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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Pattern areaに関連した英語例文

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Pattern areaの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3571件



例文

With the shadow mask supported to a mask frame with tension making its opposing sides of a rigid body in an almost rectangular shape having numerous penetrating holes, an area for cathode ray passage with numerous penetrating holes formed in a preset pattern as a whole is placed around the center, and an area for no cathode ray passage partly connected with the mask frame is placed at an outer periphery of the cathode ray passage area.例文帳に追加

多数の貫通孔を有する概略矩形のシート状をなし、相対向する側辺を剛体からなるマスクフレームに緊張状態で支持させて用いられるシャドウマスクに、全体として多数の貫通孔が所定のパターンにて形成されている陰極線通過領域をその中央部分に設け、一部が前記マスクフレームに接続されている陰極線不通過領域を陰極線通過領域の外周側に設ける。 - 特許庁

Accordingly, an image taken by the camera 14 always includes a black image portion, so that when a dweller presses a backlight correction button 24, exposure correction can be performed with an area including the black image portion in a part thereof as an area of the largest weighting value by using a correction area division pattern.例文帳に追加

これにより、カメラ14により撮像された撮像画像に常に黒い画像部分が含まれるので、居住者が逆光補正ボタン24を押下した場合、補正領域分割パターンを使用することによって黒い画像部分をその一部に含んだ領域を重み値が最も大きい領域として露出補正を実行することができるため、厳しい逆光環境においても来訪者の顔を視認することができる。 - 特許庁

The light emission part EU emits irradiation light LT with a first intensity distribution pattern PID1 and irradiation light LT with a second intensity distribution pattern PID2 when determining that the distance of the object OB from an object surface 20 on which the detection area RDET is set is short, and emits irradiation light LT with a third intensity distribution pattern PID3 when determining that the distance of the object OB from the object surface 20 is long.例文帳に追加

光出射部EUは、検出エリアRDETを設定する対象面20からの対象物OBの距離が短いと判断された場合には、第1の強度分布パターンPID1の照射光LTと第2の強度分布パターンPID2の照射光LTとを出射し、対象面20からの対象物OBの距離が長いと判断された場合には、第3の強度分布パターンPID3の照射光LTを出射する。 - 特許庁

The light source flashes at a frequency of 50 Hz, the substrate is carried at a speed of 100 to 200 mm per second, and an area formed by an aperture pattern on the photomask in a direction of Y axis is 150 to 250 mm long.例文帳に追加

光源の点滅の周波数は50Hzであり、基板の搬送速度は100〜200mm/secであり、Y軸方向におけるフォトマスク上の開口パターンが形成される領域の長さは、150〜250mmである。 - 特許庁

例文

To provide an exposure apparatus which draws patterns by correcting deformation caused in each drawing area in accordance with the deformation of an object for drawing with respect to the drawing data to draw a plurality of drawing areas including a face pattern on the object.例文帳に追加

面付パターンを含む複数の描画領域を、被描画体に描画するための描画データに対し、被描画体の変形に伴って各描画領域に生じる変形について補正して描画する露光装置を提供する。 - 特許庁


例文

To provide a technology that can precisely control the flow direction and area of a softened resist and thereby can be utilized for forming a pattern and manufacturing a TFT element for liquid crystal displays in the reflow treatment of the resist.例文帳に追加

レジストのリフロー処理において、軟化したレジストの流動方向および流動面積を高い精度に制御可能で、もってパターン形成や液晶表示装置用TFT素子の製造に利用できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology that can precisely control the flow direction and area of a softened resist, and thereby can be utilized for forming a pattern and manufacturing a TFT element for liquid crystal displays in the reflow treatment of the resist.例文帳に追加

レジストのリフロー処理において、軟化したレジストの流動方向および流動面積を高い精度に制御可能で、もってパターン形成や液晶表示装置用TFT素子の製造に利用できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a tape and a sheet to be adhered to a pain area easily with an adhesive surface of an article adherable to a skin where a linear pattern having vertical and horizontal lines and diagonal lines added from both sides is printed as a method of removing a pain quickly.例文帳に追加

痛みを早急に取り除く方法として、肌に貼る事が出来る物の接着面に縦、横、両サイドから斜めを加えた線状の模様をプリントして、痛みのある部位に簡単に貼ることの出来るテープやシートを提供する。 - 特許庁

When the pattern is formed by arranging arrays on the surface of a base material, the respective arrays contain cells by 0 to 100% area and light scattering elements are formed of fine recessed parts or projection parts in the cells.例文帳に追加

基材表面にアレイを配置して前記パターンを形成する際、各アレイは、それぞれの内部に0〜100%の面積を占めるセルを包含し、前記セル内に微細な凹部または凸部からなる光散乱要素を形成する。 - 特許庁

例文

When forming a film pattern by supplying the functional fluid to a substrate, this method consists of a process for forming a bank on the substrate, a process for supplying the functional fluid to an area partitioned by the bank, and a process for burning the bank.例文帳に追加

機能液を基板上に供給して膜パターンを形成する際、基板上にバンクを形成する工程と、バンクによって区画された領域に機能液を供給する工程と、バンクを焼成する工程とを経て形成する。 - 特許庁

例文

Each of the conductor layers 111 to 114 includes a shrinkage factor adjustment conductor pattern not connected to the terminal electrode, and the area of the conductor patterns per one conductor layer is selected smaller outwardly when viewed from the inner layer part 12.例文帳に追加

導体層111〜114は、それぞれ、端子電極に接続されない縮率調整用の導体パターンを備えており、導体層一層あたりの導体パターン面積が、内層部分12からみて外側にいくほど小さい。 - 特許庁

A CPU 10 is provided with an internal memory 11 accessible from the outside and image-recognizes the input image data of the recognition area detected by pattern matching among the input image data stored in the internal memory 11 by a program.例文帳に追加

CPU10は外部からアクセス可能な内部メモリ11を有し、内部メモリ11に格納された入力画像データの内、パターンマッチングにより検出された認識領域の入力画像データをプログラムにより画像認識する。 - 特許庁

A controller 24 controls display so as to move the display area of at least one main pattern when in the super ready game state of a high expectation value to be an advantageous state to a player among a reach game state.例文帳に追加

制御装置24は、リーチ遊技状態の中でも遊技者に有利な状態となる期待値の高いスーパーリーチ遊技状態に際して、少なくとも1つの主図柄の表示領域が移動するよう表示制御を行う。 - 特許庁

A thumbnail image processing means 7 processes a thumbnail image so that a clarity degree of at least one part of an area is reduced with respect to the thumbnail image corresponding to the voice information in which the presence of the voice of the predetermined pattern is determined.例文帳に追加

所定パターンの音声が有ると判定された音声情報に対応するサムネイル画像に対して、サムネイル画像加工手段7が少なくとも一部の領域の明瞭度を低下させるようにサムネイル画像を加工する。 - 特許庁

When the value of the number of the balls held in operation stored in the special pattern operation hold number storage area is less than '4' (S102: NO), an alarm command is outputted from a main board to an electrical ornamental board, a sound board and a shoot handle control circuit (S103).例文帳に追加

特別図柄作動保留数記憶エリアに記憶している作動保留数の値が4未満の場合には(S102:NO)、報知コマンドを主基板から電飾基板、音基板、及び発射ハンドル制御回路に出力する(S103)。 - 特許庁

To provide a bathtub for securing the safety of a bather inside the bathtub without damaging the comfortableness of the bather and without increasing man-hours or costs by providing a non-slip pattern at a necessary and sufficient area of a bathtub bottom surface.例文帳に追加

浴槽底面のうち必要十分な領域に滑り止めパターンを設け、入浴者の快適さを損なわず、工数やコストを増大させることなく浴槽内における入浴者の安全を確保する浴槽を提供。 - 特許庁

In this device, display contents are read out from a first storage part according to a preliminarily registered display schedule and the dot pattern data (contents to be luminously displayed) related to the read out display contents are developed in the work area of a second storage part.例文帳に追加

予め登録された表示スケジュールに従って第1の記憶部から表示コンテンツを読み出し、読み出した表示コンテンツに関するドットパターンデータ(発光表示する内容)を第2の記憶部の作業領域に展開する。 - 特許庁

To reduce power consumption at the time of standby by reducing a pattern area of a bit line pre-charge equalizing circuit of a DRAM and reducing a leak current made to flow toward a word line of a short-circuited defective part between a word line and a bit line from a pre-charge power source line.例文帳に追加

DRAMのビット線プリチャージ・イコライズ回路のパターン面積を低減し、ワード線・ビット線間短絡不良部分のワード線方向へプリチャージ電源線から流れるリーク電流を軽減し、待機時の消費電力を軽減する。 - 特許庁

To enable electron-beam-lithography on the whole surface of a disk with precision, evenness, and optimal exposure, by correcting an decrease in exposure in the contour section of an element set area of a desired pattern caused by a difference between proximity effects.例文帳に追加

近接効果の差による所望のパターンの素子集合領域の輪郭部における露光量の低減を補正し、ディスクの全面にパターンを高精度にかつ均一に最適露光量による電子ビーム描画が行えるようにする。 - 特許庁

In the pachinko machine 10, the movable member is mounted to overlap part of the display screen of the pattern display device saving the longest parts in the vertical direction and in the cross direction of the display area on the display screen.例文帳に追加

かかるパチンコ機10において、絵柄表示装置の表示画面における縦方向及び横方向の最長部分の表示領域を残しつつ、当該表示画面の一部に重なり合うようにして可動部材が設けられている。 - 特許庁

Therein, a discrimination pattern S is attached to both or either one side of the connection piece and the lateral wall in the surface on which the connection piece of the overlapping part and the other side lateral wall are opposed to each other, and in the area where the adhesion is not performed.例文帳に追加

そして、その重畳部の接続片と他方の側壁とが対向する面、かつ接着がなされていない領域における接続片または側壁の双方またはいずれか一方には識別模様Sが付されている。 - 特許庁

The gauge 1 is overlapped on a development view 13, and the disposition of the PV modules are determined based on a section of disposition pattern drawing 6 to be built within a building and construction area 14 on the development view 13 under given conditions.例文帳に追加

そして、このゲージ1を展開図13の上に重ね合わせ、その展開図13の施工可能領域14内に一定条件下で納めることができる配列パターン図6の部分によってPVモジュールの配列を決定する。 - 特許庁

To provide an inexpensive pattern inspection apparatus that can perform inspection utilizing both of an epi-illumination image and a transmission illumination image at speed equivalent to that of an inspection apparatus utilizing only one image and does not cause an installation area to increase.例文帳に追加

落射照明イメージと透過照明イメージとの両イメージを利用した検査が、片方のイメージだけを利用する検査装置と同程度の速度で行え、しかも設置面積の増大を招かず、廉価なパターン検査装置の提供。 - 特許庁

The misregistration correction method includes the steps of detecting the contour at which the trap area is caused, discriminating a type of the contour; generating a new contour, and placing a circular pattern on the points generating the contour.例文帳に追加

トラップエリアが発生する輪郭を検出する工程と、輪郭の種類を判定する工程と、輪郭を発生させる工程と、輪郭を構成する点に円を置く工程とを有することを特徴とする版ずれ補正方法。 - 特許庁

To minimize the total length of boundary lines for main fields and sub-fields formed in an effective pattern region per chip area, in a semiconductor device manufactured by using an EB lithography system.例文帳に追加

本発明はEB描画装置を用いて製造される半導体装置に関し、有効なパターン領域内に形成されるメインフィールドやサブフィールドの境界線の総延長を、チップ面積に対して最短化することを目的とする。 - 特許庁

A predetermined area of an optical disk exclusively for reproduction wherein contents data and the like are recorded by a rugged pit pattern is irradiated with a light beam having high output to melt a reflection film, a pit is imitatively formed and discrimination data or the like are added.例文帳に追加

凹凸のピットパターンによってコンテンツデータ等が記録されている再生専用の光ディスクの所定領域に高出力の光ビームを照射して反射膜を溶かし、擬似的にピットを形成し、識別データ等を追記する。 - 特許庁

An electronic component such as an acceleration sensor is bonded to the center area of an aperture 8 of the electronic component sealing package, a lead wire of the electronic component is connected to a wiring pattern 7 at the upper surface of a second laminated plate 2, and the upper aperture is sealed with covar 4.例文帳に追加

加速度センサ等の電子部品を電子部品封入パッケージの開口8の中央部に接着し、電子部品のリード線を第2積層板2の上面の配線パターン7に接続して上部開口をコバール4にて封止する。 - 特許庁

Using a projection optical system 7 provided with at least one reflective surface and a plurality of optical axes bent by the reflective surface, a pattern image of a mask 4 is scanned and exposed on each exposure area of a photosensitive substrate 8.例文帳に追加

少なくとも1つの反射面と該少なくとも1つの反射面によって折り曲げられた複数の光軸とを有する投影光学系(7)を用いて、感光性基板(8)の各露光領域にマスク(4)のパターン像を走査露光する。 - 特許庁

Since the exothermic amount is made small by having the area of the extherms on both end parts of the exothermic pattern reduced, the temperature distribution in the fixing belt to which the heat from the heating panel 11 is transmitted can be gently lowered on both end parts.例文帳に追加

発熱パターンの両端部の発熱線の面積が減少して発熱量が少なくなるので、加熱パネル11から熱が伝達される定着ベルトの温度分布を両端部で緩やかに低下させることができる。 - 特許庁

To provide an inspection device that determines reflection in a short time in detecting unevenness defects of an inspected object having a periodic pattern, and reduces the time for inspecting a large-area inspected body, and to provide an inspection method.例文帳に追加

周期性のあるパターンを持つ被検査体のムラ欠陥を検出する場合に、映り込みの判別を短時間に行うことが出来、さらに大面積の被検査体の検査時間を短縮する検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁

The B18 (2, 2) is determined as a function of proper length T4101 of a preceding unrecorded area and proper length T4102 of the recording mark so that a thermal state on a mark starting end part is fixed independently of a recording pattern.例文帳に追加

B18(2,2)は、マーク始端部分での熱的状態が記録パターンによらず一定になるように、直前の無記録部分のあるべき長さT4101と記録マークのあるべき長さT4102の関数として決定される。 - 特許庁

Beams are irradiated at a constant time interval on a reference area including a linear outline part of a sample pattern to constitute images, and an amount of deviation is calculated by comparing positions of contours in the images before and after the time.例文帳に追加

試料パターンの直線状の輪郭部を含む参照領域に一定の時間をおいてビームを照射して画像を構成し、その時間の前後における画像内の輪郭線の位置を比較してずれ量を算出する。 - 特許庁

A shield layer 3 is formed on an area as a flexible part 101 in an internal flexible board 1 where a circuit pattern is formed, and an external rigid board 4 is stuck on the internal flexible board 1 and the shield layer 3.例文帳に追加

回路パターンの形成がなされた内層フレキシブル基板1におけるフレキシブル部101となる領域上にシールド層3を形成し、内層フレキシブル基板1上及びシールド層3上に外層リジッド板4を貼り合わせる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a decorative molding, simultaneously changing a mat tone and a color tone and easily setting a pattern of an area to which the changes are added, and a decorative molding obtained by the method.例文帳に追加

マット調と色調の変化を同時に行うことができ、しかも、その変化を与える領域のパターンを容易に設定することができる加飾成形品の製法およびそれによって得られる加飾成形品を提供する。 - 特許庁

In regard to device layout data recognized from a real circuit layout 25, the design support device divides into grids each aimed pattern edge in a predetermined area including the device, and decides the validity or invalidity of the edge included in each grid.例文帳に追加

設計支援装置は、実回路レイアウト25から認識したデバイスのレイアウトデータについて、そのデバイスを含む所定領域内の着目パターンのエッジを格子分割し、各格子に含まれるエッジの有効無効を判定する。 - 特許庁

To provide a substrate attenuator circuit capable of suppressing the heat generation amount per unit area, even when the attenuation level is low, concerning an attenuation circuit formed by bending a thin and long conductive pattern many times on a substrate.例文帳に追加

基板上で細くて長い導体パターンを多数回屈曲させて形成した減衰回路において、減衰レベルが小さい場合でも単位面積当たりの発熱量を抑えることが可能な「基板減衰回路」を提供する。 - 特許庁

The pattern forming method comprises a step for forming an etching mask 2 on the surface of a substrate 1 of a sintered body material and a step for dry-etching the material through the etching mask 2 as a mask, wherein the cross sectional area of the etching mask 2 is a trapezoid.例文帳に追加

焼結体素材の基板1の表面にエッチングマスク2を形成する工程と、前記エッチングマスク2をマスクとしてドライエッチングする工程を含むパターン形成方法において、前記エッチングマスク2の断面形状が台形をなす。 - 特許庁

A first game executing means 110 executes a game simulated as a slot machine on a center variable display portion 31 having a display area arranged in a matrix of three vertical lines and three lateral lines at the first stage of a pattern matching game.例文帳に追加

第1遊技実行手段110は、縦3列横3行のマトリクス状に表示領域を配置した中央可変表示部31上でスロットマシンに見立てたゲームを図柄合わせゲームの第1段階として実行する。 - 特許庁

Thus, regardless of the direction in which the game ball is mounted on the rolling area 120, a player can have expectations of the possibility that the game ball turns to the opening 154 provided on the side of the pattern display device 110.例文帳に追加

これにより、転動領域120に遊技球が載る方向にかかわらず図柄表示装置110側に設けられた開口部154へ遊技球が向かう可能性があるという期待を遊技者に抱かせることができる。 - 特許庁

As positioning accuracy of a coated sealing material 120 is improved and waviness in an edge of the sealed sealing material enable to make reduce or lose by these pattern, a space between the pixel area and the coated sealing material is possible to be minimized.例文帳に追加

これらパターンにより、塗布されたシール材120の位置決め精度を高め、かつ、封着されたシール材の縁のうねりを低減又は消失させることができ、画領域と塗布されたシール材とを極力近づけることを可能とする。 - 特許庁

A magnetic area 13 is formed where 24 magnetic substances M are arranged on the floor surface in a predetermined pattern with a binary maximum length linearly recurring sequence corresponding to the number of magnetic sensors 5-8 of a forklift 1 is arranged on a two-dimensional plane.例文帳に追加

フォークリフト1の磁気センサ5〜8の個数に対応した線形最大周期列の2値の数列を2次元平面に配置した所定のパターンで床面上に24個の磁性体Mが配列された磁性エリア13が形成されている。 - 特許庁

Thus, attention is paid to the display color of the area around the decorative pattern even when the control is performed to a time shortening state, a monotonous game is changed, and the interest in the game is improved.例文帳に追加

そのため、時短状態に制御しているときにも装飾図柄の周囲の領域の表示色に注目させることができ、単調な遊技に変化を与えることができるとともに遊技に対する興趣を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a remote terminal device for quickly performing frame communication between a communication unit and each I/O unit for reducing the substrate occupancy area of a conductor pattern for a communication line which is required for communication.例文帳に追加

通信ユニットと各I/Oユニットとの間において高速にフレーム通信を行うことができ、しかも通信に要する通信ライン用導体パターン等の基板占有面積が小さくて済むようにしたリモートターミナル装置を提供すること。 - 特許庁

The temperature sensor has a substrate 4 having a flake type thermistor mounting recession 11 and a through hole 12, and an undersurface electrode pattern 6 of a predetermined area which is formed below the mounting recession 11 and is electrically connected to one electrode terminal.例文帳に追加

フレーク型サーミスタ実装凹部11とスルーホール12を有する基板4と、フレーク型サーミスタ実装凹部11下部に形成され一方の電極端子に電気的に接続される所定面積の下面電極パターン6を有する。 - 特許庁

In displaying an icon video image on an icon display area, an icon blanking signal S3 is generated to decrease a level of a signal portion corresponding to other phosphor patterns than a desired phosphor pattern in a video signal more than a black level.例文帳に追加

アイコン表示エリアにアイコン映像の表示を行うときに、アイコン用ブランキング信号S3を生成し、映像信号中の所望の蛍光体パターン以外の他の蛍光体パターンに対応する信号部分を黒レベルよりも下げる。 - 特許庁

To provide a product which is used for storing information on a surface, encodes a lot of information for each unit area, and includes an encoding pattern to detect and encode simply even under influence of different kinds of interferences.例文帳に追加

表面上に情報を記憶するのに用いられ、単位エリア毎に多数の情報を符号化し、違う種類の干渉の影響下にあるときでも、検出及び復号化が単純な符号化パターンを備える製品を提供する。 - 特許庁

On the other hand, when it determined that the outline or the apex is not detected from the certain image, the pattern matching processing is performed to the image based on the detection position information stored in the storage area.例文帳に追加

一方、上記の或る画像から輪郭または頂点が検出されなかったと判定された場合には、記憶領域に記憶されている検出位置情報に基づいて、当該画像に対してパターンマッチング処理を行う。 - 特許庁

Then, when the outline or the apex is determined to have been detected from the certain image, a pattern matching processing is performed in an area, surrounded by the outline or the apex detected from the certain image in the image.例文帳に追加

そして、或る画像から輪郭または頂点が検出されたと判定された場合には、当該画像における、当該画像から検出された輪郭または頂点によって囲まれる領域に対してパターンマッチング処理を行う。 - 特許庁

When two or more kinds of image processing (area analysis, character section vectorization, pattern section vectorization, etc.) are performed on the input image, an image suitable for each image processing is generated prior to execution of the image processing.例文帳に追加

本発明では、入力画像に対して複数種類の画像処理(領域解析処理、文字部ベクトル化処理、図画部ベクトル化処理など)を行う場合、各画像処理を実行する前にそれぞれの画像処理に適した画像を生成する。 - 特許庁

例文

After that, the small win performance is carried out in a performance control pattern CKE3 in response to the termination of a small win game condition with no game ball passing a specific area 49 and no winning in V zone caused.例文帳に追加

その後、遊技球が特定領域49を通過せず、V入賞が発生することなく小当り遊技状態が終了することに対応して、演出制御パターンCKE3により小当り終了演出が実行される。 - 特許庁




  
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