「Pattern area」に関連した英語例文の一覧と使い方(58ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a technology that can precisely control the flow direction and area of a softened resist, and thereby can be utilized for forming a pattern and manufacturing a TFT element for liquid crystal displays in the reflow treatment of the resist.例文帳に追加

レジストのリフロー処理において、軟化したレジストの流動方向および流動面積を高い精度に制御可能で、もってパターン形成や液晶表示装置用ＴＦＴ素子の製造に利用できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a tape and a sheet to be adhered to a pain area easily with an adhesive surface of an article adherable to a skin where a linear pattern having vertical and horizontal lines and diagonal lines added from both sides is printed as a method of removing a pain quickly.例文帳に追加

痛みを早急に取り除く方法として、肌に貼る事が出来る物の接着面に縦、横、両サイドから斜めを加えた線状の模様をプリントして、痛みのある部位に簡単に貼ることの出来るテープやシートを提供する。 - 特許庁

Each of the conductor layers 111 to 114 includes a shrinkage factor adjustment conductor pattern not connected to the terminal electrode, and the area of the conductor patterns per one conductor layer is selected smaller outwardly when viewed from the inner layer part 12.例文帳に追加

導体層１１１〜１１４は、それぞれ、端子電極に接続されない縮率調整用の導体パターンを備えており、導体層一層あたりの導体パターン面積が、内層部分１２からみて外側にいくほど小さい。 - 特許庁

A CPU 10 is provided with an internal memory 11 accessible from the outside and image-recognizes the input image data of the recognition area detected by pattern matching among the input image data stored in the internal memory 11 by a program.例文帳に追加

ＣＰＵ１０は外部からアクセス可能な内部メモリ１１を有し、内部メモリ１１に格納された入力画像データの内、パターンマッチングにより検出された認識領域の入力画像データをプログラムにより画像認識する。 - 特許庁

When forming a film pattern by supplying the functional fluid to a substrate, this method consists of a process for forming a bank on the substrate, a process for supplying the functional fluid to an area partitioned by the bank, and a process for burning the bank.例文帳に追加

機能液を基板上に供給して膜パターンを形成する際、基板上にバンクを形成する工程と、バンクによって区画された領域に機能液を供給する工程と、バンクを焼成する工程とを経て形成する。 - 特許庁

A predetermined area of an optical disk exclusively for reproduction wherein contents data and the like are recorded by a rugged pit pattern is irradiated with a light beam having high output to melt a reflection film, a pit is imitatively formed and discrimination data or the like are added.例文帳に追加

凹凸のピットパターンによってコンテンツデータ等が記録されている再生専用の光ディスクの所定領域に高出力の光ビームを照射して反射膜を溶かし、擬似的にピットを形成し、識別データ等を追記する。 - 特許庁

An electronic component such as an acceleration sensor is bonded to the center area of an aperture 8 of the electronic component sealing package, a lead wire of the electronic component is connected to a wiring pattern 7 at the upper surface of a second laminated plate 2, and the upper aperture is sealed with covar 4.例文帳に追加

加速度センサ等の電子部品を電子部品封入パッケージの開口8の中央部に接着し、電子部品のリード線を第2積層板2の上面の配線パターン7に接続して上部開口をコバール4にて封止する。 - 特許庁

Using a projection optical system 7 provided with at least one reflective surface and a plurality of optical axes bent by the reflective surface, a pattern image of a mask 4 is scanned and exposed on each exposure area of a photosensitive substrate 8.例文帳に追加

少なくとも１つの反射面と該少なくとも１つの反射面によって折り曲げられた複数の光軸とを有する投影光学系（７）を用いて、感光性基板（８）の各露光領域にマスク（４）のパターン像を走査露光する。 - 特許庁

The B18 (2, 2) is determined as a function of proper length T4101 of a preceding unrecorded area and proper length T4102 of the recording mark so that a thermal state on a mark starting end part is fixed independently of a recording pattern.例文帳に追加

Ｂ１８（２，２）は、マーク始端部分での熱的状態が記録パターンによらず一定になるように、直前の無記録部分のあるべき長さＴ４１０１と記録マークのあるべき長さＴ４１０２の関数として決定される。 - 特許庁

Since the exothermic amount is made small by having the area of the extherms on both end parts of the exothermic pattern reduced, the temperature distribution in the fixing belt to which the heat from the heating panel 11 is transmitted can be gently lowered on both end parts.例文帳に追加

発熱パターンの両端部の発熱線の面積が減少して発熱量が少なくなるので、加熱パネル１１から熱が伝達される定着ベルトの温度分布を両端部で緩やかに低下させることができる。 - 特許庁

To provide an inspection device that determines reflection in a short time in detecting unevenness defects of an inspected object having a periodic pattern, and reduces the time for inspecting a large-area inspected body, and to provide an inspection method.例文帳に追加

周期性のあるパターンを持つ被検査体のムラ欠陥を検出する場合に、映り込みの判別を短時間に行うことが出来、さらに大面積の被検査体の検査時間を短縮する検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁

In each display area S, the planting data X such as the ridge width A, the root distance B, the ridge distance C, and the ridge height D corresponding to the designation of a planting crop are displayed in a pattern with an actual size of the crop name.例文帳に追加

各表示域Ｓに植え付け作物における上記呼称に応じた畦幅Ａ、株間Ｂ、条間Ｃ、及び、畦高Ｄ等の植え付けデータＸを実物大寸法にて作物名の絵柄によって表示している。 - 特許庁

To provide a method for estimating the shape of resist pattern, by which the quantity of accumulated energy can be easily and accurately obtained in a highly accelerated electron beam exposure area, and its calculation time is not made longer and a memory of a calculator is not made larger.例文帳に追加

50keV以上の高加速電子線露光領域においてもエネルギー蓄積量を正確かつ簡単に求めることができ、計算時間や計算機メモリが大きくならないレジストパターン形状の推定方法を提供する。 - 特許庁

The light-transmitting and reflecting layer, wherein a pattern for controlling transmittance on the basis of an area ratio between the light-transmitting region and the light-reflecting region is applied, has a first luminance uniformity section, and a second luminance section which has luminance different from that of the first luminance uniformity section.例文帳に追加

透過反射層は、光透過領域と光反射領域との面積比により透過率を制御するパターンが施され、第１輝度均一部と、この第１輝度均一部と輝度の異なる第２輝度部と、を有している。 - 特許庁

To generate a recording/reproducing clock for a pattern recorded in a data area without degrading a format efficiency of a patterned media as much as possible regarding a method for generating a patterned media clock, patterned media, and information recording/reproducing system.例文帳に追加

パターンドメディアクロック生成方法、パターンドメディア及び情報記録再生装置に関し、パターンドメディアに対し、フォーマット効率を極力悪化させないで、データ領域に記録したパターンに対し正確な記録再生クロックを生成する。 - 特許庁

To provide a compact self-ballasted fluorescent lamp 11 through downsizing of a substrate 53 by restraining excessive temperature rising of an electronic component 55 and securing an area capable of forming a wiring pattern, capable of obtaining nearly the same appearance as an ordinary lighting bulb.例文帳に追加

電子部品55の過度な温度上昇を抑制し、配線パターンを形成可能な面積を確保しながら基板53を小形化し、一般照明用電球と略同じ外観を得られる電球形蛍光ランプ11を提供する。 - 特許庁

If the pattern image stopped/displayed as one of a plurality of stop switches is operated is a prescribed one, a character presentation image with a prescribed character is displayed in an image display area in the slot machine.例文帳に追加

複数のストップスイッチのうちのいずれか１つのストップスイッチが操作されて、停止表示された図柄画像が所定の図柄画像であったときには、所定のキャラクタによるキャラクタ演出画像を画像表示領域に表示する。 - 特許庁

The light emitted from the LEDs illuminates a pattern in a wide area by being diffusely reflected on the diffused reflection surface via the transparent FPC substrate, and thereby uniform surface emission is obtained by a fewer light emitting elements than before.例文帳に追加

ＬＥＤが照射した光は、透明なＦＰＣ基板を通して乱反射面で乱反射して図柄を広範囲に照明するので、従来よりも少ない発光素子数で均一な面発光を確保することができる。 - 特許庁

If inclination operation corresponding to the special mode is performed at this point, control is executed to change the display, namely the special display in the varying special pattern display area 5I to star-shaped display as shown in Fig.(C).例文帳に追加

この時点で特殊態様に対応した傾倒操作がなされた場合には、（Ｃ）に示すように、変動中特図表示エリア５Ｉにおいて特殊表示となっていた表示を、星形表示）に変化させる制御が実行される。 - 特許庁

When the pattern is formed by arranging arrays on the surface of a base material, the respective arrays contain cells by 0 to 100% area and light scattering elements are formed of fine recessed parts or projection parts in the cells.例文帳に追加

基材表面にアレイを配置して前記パターンを形成する際、各アレイは、それぞれの内部に０〜１００％の面積を占めるセルを包含し、前記セル内に微細な凹部または凸部からなる光散乱要素を形成する。 - 特許庁

In a game machine constituting a displaying area in the state of a matrix consisting of three rows and three columns in the special pattern display device, the effective line is changed by each variable display and the effective line is shown by lighting of backlights (lamps).例文帳に追加

特別図柄表示装置４に３行３列のマトリクス状の表示領域が構成された遊技機において、有効ラインが可変表示ごとに変更され、有効ラインがバックライト（ランプ）の点灯によって示されるようにした。 - 特許庁

To provide a printed wiring board and an electronic apparatus by which a mounting area on which a circuit element is to be mounted can be sufficiently secured while maintaining the radiation characteristic of the circuit element, and whose degree of freedom in the design of a wiring pattern can be improved.例文帳に追加

回路素子の放熱特性を維持しつつ、回路素子が装着される装着領域を十分に確保できかつ、配線パターンの設計の自由度を向上できるプリント配線基板、および電子機器を提供する。 - 特許庁

An area of a region free from the feature points composed of a branch point of a ridge composing a fingerprint pattern and an point of the end of the ridge, on a predetermined remarked point, is extracted as core line stability to be used in matching.例文帳に追加

所定の注目点を中心とした、指紋模様を構成する隆線が分岐する点や終端する点からなる特徴点が存在しない領域の面積を芯線安定度として抽出し、照合に用いる。 - 特許庁

When it is determined that there is the operation change, an operation pattern is recognized on the basis of places (any of operation detection areas 66A, 66B, 66C and 66D) of the operation detection area 66 in which there is the operation change and the degree of the operation change.例文帳に追加

動作変化ありと判定されると、動作変化のあった動作検出領域６６の場所（動作検出領域６６Ａ、６６Ｂ、６６Ｃ、６６Ｄの何れか）と動作変化度合いとに基づいて、動作パターンを認識する。 - 特許庁

At a request to write an application file, the file is read in a RAM 14 as a work area to automatically judge whether the file 50 is an object to be ciphered in a layer below an OS based upon a data pattern 52 in the file 50.例文帳に追加

アプリケーションファイルの書き込み要求があると、ファイルをワークエリアであるＲＡＭ１４に読み込み、ファイル５０内のデータパターン５２に基づいて、ＯＳ以下の階層でファイル５０が暗号化対象か否かを自動判断する。 - 特許庁

An unreproducible fine feature (random pattern) that the article 12 itself originally has is read out of a specified observation area on the top surface of the article 12, and used to identify and collate the article 12 individually.例文帳に追加

物品１２の表面の所定の観測領域から、当該物品１２自体が元来有している再現不能な微小な特徴（ランダムパターン）を読取り、このランダムパターンを利用して個々の物品１２の識別や照合を行う。 - 特許庁

To provide a mold structure for imprints for improving an error rate when a pattern forming state of a servo area is stabilized and made to be a medium, an imprint method using the mold structure, and a magnetic transfer method.例文帳に追加

サーボ領域のパターン形成状態を安定化させ、媒体化した際のエラーレートを向上させることができるインプリント用モールド構造体、並びに該モールド構造体を用いたインプリント方法及び磁気転写方法の提供。 - 特許庁

To provide a multi-axis punching machine of a grid-pattern punching method capable of simultaneously punching holes, at the same relative respective locations within respectively demarcated areas in a work, while each hole within the demarcated area having different form from one to another but having the same form with another hole at the same relative locations in different demarcated areas.例文帳に追加

ワークに区画された各エリア内の同一位置各所に、各所毎で形状を異にする同一形状のパンチ孔を同時に穿孔することのできるグリッドパターン穿孔方式の多軸穿孔装置を提供する。 - 特許庁

To provide a light-weight and inexpensive pattern printed sheet, that is a member for providing a coordinate detecting means applicable for a data input system for hand-writing directly on a screen of a display device, while achieving wide area and mass production.例文帳に追加

ディスプレイ装置の画面に直接手書きするタイプのデータ入力システムに適用できる、座標検知手段を提供する部材であって、軽量で、価格が安く、大面積化が容易で、量産可能なパターン印刷シートを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing solution which is capable of reducing an etching rate sufficiently as keeping a preferable polishing rate, restraining the occurrence of dishing and a dry area from occurring in the surface of a copper, and forming a very reliable buried pattern composed of a metal film.例文帳に追加

好ましい研磨速度を維持しつつ、エッチング速度を十分に低下させ、デッシングの発生や銅表面の荒れを抑制し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターン形成を可能とする研磨液を提供する。 - 特許庁

When the advance notice performance is contained in the figure variation pattern performance, the players are apt to overlook the advance notice as the performance is extremely brief and is confined to a very limited part of the image display area on the display part 43.例文帳に追加

図柄変動パターン演出に予告演出が含まれている場合に、その予告演出が極めて短い時間であり、かつ表示部４３の画像表示領域のごく一部であるため、遊技者が見逃す場合がある。 - 特許庁

The distance between the positions (m, n) and (m+i, n+j) is determined so that the first and second droplets join mutually after spreading in the pattern formation area.例文帳に追加

そして、前記第１液滴と前記第２液滴とが、前記パターン形成領域上で広がった後で互いに合流するように、前記（ｍ、ｎ）の着弾可能位置と前記（ｍ＋ｉ、ｎ＋ｊ）の着弾可能位置との間の距離が決められている。 - 特許庁

To obtain a method for heat treatment of a semiconductor device by which pattern deformation and spattering of a metal thin film is prevented even when heating the semiconductor device at a warming speed of ≥30°C/sec in the temperature area of ≥500°C.例文帳に追加

半導体装置を５００℃以上の温度領域において昇温速度３０℃／秒以上で加熱する場合でも、金属薄膜のパターン変形及び飛散を防ぐことができる半導体装置の熱処理方法を得る。 - 特許庁

The light transmission area comprises a part that is formed with a microstructure formed by repetition of a rugged pattern having such a dimension as causing incident light to diffract and openings having such a dimension as not causing the incident light to diffract.例文帳に追加

光透過領域は、入射光が回折を生じる大きさの凹凸パターンの繰返しからなる微細構造が形成された部分と入射光が回折を生じない大きさの開口部とから構成されたものを含む。 - 特許庁

In a photography standby mode, automatic shutter photography processing is performed on detecting a predetermined operation by the main subject image having features of the outline, color information, distribution pattern, etc., for the set detection area 101.例文帳に追加

撮影待機時には、設定した検出エリア１０１に対して輪郭、色情報、配分パターンなどの特徴を有する主要被写体像による所定の動作を検出すると、これを契機として、オートシャッタ撮影処理を行う。 - 特許庁

Out of reflection light, a luminous flux of an area GZ corresponding to an A point of a light distribution pattern MP3 for motorway is shielded by an upper part 23U of a sub-fixed shade 23 extending upwards from an edge part 13 of movable shades 10, 11.例文帳に追加

反射光のうちモータウエイ用の配光パターンＭＰ３のＡポイントに対応するエリアＧＺの光束は、可動シェード１０、１１のエッジ部１３から上方に突出するサブ固定シェード２３の上部２３Ｕにより、遮蔽される。 - 特許庁

The operation part receives data of the icon from the main body side via a communication means 10 and writes each data of the icons such as width, height, the number of colors and icon pattern into a memory area of the RAM reserved in a RAM30R5 for each icon to manage.例文帳に追加

アイコンに関するデータを通信手段１０を介して本体側から受信する操作部では、アイコン毎にＲＡＭ３OR５に確保したＲＡＭのメモリ領域に、アイコンの幅、高さ、色数、アイコンパターンの各データを書き込み、管理する。 - 特許庁

The first electrode 240 includes a conductive electrode substrate 242 and a conductive electrode projection part 244 formed on the substrate 242 by plating and having a pattern corresponding to the polarization-inverted area 110.例文帳に追加

第１電極２４０は、導電性の電極用基板２４２と、電極用基板２４２上にメッキ法により形成されていて分極反転領域１１０に対応するパターンを有する導電性の電極用凸部２４４とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the organic electroluninescence element includes a stage in which a predetermined area of a donor substrate is irradiated with a laser beam by using a laser irradiation apparatus equipped with a space light modulator to form an organic film layer pattern on a substrate.例文帳に追加

前記製造方法は、空間光変調器を備えるレーザーの照射装置を用いて前記ドナー基板の所定領域にレーザービームを照射して、前記基板上に有機膜層パターンを形成する段階を含む。 - 特許庁

To provide a laminated common mode choke coil which can secure a large area for patterning and forming a conductor pattern, greatly improve inductance value, and reduce floating capacity, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

導体パターンをパターンニング形成するための領域を大きく確保でき、インダクタンスを大値に向上できると共に、浮遊容量を低減することができる積層コモンモードチョークコイルおよびその製造方法を提供すること - 特許庁

A 2nd coordinate transforming part 5 can further transform the coordinates of the pattern coordinate system transformed in the part 4 into coordinates within an image area due to a simple residue operation based on the height and width of the image.例文帳に追加

さらに第２の座標変換部５によって、第１の座標変換部４において変換されたパターン座標系の座標を、画像の高さおよび幅に基づく簡単な剰余演算によって画像の領域内の座標に変換できる。 - 特許庁

To provide a liquid having extremely high transparency and a refractive index higher than that of water in a wavelength ≤200 nm which is known as a vacuum ultraviolet area in an immersion exposure process, and a resist pattern forming method using the liquid.例文帳に追加

液浸露光プロセスにおいて、真空紫外領域として知られる200nm以下の波長で、非常に高い透明性と水よりも高い屈折率を有する液体およびそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To specify a process of generating a defect, or to detect the defect, even in an area that is not formed with a repeeated pattern on a wafer surface, when detecting the defect appearing on the semiconductor wafer surface by visual inspection.例文帳に追加

外観検査により半導体ウエハの表面に現れる欠陥を検出する際に、欠陥を生じた工程を特定する、或いはウエハ表面に繰り返しパターンが成形されていない領域においても欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that corrects an image forming condition by detecting a gradation pattern, the apparatus being configured to correct, on a priority basis, an area where gradation greatly changes, even without increasing the number of gradation patterns.例文帳に追加

階調パターンを検知して、画像形成条件を補正する画像形成装置において、階調パターンの個数を多くしなくても、階調性の大きく変動する個所を重点的に補正可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a projection optical system which can obtain pattern images of a desired line width over an effective image formation area without being substantially affected by scattered lights caused by the surface roughness, etc. of a refraction face or reflection face, for example.例文帳に追加

たとえば屈折面や反射面の表面粗さなどに起因する散乱光の影響を実質的に受けることなく、有効結像領域の全体に亘って所望線幅のパターン像を得ることのできる投影光学系。 - 特許庁