイルを含む。 - 特許庁
An image forming method includes setting a sub-scanning position information in accordance with a profile of misregistration, and performing image correction processing in two stages: high-resolution correction processing using a line buffer including memories capable of high-speed random access; and low-resolution correction processing using high-capacity memories.例文帳に追加
レジストレーションずれのプロファイルに応じた副走査位置情報を設定し、画像補正処理を、高速ランダムアクセス可能なメモリで構成されたラインバッファを用いた高解像度補正処理と、大容量化が容易なメモリを用いた低解像度補正処理と、の2段階に分けて構成する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition adaptable to a short-wavelength radiation typified by far UV capable of meeting progress of scale down in an integrated circuit device, having high transparency to radiations and excellent in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, pattern profile and line edge roughness of a pattern.例文帳に追加
集積回路素子における微細化の進行に対応しうる遠紫外線に代表される短波長の放射線に適応可能で、放射線に対する透明性が高く、かつ感度、解像度、パターンプロファイル、パターンのラインエッジラフネス等のレジストとしての基本物性に優れる。 - 特許庁
A plurality of target profiles are fitted to the reference profile, thus obtaining a plurality of positions corresponding to the threshold on a plurality of target profiles at each edge of the alignment mark in the target image, and rapidly and precisely acquiring a border line along the positions.例文帳に追加
複数の対象プロファイルは参照プロファイルとフィッティングされることにより、対象画像中のアライメントマークの各エッジにおいて、複数の対象プロファイル上における閾値に対応する複数の位置が求められ、これらの位置に沿う輪郭線が迅速かつ高精度に取得される。 - 特許庁
By using the line profile frequency calculated from the pixel value of a plurality of pixels that are expected to output the same pixel value, the angle of the reference beam adjusting mirror 4 can be easily adjusted to control the incident angle of the reference beam 8 to conform to a set value.例文帳に追加
このように同一の画素値を出力すべき複数の画素の画素値から算出されるラインプロファイル周波数を用いることにより、参照光8の入射角度が設定値に一致するように参照光調整ミラー4の角度調整することが容易となる。 - 特許庁
To provide a pattern forming method excellent in line width variation (LWR), focus latitude (DOF) and pattern profile to more stably form a high-precision fine pattern for producing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a resist composition and a resist film suitable for the method.例文帳に追加
高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、フォーカス余裕度(DOF)及びパターン形状に優れるパターン形成方法、並びにこれに好適なレジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁
Then a personal computer 20 calculates the quantitative evaluated value of the unevenness of metallic painting by performing luminance histogram analysis or line profile analysis on the fetched picture data and discriminating the presence/absence of the occurrence of unevenness in the painting by comparing the evaluated value with a preset reference value.例文帳に追加
そして、パソコン20で、取り込まれた画像データに対して輝度ヒストグラム解析またはラインプロファイル解析を行って、メタリック塗装ムラに関する定量的な評価値を算出した後、この評価値をあらかじめ設定された基準値と比較して塗装ムラの発生の有無を判定する。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition which excels in sensitivity, resolution, adhesion in development, and heat resistance, can be exposed with an i-line and developed with an alkaline aqueous solution, and yields a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and an electronic component.例文帳に追加
感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるると共に、i線で露光が可能で、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition which excels in sensitivity, resolution, adhesion in development, and heat resistance, can be exposed with an i-line and developed with an alkaline aqueous solution, and yields a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and an electronic component.例文帳に追加
感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られると共に、i線で露光が可能で、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁
The height of each protruding piece part 14, when seen along a cross section in parallel with each protruding piece part 14 of each group 16, is set up not to protrude in the outside diameter direction from the extension line of the profile of the outer surface 12a of the main body 12 in which no protruding piece part 14 is formed.例文帳に追加
各群16の各突状片部14に平行な断面に沿って見て、各突状片部14の高さを、突状片部14が形成されていないグリップ本体12の外表面12aの輪郭の延長線から外径方向に突出しないように設定する。 - 特許庁
The facsimile part, which receives the image data, performs prescribed processing such as compression to the image data (S03) and starts communication with the designated transmission destination through a telephone line (S04) and after the compressed image data are transmitted to the destination 3 (S05), a profile expressing the read characteristics of the scanner is transmitted to the destination (S06).例文帳に追加
画像データを受取ったファクシミリ部は画像データに圧縮などの所定の処理を施し(S03)、指定された送信先との電話回線を介した通信を開始し(S04)、送信先3へ圧縮された画像データを送信した(S05)後、送信先へスキャナの読取特性を表すプロファイルを送信する(S06)。 - 特許庁
Desirably, the partial region or the entire region of the outside face 12 from the bevel side 10 along with the outer periphery of the sealing end face 2 to the maximum profile line 8 is set as the specific rough surface, and all the periphery of the outer peripheral side of the sealing end face 2 is set as the specific rough surface.例文帳に追加
好ましくは、封着端面2の外周に沿うベベル面10から最大外形線8に至る外側面12の一部領域または全領域を上記の特定粗面とし、また封着端面2の外周側の全周に亘って上記の特定粗面とする。 - 特許庁
To provide a positive resist composition satisfying requirements for high sensitivity, high resolution, a good pattern profile, good line edge roughness and reduction in outgassing, in an ultrafine region, particularly, in electron beam, X-ray or EUV lithography, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加
超微細領域での、特に、電子線、X線またはEUV光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、およびアウトガス低減を同時に満足するポジ型レジスト組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
In other words, the gap side profile provided when the teeth or magnetic pole of the permanent magnet 1 is cut by such line as parallel to the relative movement direction of the stator and slider is the shape 20 which is represented by a hyperbolic function or the shape represented by the function of inverted cosine of a trigonometric function.例文帳に追加
すなわち、固定子とスライダの相対移動方向と平行な線で永久磁石1の磁極又は歯を切断したときのギャップ側外形形状を双曲線関数で表される形状20若しくは三角関数余弦の逆数の関数で表される形状とする。 - 特許庁
To provide a positive resist composition which can be suitably used, when ArF excimer laser light is used as an exposure light source, which is superior in resist profile, sensitivity, resolution and line edge roughness, and which is free from pattern collapse and of the problems of development defects, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加
ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、レジスト形状、感度、解像力、ラインエッジラフネスが優れるとともに、パターン倒れのなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
A plurality of linear prisms of cross-sectionally polygonal shape are arranged in a row in nearly parallel along the linear light sources on at least one face of the light diffusion plate, and a row of prism line with an arithmetical mean deviation of profile Ra of 3 to 1,000 μm is formed along the short-length direction of the linear prisms.例文帳に追加
光拡散板の少なくとも一方の面には、断面多角形状の線状プリズムが線状光源に沿って略平行に複数並び、線状プリズムの短手方向に沿った中心線平均粗さRaが3μm〜1,000μmのプリズム条列が形成されている。 - 特許庁
In this embodiment, the exhaust port 5 formed on the line of the cast splicing gap (h) is formed so that the opening area thereof becomes wide continuously or stepwise toward the exhaust port 5 from the vicinity of the cast splicing gap (h) on the side of a tire product surface S (profile surface).例文帳に追加
この発明の実施形態では、図3に示すように、前記鋳継ぎ間隙hの線上に形成する排気孔5を、タイヤ製品面S(プロファイル面)側の鋳継ぎ間隙hの近傍から排気孔5に向かって連続的、または段階的に開口面積が広くなるように形成してある。 - 特許庁
The width of minor axis of a line-shape beam is calculated from the profile of the radiated laser beam when annealing, then, the radiated output (power) is adjusted so as to be proportional to the square root of variation of the calculated minor axis width, thereby, a risen temperature on the portion irradiated with laser is corrected to be constant.例文帳に追加
アニールを行う際に照射するレーザ光のプロファイルから、線状ビームの短軸幅を算出し、算出された短軸幅の変動の平方根に比例するように照射する出力(パワー)を調整することで、レーザ照射部における上昇温度が一定となるように補正する。 - 特許庁
To integrate the profiling tool with the project, click OK in the dialog box.The IDE creates a backup of build.xml named build-before-profiler.xmland adds the following line to build.xml:import file=nbproject/profiler-build-impl.xml/You can restore the original build script by choosing Advanced Commands Unintegrate from the Profile menu. 例文帳に追加
プロジェクトとプロファイルツールを統合するには、ダイアログボックスで「了解」をクリックします。 IDE は build.xml のバックアップを build-before-profiler.xml という名前で作成し、build.xml に以下の行を追加します:import file="nbproject/profiler-build-impl.xml"/メニューから「プロファイル」「拡張コマンド」「プロファイラの統合を解除」を選択することによって、元のビルドスクリプトに戻すことができます。 - NetBeans
Then the connection electrode 3a and the electrode terminals are connected by an electrical conductive line 12a via a throughhole so as to maintain the air-tightness and the mechanical strength equal to and more than the case with the container main body 1 that is made of a ceramic and the profile of the main body is made thin.例文帳に追加
そして、接続電極3aと電極端子とを貫通孔を介して導電線路12aにより接続することで容器本体1をセラミックにより形成した場合と比較しても同等以上の気密性及び機械的強度を維持し、その薄型化を図るようにした。 - 特許庁
To solve problems relating to the techniques for improving the performance in microfabrication of a semiconductor device using high energy rays, X rays, electron beams or EUV light, and to provide a positive resist composition satisfying requirements of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable line edge roughness.例文帳に追加
高エネルギー線、X線、電子線あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
The three-dimensional vector chain 11 is provided to a track profile generation engine 3, and the engine 3, for each vector, specifies which of right and left curves each vector corresponds to and executes processing of obtaining a curve radius, processing of specifying an attribute of a line/curve in accordance with the curve radius, etc.例文帳に追加
軌道プロファイル生成エンジン3は、この3次元ベクトル鎖11の提供を受けて、各ベクトルにつき、そのベクトルが左右いずれのカーブに対応するかを特定し、さらにカーブ半径を求める処理や、カーブ半径から直線/曲線の属性を特定する処理などを実行する。 - 特許庁
A probe for a non-destructive determination of a complex dielectric constant of a material and for a near field optical microscope is based on a balance type multi-conductive transmission line structure formed on a dielectric support material which has a definite profile and limits a probe region within a sampling volume of a measuring material.例文帳に追加
材料の複素誘電率の非破壊的決定用及び近接場光学顕微鏡用のプローブは、明確な輪郭を有する、測定材料のサンプリング容積内にプローブ領域を制限する、誘電体支持部材上に形成された平衡型多導体伝送線構造に基づいている。 - 特許庁
When a player 200 is photographed by a camera 110 and the movement of the player 200 is judged in a movement judging part 154 based on profile line data outputted from the camera 110, an operation content judging part 156 judges the contents of operation instruction corresponding to the judged movement.例文帳に追加
カメラ110によってプレーヤ200が撮影され、カメラ110から出力される輪郭線データに基づいて動き判定部154によってプレーヤ200の動きが判定されると、操作内容判定部156は、この判定された動きに応じた操作指示の内容を判定する。 - 特許庁
The plurality of dummy pixels are divided into a dummy pixel A region for removing noise superimposed on the signal line 26 and a dummy pixel B region for removing noise superimposed on the scanning line 27 while the first wiring 291 for static electricity and the second wiring 291 for static electricity are cut physically between the dummy pixel A region provided along the profile of the detecting means and the dummy pixel B region.例文帳に追加
複数のダミー画素は、信号線26に重畳するノイズを除去するためのダミー画素A領域と走査線27に重畳するノイズを除去するためのダミー画素B領域に分割されており、第1の静電気用配線291及び第2の静電気用配線291は検出手段の外形に沿って設けられダミー画素A領域とダミー画素B領域との間で物理的に切断されている。 - 特許庁
In the case of a request with personalization, a dynamic page generation program 101c of a web server 101 sequentially takes out corresponding page components from a memory 102a of a cache server 102 by a remote procedure call and compounds the web page in line with a prescribed prototype based on information of a user profile database 101a.例文帳に追加
パーソナライズありのリクエストの場合、ウェブサーバ101の動的ページ生成プログラム101cが、ユーザプロファイルデータベース101aの情報に基づいて、リモートプロシージャコールによりキャッシュサーバ102のメモリ102aから対応するページ構成要素を順番に取り出して所定のプロトタイプに即したウェブページを合成していく。 - 特許庁
The host computer 1 of a friendship mediating system is connectable to a portable telephone set 2 through a telecommunication line and is provided with a data holding means 5, a nominal list data transmitting means 6, a profile data transmitting means 7, a friendship seeking signal storing means 8, and a friendship seeking approach accepting data transmitting means 9.例文帳に追加
交際仲介システムにおけるホストコンピュータ1は、電気通信回線を介して携帯電話2と接続可能であり、データ所有手段5と、名簿データ送信手段6と、プロフィールデータ送信手段7と、交際申込み信号記憶手段8と、交際申込み受けデータ送信手段9とを有する。 - 特許庁
To provide an actinic-ray- or radiation sensitive resin composition superior in line width roughness (LWR), depth of focus (DOP) and pattern profile, so as to more stably form a high-precision minute pattern for manufacturing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加
高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、フォーカス余裕度(DOF)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
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