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Pattern areaの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3571件
In a sewing machine that is included in a sewing system that, using a plurality of the sewing machines, performs sewing of a single embroidery pattern on a work cloth that is held by an embroidery frame, at least one image is captured of at least one marker that is positioned in a marker area (S15).例文帳に追加
1つの刺繍模様を複数のミシンを使用して刺繍枠に保持された加工布に縫製する縫製システムが備えるミシンにおいて、標識領域に配置された少なくとも1の標識が撮像される(S15)。 - 特許庁
The honey cell collected from a skin by a pressure-sensitive adhesive tape or the like is imaged under an ultraviolet transmission condition or an ultraviolet reflection condition, and shape characteristics such as the area, the shape or the exfoliation pattern of the honey cell are discriminated from the image.例文帳に追加
粘着テープなどによって、皮膚より採取した角質細胞を紫外線透過条件下、或いは、紫外線反射条件下で画像と為し、前記画像より隔質細胞の、面積、形、剥離パターンなどの形状特性を鑑別する。 - 特許庁
The B18(2, 2) is determined as a function of proper length T4101 of a preceding non-recording area and proper length T4102 of the recording mark so that a thermal state on a mark starting end part is fixed independently of a recording pattern.例文帳に追加
B18(2,2)は、マーク始端部分での熱的状態が記録パターンによらず一定になるように、直前の無記録部分のあるべき長さT4101と記録マークのあるべき長さT4102の関数として決定される。 - 特許庁
To provide a product which is used for storing information on a surface, encodes a lot of information for each unit area, and is provided with an encoding pattern to detect and encode simply even under influence of different kinds of interferences.例文帳に追加
表面上に情報を記憶するのに用いられ、単位エリア毎に多数の情報を符号化し、違う種類の干渉の影響下にあるときでも、検出及び復号化が単純な符号化パターンを備える製品を提供する。 - 特許庁
In a game machine constituting a displaying area in the state of a matrix consisting of three rows and three columns in the special pattern display device, the effective line is changed by each variable display and the effective line is shown by lighting of backlights (lamps).例文帳に追加
特別図柄表示装置4に3行3列のマトリクス状の表示領域が構成された遊技機において、有効ラインが可変表示ごとに変更され、有効ラインがバックライト(ランプ)の点灯によって示されるようにした。 - 特許庁
To provide a light-weight and inexpensive pattern printed sheet, that is a member for providing a coordinate detecting means applicable for a data input system for hand-writing directly on a screen of a display device, while achieving wide area and mass production.例文帳に追加
ディスプレイ装置の画面に直接手書きするタイプのデータ入力システムに適用できる、座標検知手段を提供する部材であって、軽量で、価格が安く、大面積化が容易で、量産可能なパターン印刷シートを提供する。 - 特許庁
To provide a polishing solution which is capable of reducing an etching rate sufficiently as keeping a preferable polishing rate, restraining the occurrence of dishing and a dry area from occurring in the surface of a copper, and forming a very reliable buried pattern composed of a metal film.例文帳に追加
好ましい研磨速度を維持しつつ、エッチング速度を十分に低下させ、デッシングの発生や銅表面の荒れを抑制し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターン形成を可能とする研磨液を提供する。 - 特許庁
When the advance notice performance is contained in the figure variation pattern performance, the players are apt to overlook the advance notice as the performance is extremely brief and is confined to a very limited part of the image display area on the display part 43.例文帳に追加
図柄変動パターン演出に予告演出が含まれている場合に、その予告演出が極めて短い時間であり、かつ表示部43の画像表示領域のごく一部であるため、遊技者が見逃す場合がある。 - 特許庁
To obtain a method for heat treatment of a semiconductor device by which pattern deformation and spattering of a metal thin film is prevented even when heating the semiconductor device at a warming speed of ≥30°C/sec in the temperature area of ≥500°C.例文帳に追加
半導体装置を500℃以上の温度領域において昇温速度30℃/秒以上で加熱する場合でも、金属薄膜のパターン変形及び飛散を防ぐことができる半導体装置の熱処理方法を得る。 - 特許庁
In a photography standby mode, automatic shutter photography processing is performed on detecting a predetermined operation by the main subject image having features of the outline, color information, distribution pattern, etc., for the set detection area 101.例文帳に追加
撮影待機時には、設定した検出エリア101に対して輪郭、色情報、配分パターンなどの特徴を有する主要被写体像による所定の動作を検出すると、これを契機として、オートシャッタ撮影処理を行う。 - 特許庁
The light transmission area comprises a part that is formed with a microstructure formed by repetition of a rugged pattern having such a dimension as causing incident light to diffract and openings having such a dimension as not causing the incident light to diffract.例文帳に追加
光透過領域は、入射光が回折を生じる大きさの凹凸パターンの繰返しからなる微細構造が形成された部分と入射光が回折を生じない大きさの開口部とから構成されたものを含む。 - 特許庁
Out of reflection light, a luminous flux of an area GZ corresponding to an A point of a light distribution pattern MP3 for motorway is shielded by an upper part 23U of a sub-fixed shade 23 extending upwards from an edge part 13 of movable shades 10, 11.例文帳に追加
反射光のうちモータウエイ用の配光パターンMP3のAポイントに対応するエリアGZの光束は、可動シェード10、11のエッジ部13から上方に突出するサブ固定シェード23の上部23Uにより、遮蔽される。 - 特許庁
The operation part receives data of the icon from the main body side via a communication means 10 and writes each data of the icons such as width, height, the number of colors and icon pattern into a memory area of the RAM reserved in a RAM30R5 for each icon to manage.例文帳に追加
アイコンに関するデータを通信手段10を介して本体側から受信する操作部では、アイコン毎にRAM3OR5に確保したRAMのメモリ領域に、アイコンの幅、高さ、色数、アイコンパターンの各データを書き込み、管理する。 - 特許庁
In each display area S, the planting data X such as the ridge width A, the root distance B, the ridge distance C, and the ridge height D corresponding to the designation of a planting crop are displayed in a pattern with an actual size of the crop name.例文帳に追加
各表示域Sに植え付け作物における上記呼称に応じた畦幅A、株間B、条間C、及び、畦高D等の植え付けデータXを実物大寸法にて作物名の絵柄によって表示している。 - 特許庁
To provide a method for estimating the shape of resist pattern, by which the quantity of accumulated energy can be easily and accurately obtained in a highly accelerated electron beam exposure area, and its calculation time is not made longer and a memory of a calculator is not made larger.例文帳に追加
50keV以上の高加速電子線露光領域においてもエネルギー蓄積量を正確かつ簡単に求めることができ、計算時間や計算機メモリが大きくならないレジストパターン形状の推定方法を提供する。 - 特許庁
The light-transmitting and reflecting layer, wherein a pattern for controlling transmittance on the basis of an area ratio between the light-transmitting region and the light-reflecting region is applied, has a first luminance uniformity section, and a second luminance section which has luminance different from that of the first luminance uniformity section.例文帳に追加
透過反射層は、光透過領域と光反射領域との面積比により透過率を制御するパターンが施され、第1輝度均一部と、この第1輝度均一部と輝度の異なる第2輝度部と、を有している。 - 特許庁
To generate a recording/reproducing clock for a pattern recorded in a data area without degrading a format efficiency of a patterned media as much as possible regarding a method for generating a patterned media clock, patterned media, and information recording/reproducing system.例文帳に追加
パターンドメディアクロック生成方法、パターンドメディア及び情報記録再生装置に関し、パターンドメディアに対し、フォーマット効率を極力悪化させないで、データ領域に記録したパターンに対し正確な記録再生クロックを生成する。 - 特許庁
To provide a compact self-ballasted fluorescent lamp 11 through downsizing of a substrate 53 by restraining excessive temperature rising of an electronic component 55 and securing an area capable of forming a wiring pattern, capable of obtaining nearly the same appearance as an ordinary lighting bulb.例文帳に追加
電子部品55の過度な温度上昇を抑制し、配線パターンを形成可能な面積を確保しながら基板53を小形化し、一般照明用電球と略同じ外観を得られる電球形蛍光ランプ11を提供する。 - 特許庁
If the pattern image stopped/displayed as one of a plurality of stop switches is operated is a prescribed one, a character presentation image with a prescribed character is displayed in an image display area in the slot machine.例文帳に追加
複数のストップスイッチのうちのいずれか1つのストップスイッチが操作されて、停止表示された図柄画像が所定の図柄画像であったときには、所定のキャラクタによるキャラクタ演出画像を画像表示領域に表示する。 - 特許庁
The light emitted from the LEDs illuminates a pattern in a wide area by being diffusely reflected on the diffused reflection surface via the transparent FPC substrate, and thereby uniform surface emission is obtained by a fewer light emitting elements than before.例文帳に追加
LEDが照射した光は、透明なFPC基板を通して乱反射面で乱反射して図柄を広範囲に照明するので、従来よりも少ない発光素子数で均一な面発光を確保することができる。 - 特許庁
If inclination operation corresponding to the special mode is performed at this point, control is executed to change the display, namely the special display in the varying special pattern display area 5I to star-shaped display as shown in Fig.(C).例文帳に追加
この時点で特殊態様に対応した傾倒操作がなされた場合には、(C)に示すように、変動中特図表示エリア5Iにおいて特殊表示となっていた表示を、星形表示)に変化させる制御が実行される。 - 特許庁
To provide a printed wiring board and an electronic apparatus by which a mounting area on which a circuit element is to be mounted can be sufficiently secured while maintaining the radiation characteristic of the circuit element, and whose degree of freedom in the design of a wiring pattern can be improved.例文帳に追加
回路素子の放熱特性を維持しつつ、回路素子が装着される装着領域を十分に確保できかつ、配線パターンの設計の自由度を向上できるプリント配線基板、および電子機器を提供する。 - 特許庁
An area of a region free from the feature points composed of a branch point of a ridge composing a fingerprint pattern and an point of the end of the ridge, on a predetermined remarked point, is extracted as core line stability to be used in matching.例文帳に追加
所定の注目点を中心とした、指紋模様を構成する隆線が分岐する点や終端する点からなる特徴点が存在しない領域の面積を芯線安定度として抽出し、照合に用いる。 - 特許庁
When it is determined that there is the operation change, an operation pattern is recognized on the basis of places (any of operation detection areas 66A, 66B, 66C and 66D) of the operation detection area 66 in which there is the operation change and the degree of the operation change.例文帳に追加
動作変化ありと判定されると、動作変化のあった動作検出領域66の場所(動作検出領域66A、66B、66C、66Dの何れか)と動作変化度合いとに基づいて、動作パターンを認識する。 - 特許庁
At a request to write an application file, the file is read in a RAM 14 as a work area to automatically judge whether the file 50 is an object to be ciphered in a layer below an OS based upon a data pattern 52 in the file 50.例文帳に追加
アプリケーションファイルの書き込み要求があると、ファイルをワークエリアであるRAM14に読み込み、ファイル50内のデータパターン52に基づいて、OS以下の階層でファイル50が暗号化対象か否かを自動判断する。 - 特許庁
An unreproducible fine feature (random pattern) that the article 12 itself originally has is read out of a specified observation area on the top surface of the article 12, and used to identify and collate the article 12 individually.例文帳に追加
物品12の表面の所定の観測領域から、当該物品12自体が元来有している再現不能な微小な特徴(ランダムパターン)を読取り、このランダムパターンを利用して個々の物品12の識別や照合を行う。 - 特許庁
To provide a mold structure for imprints for improving an error rate when a pattern forming state of a servo area is stabilized and made to be a medium, an imprint method using the mold structure, and a magnetic transfer method.例文帳に追加
サーボ領域のパターン形成状態を安定化させ、媒体化した際のエラーレートを向上させることができるインプリント用モールド構造体、並びに該モールド構造体を用いたインプリント方法及び磁気転写方法の提供。 - 特許庁
To provide a multi-axis punching machine of a grid-pattern punching method capable of simultaneously punching holes, at the same relative respective locations within respectively demarcated areas in a work, while each hole within the demarcated area having different form from one to another but having the same form with another hole at the same relative locations in different demarcated areas.例文帳に追加
ワークに区画された各エリア内の同一位置各所に、各所毎で形状を異にする同一形状のパンチ孔を同時に穿孔することのできるグリッドパターン穿孔方式の多軸穿孔装置を提供する。 - 特許庁
In this field emission type display panel, the shading film is formed without having to increase production processes by forming a shading pattern utilizing thin metal film for cathode electrode or gate electrode, in the periphery of display area on the cathode substrate.例文帳に追加
電界放出型表示パネルにおいて、カソード基板上の表示エリア周辺部に、カソード電極用若しくはゲート電極用の金属薄膜を利用した遮光パターンを形成して、製造工程を増やさずに遮光膜を形成する。 - 特許庁
The display apparatus includes: a display pixel provided with: non-charged particles distributed in a dielectric medium that fills a cell area; and a pattern electrode unit to be configured to produce a non-uniform electric field in the dielectric medium.例文帳に追加
セル領域を充填する誘電媒質内に分散された非帯電粒子と、誘電媒質内に不均一な電場を形成できる形態に設けられたパターン電極部とを具備するディスプレイ画素を含むディスプレイ装置である。 - 特許庁
Thus the bristle bundles forming a block pattern are enabled to easily retain the tooth paste and efficient cleaning of teeth, especially polishing effect, is achieved since the bristle planting density per unit area is high.例文帳に追加
歯磨き時、ひとまとまりのブロックパターンを形成する毛束群に歯磨き剤が保持されやすくなり、また、単位面積当たりの植毛密度が高いので、歯牙の刷掃、特にポリッシングを効率よく、かつ、効果的に行なうことができる。 - 特許庁
The rugged pattern 7 includes the glossy surface 8 and non-glossy surfaces 9 each constituting an apex surface of a projecting portion 10 projecting over the glossy surface 8, and uniformly scattered by a prescribed ratio per unit area in the glossy surface 8.例文帳に追加
凹凸パターン7は、光沢面8と、この光沢面8から突出する凸部10の頂面を成し、光沢面8に単位面積あたり所定の割合で均等に点在する非光沢面9と、により形成されている。 - 特許庁
The monitoring device 10 acquires imaging range information based on a predetermined light emitting pattern detected by performing image processing of a monitoring area R imaged by an imaging part 1, and changes the imaging range of the imaging part 1.例文帳に追加
監視装置10は、撮像部1により撮像された監視領域Rの映像処理を行うようにして検出した所定の発光パターンに基づき撮像範囲情報を取得して、撮像部1の撮像範囲を切り替える。 - 特許庁
To take a countermeasure against power supply noise efficiently by forming a capacitor at a desired position with no restriction of interconnection and to fabricate a capacitor of large capacity with a smaller area even in a finer pattern process technology.例文帳に追加
配線等の制約を受けることなく所望の位置にキャパシタを形成して電源ノイズ対策を効率的に行うことができ、微細化の進んだプロセス技術においても、より少ない面積でより大容量のキャパシタを構成する。 - 特許庁
The polysilicon film 15 is then removed by etching through a mask having an opening of a specified pattern to bring about a state where the polysilicon film 15 exists only in a region having a specified area including the inner surface of the contact hole 4 (Fig.(b)).例文帳に追加
次に、所定のパターンの開口を有するマスクを介したエッチングによりポリシリコン膜15が除去されて、ポリシリコン膜15がコンタクトホール4の内面を含む所定面積を有する領域にのみ存在する状態にされる(図2(b))。 - 特許庁
The first electrode 240 includes a conductive electrode substrate 242 and a conductive electrode projection part 244 formed on the substrate 242 by plating and having a pattern corresponding to the polarization-inverted area 110.例文帳に追加
第1電極240は、導電性の電極用基板242と、電極用基板242上にメッキ法により形成されていて分極反転領域110に対応するパターンを有する導電性の電極用凸部244とを有する。 - 特許庁
To provide a laminated common mode choke coil which can secure a large area for patterning and forming a conductor pattern, greatly improve inductance value, and reduce floating capacity, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
導体パターンをパターンニング形成するための領域を大きく確保でき、インダクタンスを大値に向上できると共に、浮遊容量を低減することができる積層コモンモードチョークコイルおよびその製造方法を提供すること - 特許庁
A 2nd coordinate transforming part 5 can further transform the coordinates of the pattern coordinate system transformed in the part 4 into coordinates within an image area due to a simple residue operation based on the height and width of the image.例文帳に追加
さらに第2の座標変換部5によって、第1の座標変換部4において変換されたパターン座標系の座標を、画像の高さおよび幅に基づく簡単な剰余演算によって画像の領域内の座標に変換できる。 - 特許庁
To provide a liquid having extremely high transparency and a refractive index higher than that of water in a wavelength ≤200 nm which is known as a vacuum ultraviolet area in an immersion exposure process, and a resist pattern forming method using the liquid.例文帳に追加
液浸露光プロセスにおいて、真空紫外領域として知られる200nm以下の波長で、非常に高い透明性と水よりも高い屈折率を有する液体およびそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To obtain an alkali development type photocurable glass paste composition capable of stably forming a high-definition partition wall pattern onto a substrate for large-area plasma display panels in good yield and productivity without causing problems such as worsening of working environment.例文帳に追加
大面積のプラズマディスプレイパネル用基板上に、高精細の隔壁パターンを、作業環境の悪化等の問題もなく、歩留り良く、かつ生産性良く、安定して形成できるアルカリ現像型光硬化性を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the organic electroluninescence element includes a stage in which a predetermined area of a donor substrate is irradiated with a laser beam by using a laser irradiation apparatus equipped with a space light modulator to form an organic film layer pattern on a substrate.例文帳に追加
前記製造方法は、空間光変調器を備えるレーザーの照射装置を用いて前記ドナー基板の所定領域にレーザービームを照射して、前記基板上に有機膜層パターンを形成する段階を含む。 - 特許庁
The written video data for one display screen is divided into plural areas and the video data is read based on a prescribed reading pattern for each area to generate video data DV-1 to DV-4 for one displayed picture.例文帳に追加
書き込まれている1表示画面分の映像データを複数の領域に区分し、領域毎に映像データを所定の読み出しパターンに基づいて読み出すことにより、1表示画像分の映像データDV-1〜DV-4を生成する。 - 特許庁
To specify a process of generating a defect, or to detect the defect, even in an area that is not formed with a repeeated pattern on a wafer surface, when detecting the defect appearing on the semiconductor wafer surface by visual inspection.例文帳に追加
外観検査により半導体ウエハの表面に現れる欠陥を検出する際に、欠陥を生じた工程を特定する、或いはウエハ表面に繰り返しパターンが成形されていない領域においても欠陥を検出する。 - 特許庁
To improve throughput by changing an exposure method at the time of plotting a device pattern and at the time of exposing the periphery of a molded chip area, so called, at the time of peripheral exposure by using a variable molding type EB(electron beam) direct plotting device.例文帳に追加
可変成形型のEB直描装置を用いて、デバイスパターンの描画時と成形チップ領域の外周を露光する、いわゆる周辺露光時の露光方法を変えることにより、スループットを向上させることを課題とする。 - 特許庁
To provide a projection optical system which can obtain pattern images of a desired line width over an effective image formation area without being substantially affected by scattered lights caused by the surface roughness, etc. of a refraction face or reflection face, for example.例文帳に追加
たとえば屈折面や反射面の表面粗さなどに起因する散乱光の影響を実質的に受けることなく、有効結像領域の全体に亘って所望線幅のパターン像を得ることのできる投影光学系。 - 特許庁
A predetermined area of a read-only optical disk, on which content data are recorded by an irregular pit pattern is irradiated with a high-power optical beam and a reflection film is melted, and thus pits are formed in pseudo manner, thereby discrimination data are additionally recorded.例文帳に追加
凹凸のピットパターンによってコンテンツデータ等が記録されている再生専用の光ディスクの所定領域に高出力の光ビームを照射して反射膜を溶かし、擬似的にピットを形成し、識別データ等を追記する。 - 特許庁
To enhance the uniformity of the amount of processing on a wafer, especially, in the inner area and the periphery of the wafer, while keeping high processing efficiency, concerning the planalizing technique of the surface pattern of the wafer used in the manufacturing process of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加
半導体集積回路の製造工程で用いられるウェハの表面パターンの平坦化技術に関して、高い加工能率を維持したまま、ウェハ面内、特にウェハ周辺部での加工量の均一性を向上させる。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus that corrects an image forming condition by detecting a gradation pattern, the apparatus being configured to correct, on a priority basis, an area where gradation greatly changes, even without increasing the number of gradation patterns.例文帳に追加
階調パターンを検知して、画像形成条件を補正する画像形成装置において、階調パターンの個数を多くしなくても、階調性の大きく変動する個所を重点的に補正可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁
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