1153万例文収録!

「Pattern area」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Pattern areaに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

Pattern areaの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3575



例文

A predetermined area of a read-only optical disk, on which content data are recorded by an irregular pit pattern is irradiated with a high-power optical beam and a reflection film is melted, and thus pits are formed in pseudo manner, thereby discrimination data are additionally recorded.例文帳に追加

凹凸のピットパターンによってコンテンツデータ等が記録されている再生専用の光ディスクの所定領域に高出力の光ビームを照射して反射膜を溶かし、擬似的にピットを形成し、識別データ等を追記する。 - 特許庁

To improve throughput by changing an exposure method at the time of plotting a device pattern and at the time of exposing the periphery of a molded chip area, so called, at the time of peripheral exposure by using a variable molding type EB(electron beam) direct plotting device.例文帳に追加

可変成形型のEB直描装置を用いて、デバイスパターンの描画時と成形チップ領域の外周を露光する、いわゆる周辺露光時の露光方法を変えることにより、スループットを向上させることを課題とする。 - 特許庁

To enhance the uniformity of the amount of processing on a wafer, especially, in the inner area and the periphery of the wafer, while keeping high processing efficiency, concerning the planalizing technique of the surface pattern of the wafer used in the manufacturing process of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路の製造工程で用いられるウェハの表面パターンの平坦化技術に関して、高い加工能率を維持したまま、ウェハ面内、特にウェハ周辺部での加工量の均一性を向上させる。 - 特許庁

The written video data for one display screen is divided into plural areas and the video data is read based on a prescribed reading pattern for each area to generate video data DV-1 to DV-4 for one displayed picture.例文帳に追加

書き込まれている1表示画面分の映像データを複数の領域に区分し、領域毎に映像データを所定の読み出しパターンに基づいて読み出すことにより、1表示画像分の映像データDV-1〜DV-4を生成する。 - 特許庁

例文

The division is executed in the preset division points, when preparing the division pattern, and a relational expression model in each local area calculates an undetermined coefficient, by carrying out matrix computation reflected with a weight index in response to the quality.例文帳に追加

分割パターンを作成する際に、予め設定した分割点で分割を行い、また各局所領域における関係式モデルは、品質に応じた重み指標を反映した行列演算を行うことで未定係数を算出する。 - 特許庁


例文

To provide a biaxially stretching lamination film for fine processing which is capable of easily molding a pattern of a high aspect ratio in a large area and is excellent in mechanical strength, to provide a manufacturing method of the biaxially stretching lamination film for fine processing, and to provide a molding processing sheet and a molding method of the molding processing sheet.例文帳に追加

高アスペクト比のパターンを大面積で容易に成形でき、且つ機械的強度に優れた微細加工用二軸延伸積層フィルム、および製法、成形加工シート、並びに成形方法を提供する。 - 特許庁

The test pattern in which dots are arranged by a specified pitch is recorded on a recording medium, and then, the density of an area including a plurality of the recorded dots is measured, and thus, the kind of the recording medium is judged from the obtained density.例文帳に追加

記録媒体に所定のピッチでドットが配列するテストパターンを記録し、その後記録されたドットが複数含まれるエリアの濃度を測定することにより、得られた濃度に基づいて記録媒体の種類を判別する。 - 特許庁

A relationship between a narrow range output tone and density excluding immeasurable area obtained by using a colorimeter from a test pattern recorded in a high density recording medium is differentiated twice to obtain a relationship between narrow range density and an inclination change rate.例文帳に追加

高濃度記録媒体に記録されたテストパターンから測色計を用いて求められた測定不能領域を除く狭域出力階調−濃度関係を2回微分して狭域濃度−傾き変化率関係を求める。 - 特許庁

This method for forming a conductive pattern includes a process to apply solder paste 16 by screen printing with a part of an IC chip 12 covered with an elastic sheet 2 in which an opening 4 is formed in the formation area of solder 18, on the circuit board 11.例文帳に追加

回路基板11上において、ハンダ18の形成領域に開口4が形成された弾性シート2でICチップ12の少なくとも一部を覆った状態で、ハンダペースト16をスクリーン印刷により塗布する工程を備える。 - 特許庁

例文

To provide a current fusing type fuse array with which rise of a cost due to increase in manufacturing processes and increase in pattern occupied area can be suppressed even of a semiconductor device provided with neither ROM nor fuse element.例文帳に追加

ROMやヒューズ素子を備えていない半導体装置であっても、製造プロセスの増加によるコストの上昇やパターン占有面積の増加を抑制できる電流溶断型ヒューズアレイを提供することを目的としている。 - 特許庁

例文

Accordingly, the occurrence of focussing deviation due to surface wobbling during recording is avoided, control is carried out to accurately condense a laser light in the signal recording area R, and a very small pattern is precisely recorded as a latent image.例文帳に追加

その結果、記録時に面振れによって焦点ずれが発生するのを防止できるとともに、レーザ光をフラットな信号記録領R域に正確に集光する制御が可能になり、微細なパターンを潜像として正確に記録できる。 - 特許庁

The integration processing comprises "a function capable of performing matching without being much affected by an unreasonably high evaluation value" and thereby suppresses occurrence of an estimation error in such occlusion area as not matching an actual occlusion pattern.例文帳に追加

また、実際のオクルージョンパターンに適合しないオクルージョン領域においては、上記融合処理が持つ、「不当に高い評価値に影響を大きく受けずマッチングが行える機能」において、推定誤りの発生を低く抑える。 - 特許庁

A plurality of pattern areas 222 which are respectively padded by a plurality of values having a high probability to be used as an initial value of the data part of the application are formed in an application area of an EEPROM of the IC card 1.例文帳に追加

ICカード1のEEPROMのアプリケーション領域22には、アプリケーションのデータ部の初期値として利用される可能性が高い複数の値でそれぞれパディングされた複数のパターン領域222が形成されている。 - 特許庁

The method for manufacturing the instrument dial includes an asperity pattern formation process for forming a hairline pattern 54 on a second area 50 by crimping a sheetlike member on an upper mold 11 on which an asperity part (a protruded streak part 112 and a recessed streak part 113) is formed to press the asperity part of the upper mold 11 against part of the sheetlike member.例文帳に追加

計器表示板の製造方法は、凹凸部(凸条部112および凹条部113)が形成された上金型11にシート状部材を圧着させることにより、シート状部材の一部に上金型11の凹凸部を押し付けて第2の領域50にヘアライン模様54を形成する凹凸模様成形工程を有する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of further improving uniformity of a mask pattern size on the entire wafer surface and lowering variation in opening width of a contact window on the entire wafer surface when forming the contact window to improve the product yield and quality even when a higher step and a large area pattern are formed.例文帳に追加

高段差で大面積のパターンが形成される場合でも、ウェハ全面でのマスクパターン寸法の均一性をさらに向上させることができるとともに、コンタクト窓形成の際にウェハ全面でコンタクト窓の開口幅ばらつきを低減することができ、製品歩留を改善しかつ製品品質をより向上させることができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask which is used to manufacture an optical diffusing film wherein a columnar minute area having a refractive index varied in the perpendicular direction of a resin layer is formed to change the scattering property by an angle of incidence of light, and has a pattern consisting of areas for transmitting light and a pattern intercepting light and excludes an influence of occurring black defects.例文帳に追加

樹脂層の厚み方向に屈折率が異なる柱状の微小領域を形成し、光の入射角度によって散乱性が変化する光拡散フィルムを作製するマスクで、光を透過する領域からなるパターンと、光を遮断するパターンを有し、かつ発生した黒欠陥の影響を排除したマスクを提供することである。 - 特許庁

Facedown bonding of a bare SAW chip 10 is performed on a base substrate 20, while making a surface pattern 11 face this substrate 20, and the peripheral edge part of the bare SAW chip 10 and the substrate are airtightly sealed by a sealing resin 30, so that a closed area facing at least the SAW propagating part of the surface pattern 11 can be formed.例文帳に追加

表面パターン11をベース基板20に対面させてベアSAWチップ10を該基板20にフェースダウンボンディングし、かつ前記表面パターン11の少なくともSAW伝搬部分に面する密閉空間が形成されるように前記ベアSAWチップ10の周縁部と基板20との間を封止樹脂30で気密封止する。 - 特許庁

Or, the electromagnetic wave shielding member is composed of a pattern of the electromagnetic wave shielding ink comprising two or more ink lines each of which has a width of L and crosses with each other to form a mesh and the film base material mounted with the pattern, and the area of the intersections of the ink lines each having a width of L is twice to 30 times as wide as L×L.例文帳に追加

また、電磁波シールド用の部材は、電磁波遮蔽性インキからなるメッシュ等の2本以上の線幅Lのラインが交差するパターンがフィルム基材の一面上に配設された、電磁波遮蔽性を有する電磁波シールド用の部材であって、線幅Lのラインの交点部分の面積がL×Lの2倍〜30倍である。 - 特許庁

When a gray level decoder 18-2 converts display data into gray levels and the levels do not correspond to any of the gradation levels in a pattern table memory 18-6 and the levels are the prescribed gradation levels where the levels exist between the plural gray levels, gray levels 'A' and 'B' are alternatively read from an area wise gray level pattern table memory 18-7.例文帳に追加

階調レベルデコーダ18−2は、表示データを階調レベルに変換した際に、パターンテーブルメモリ18−6内のいずれの階調レベルにも該当せず、その複数の階調レベルの間に存在する所定の階調レベルである場合には、面積的階調パターンテーブルメモリ18−7から階調レベル「A」、「B」を交互に読み出す。 - 特許庁

The dummy pattern 3 is arranged while folded in a rectangular wave shape to the line width of a conventional linear pattern and then the peeling load of the dummy seal 3 per unit area of a glass is improved to obtain the large effect that a serious defect which is seal peeling is hardly caused in a process of cutting the stuck glass to a panel individual piece size.例文帳に追加

また、ダミーパターン3を従来の直線パターンの線幅で矩形波状に折り曲げて配置することにより、ガラスの単位面積当たりのダミーシール3の剥離荷重が向上し、貼り合わせガラスをパネル個片サイズに切断する工程において、シール剥離という重大欠陥を誘発しにくくなるという効果も多大と成りうる。 - 特許庁

The disk 81 has a recording layer given heat processing for lowering the intensity of magnetization occurring in magneto-optical recording to the degree of not disappearing by a prescribed pattern on a substrate and has a prescribed signal magneto- optically recorded in an area in which the identification signal is recorded by the difference of a performance index corresponding to the prescribed pattern.例文帳に追加

光磁気ディスク81は、光磁気記録時に生じる磁化の大きさを消失しない程度に低下させる熱処理が所定のパターンで施された記録層を基板上に有し、前記所定のパターンに対応する性能指数の違いによって識別信号が記録された領域に所定の信号が光磁気記録されている。 - 特許庁

The method for producing the solar cell backsheet includes a step of printing a protective varnish in a pattern over a metal foil 18 glued on a face of a plastic film used as a base material and a step of stamping out the pattern after gluing a plastic film over the metal foil 8 after removing the non-printed area of the metal foil by corrosion.例文帳に追加

基材となるプラスチックフィルムの片面に貼り合せた金属箔の上からパターン状に防護ニスを印刷し、非印刷領域の金属箔を腐食によって除去した後に金属箔の上から全面にプラスチックフィルムを貼り合せてからパターンを打ち抜くことを特徴とする請求項1に記載の太陽電池バックシートの製造方法 - 特許庁

The development processing method includes processing liquid supply processes S14-S16 of supplying a processing liquid, where a hydrophobic agent for hydrophobizing the resist pattern is diluted by hydrofluoroether onto the substrate where the rinse liquid is supplied, after the resist pattern is developed; and processing liquid removal steps S18, S19 for removing the processing liquid from an area on the substrate to which the processing liquid has been supplied.例文帳に追加

レジストパターンが現像された後、リンス液が供給された基板上に、レジストパターンを疎水化する疎水化剤がハイドロフルオロエーテルで希釈されてなる処理液を供給する処理液供給工程S14〜S16と、処理液が供給された基板上から、処理液を除去する処理液除去工程S18、S19とを有する。 - 特許庁

After a pattern area rate and a pattern perimeter rate are extracted for each of a plurality of functional circuits, each of the plurality of functional circuit is divided into a first circuit region and a second circuit region using standards defined based upon extraction results, and the second circuit region is arranged at the periphery of at least one or more first circuit regions.例文帳に追加

複数の機能回路毎にパターン面積率及びパターン周囲長率を抽出した後、当該抽出結果により規定される基準を用いて、複数の機能回路のそれぞれを第一の回路領域と第二の回路領域とに分別し、少なくとも一つ以上の第一の回路領域の周囲に第二の回路領域を配置する。 - 特許庁

In the method by which fine wiring is formed through a lift-off process, a deposited-film removing process is performed one or more times in the course of forming a thin film composed of a wiring material on a substrate 1 for widening the planar area of the opening 3 of a resist pattern 2 by partially or wholly removing a film 7 deposited on a resist pattern 2.例文帳に追加

リフトオフプロセスにより、微細配線を形成する方法において、基板1上に配線材料からなる薄膜を形成する成膜工程の途中に、レジストパターン2上の堆積膜7の一部又は全部を除去してレジストパターン2の開口部3の平面面積を広くする堆積膜除去工程を一回以上実施する。 - 特許庁

To provide a connector of a small area type, which can connect a thin plate connection target having a signal pattern on one surface and a ground pattern on the other surface, has a small number of contacts, and can simply and certainly hold an insertion state of the thin plate connection target into an insulator and release the holding of that.例文帳に追加

一方の面に信号用パターンを有し他方の面に接地用パターンを有する薄板状の接続対象物を接続可能でコンタクト数が少ない小面積タイプのコネクタでありながら、薄板状の接続対象物のインシュレータに対する挿入状態の保持と保持解除を簡単かつ確実に行えるコネクタを提供する。 - 特許庁

In an optical display area in respective display areas 63-68, a plurality of special pattern revolved image display forms, which are revolved around a determined rotation axis so as to be projected to a coordinate plane of a display screen in a liquid crystal display board 29, at every optional angle are displayed for every displacement amount in the special pattern changing direction.例文帳に追加

液晶表示盤29の表示画面の座標平面に対して、定められた回転軸線周りにおいて回転して投影される任意角度毎の複数の特別図柄の回転画像表示態様を、特別図柄の変動方向への任意の変位量毎に、各表示領域63〜68の任意の表示領域に表示する。 - 特許庁

To provide a phase inversion mask which can improve the yield and reliability of a semiconductor element by equalizing the limit sizes of a light transmission pattern formed on a wafer in respective directions by using conventional exposure wavelength when the pattern of a light transmission area formed on the phase inversion mask is different in array pitch with the direction and its manufacturing method.例文帳に追加

位相反転マスクに形成される透光領域のパターンの各方向の配列ピッチが異なる場合に、従来の露光波長を使用して、ウエハに形成される透過光パターンの限界寸法を各方向に亘って同じにし、半導体素子の歩留まり及び信頼性を向上し得る位相反転マスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In a COF 1, having semiconductor elements 2 bonded to and mounted on a wiring pattern a long tape carrier, the wiring pattern is disposed in a layout so as to increase the utilization area of the tape carrier (i.e., to lessen unwanted regions 3) and so as to have a plurality of directions in the tape carrying direction of the tape carrier.例文帳に追加

長尺のテープキャリア上の配線パターンに半導体素子2を接合・搭載してなるCOF1において、上記配線パターンが、テープキャリアの利用面積が大きくなるようなレイアウト(すなわち、不要領域3が小さくなるようなレイアウト)で、テープキャリアのテープ送り方向に対して複数の方向を有するように配置されている。 - 特許庁

A slip 15 is optically scanned on the slip 15 in an image input part 1, image data converted to a binarized pattern are stored in an image pattern storage memory 2 and the coordinate information of a read area is generated through a slip extraction part 9 and a character extraction part 7 based on format information stored in a format information storage memory 4 beforehand.例文帳に追加

帳票15をイメージ入力部1で帳票15上を光学的に走査し、2値化パターンに変換した画像データをイメージパターン格納メモリ2に格納し、書式情報格納メモリ4に予め格納されている書式情報を元に帳票抽出部9および文字抽出部7を介し読み取り領域の座標情報を生成する。 - 特許庁

The semiconductor chip has an area which comprises only a dummy pattern for restricting a dishing caused when levelling by a chemical machining polishing method, in at least a portion of the conductor wiring layer of an uppermost layer, and the dummy pattern is laid out so as to present the specific position of a semiconductor element located in a lower layer than the conductor wiring layer of the uppermost layer.例文帳に追加

最上層の導体配線層の少なくとも一部分に、化学機械研磨法により平坦化を行なう際に生じるディッシングを抑えるためのダミーパターンのみからなる領域を有しており、前記ダミーパターンは前記最上層の導体配線層よりも下層に位置する半導体素子の特定の位置を提示するようレイアウトされている。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring substrate which is electromagnetically superior and also superior in heat dissipation and has via holes with high connection reliability, by controlling the thickness of a second insulating layer on the wiring patterns, while taking into account the area ratio of the second insulating layers for buring wiring patterns and all the wiring patterns having a signal pattern and a dummy pattern, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

配線パターンを埋め込むための第2の絶縁層と、シグナルパターンとダミーパターンとを有する配線パターン全ての面積率を考慮し、配線パターン上の第2の絶縁層の厚みを制御することで電磁気的・放熱的に優れ、かつ高い接続信頼性を有するビアホールを備えた多層配線基板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

This repair method fills a missing part of a barrier rib formed on a substrate and its vicinity with a photosensitive resin composition, forms a relief pattern in an area excluding the missing part by applying a photolithography method so as to form the missing part into a recessed part, fills the recessed part with a barrier rib material, and removes the relief pattern.例文帳に追加

基板上に設けられた障壁の欠落部分及びその近傍に感光性樹脂組成物を充填し、フォトリソ法を適用して前記欠落部分以外の部分にレリーフパターンを形成して前記欠落部分が凹部となるようにし、この凹部に障壁材料を充填し、レリーフパターンを除去することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの障壁の補修方法。 - 特許庁

One transparent electrode pattern 10b, facing the liquid crystal driving part 14, is made to be energized through a connecting terminal pattern 15b of the film substrate 12 positioning on the opposite side, whereby both patterns 10a, 10b are electrically connected via a conductive material 16 in an area between both film substrates 12, 13 in the vicinity of the outside near the corner of the sealing material 11.例文帳に追加

その液晶駆動部14に面した一方の透明電極パターン10bは、対面側に位置するフィルム基板12の接続端子パターン15bを通じて通電状態とされるために、シール材11のコーナ付近外側近傍にて両フィルム基板12,13間においては、導電材16を介して両パターン10bが電気的に接続されている。 - 特許庁

To provide a transferring mask for charged particles which can correct a location of a circuit pattern transferred on a wafer by locating a non-penetration pattern for measuring a coordinate of a position in a margin area (skirt portion) within a self-supporting membrane, to provide a method of manufacturing it, and to provide a method of transferring using the transferring mask for the charged particles.例文帳に追加

自立メンブレン内のマージン領域(スカート部)に非貫通の位置座標測定用パターンを設けることにより、ウェハ上に転写される回路パターン位置を補正できるようにした荷電粒子用転写マスク及びその製造法並びにその荷電粒子用転写マスクを用いた転写方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A vehicular headlight device 10 includes a lighting fixture 20H for high beam which forms a light distribution pattern for high beam including an area above the cut-off line of the light distribution pattern for low beam, and a headlight device control ECU 40 which acquires information from a vehicle detector 150 and a navigation system 144 and controls the irradiation of the lighting fixture 20H for high beam.例文帳に追加

車両用前照灯装置10は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含むハイビーム用配光パターンを形成するハイビーム用灯具20Hと、車両検出装置150およびナビゲーションシステム144から情報を取得し、ハイビーム用灯具20Hの照射を制御する前照灯装置制御ECU40と、を備える。 - 特許庁

In additon, a pattern with a specified area ratio of the dot forming region is formed by printing by reciprocating scanning with different speed in accordance with the mode of a printing apparatus and optical characteristics of the pattern are measured and the measured optical characteristics are applied to the above described function to obtain an adjusted value of the condition on dot forming position between printings on reciproducing scanning on each mode.例文帳に追加

そしてプリント装置のモードに応じて速度を異ならせた往復走査でのプリントにより所定のドット形成域の面積率を持つパターンを形成させ、そのパターンの光学特性を測定し、当該測定された光学特性を前記関数に適用して、往復走査でのプリント間のドット形成位置条件の調整値を各モード毎に得る。 - 特許庁

The optical diffusing film wherein the columnar minute area having the refractive index varied in the perpendicular direction of the resin layer is formed to change the scattering property by an angle of incidence of light is manufactured by using the mask which has the pattern consisting of areas for transmitting light and the pattern intercepting light and in which black defects which occur are partially removed.例文帳に追加

樹脂層の厚み方向に屈折率が異なる柱状の微小領域を形成し、光の入射角度によって散乱性が変化する光拡散フィルムを、光を透過する領域からなるパターンと、光を遮断するパターンを有し、かつ発生した黒欠陥を部分的に除去したマスクを用いることにより解決した。 - 特許庁

A photoresist pattern 35 is formed so that an aperture width of an aperture 35K is gradually narrowed as the aperture approaches a seed layer 12 by exposing a photoresist film to light while a reflection suppressing layer 31 is formed in an area F1 to perform patterning and then a precursor magnetic pole partial layer 13AZ is formed in the aperture 35K of the photoresist pattern 35.例文帳に追加

領域F1に反射抑制層31を形成した状態においてフォトレジスト膜を露光してパターニングすることにより、開口35Kの開口幅がシード層12に近づくにしたがって次第に狭まるようにフォトレジストパターン35を形成したのち、そのフォトレジストパターン35の開口35Kに前駆磁極部分層13AZを形成する。 - 特許庁

For frequency adjustment, the correction pattern 10 formed in the maximum resonance current area of an object mode to be adjusted is cut, to vary the inductance component of the pattern 10 and thus vary the electrical length, thereby adjusting the resonance frequency of the frequency adjustment object to a set frequency.例文帳に追加

周波数調整を行う際には、周波数調整対象のモードの最大共振電流領域に形成されている直列インダクタンス成分の修正用パターン10を切削して該パターン10のインダクタンス成分を変化させて電気長を変化させることにより、周波数調整対象の共振周波数を設定の周波数に一致させる。 - 特許庁

Since a special ball pocket 31 includes a wing piece part 33 to be controlled on the basis of a special symbol variation pattern, even when the player hits a game ball to a game area 28 in order to enter the special ball pocket 31, the ball entry becomes easy or difficult depending on the special symbol variation pattern.例文帳に追加

特別入球口31には特別図柄変動パターンに基づいて制御される翼片部33が設けられているため、遊技者が特別入球口31への入球を目指して遊技球を遊技領域28に発射させても、特別図柄変動パターンによっては入球し易くなったり、または、入球し難くなったりする。 - 特許庁

The method for manufacturing the plated substrate is based on an electroless plating method and includes a process for forming a catalyst layer on an area except a prescribed pattern on a substrate and a process for forming a metal layer having the prescribed pattern by depositing a metal on the substrate by dipping the substrate in an electroless plating solution.例文帳に追加

本発明にかかるめっき基板の製造方法は、無電解めっき法によりめっき基板を製造する方法であって、基板上の所定のパターン以外の領域に触媒層を設ける工程と、無電解めっき液に前記基板を浸漬することにより、基板上に金属を析出させて前記所定のパターンの金属層を設ける工程と、を含む。 - 特許庁

In the case a user uses caller information sent from a line to make a callback, when edit of the telephone number is required, the telephone system of this invention stores its area code and an edit pattern so that the telephone system can automatically edit the telephone number having the same area code thereby allowing the user to easily make a callback.例文帳に追加

ユーザーが回線から送られてくる発呼者情報を使用してコールバックを行う際に、電話番号を編集する必要があった場合には、そのエリアコードと編集パターンを記憶していくことにより、以後同じエリアコードを持つ電話番号は電話装置が自動的に編集できるようにとたもので、これにより、ユーザーは簡単にコールバックできることとなる。 - 特許庁

An effective area judging part 14 sets a retrieving window on inputted document picture data, shifts this retrieving window to specify the judging picture from the document picture data and extracts document layout information corresponding to the pattern of the specified judging picture from the table 13 to generate size information of the effective area.例文帳に追加

有効領域判定部14は、入力された文書画像データ上に検索窓を設定し、この検索窓をシフトさせて当該文書画像データから判定画像を特定するとともに、特定した判定画像のパターンに対応する文書レイアウト情報を判定画像テーブル13より抽出して有効領域のサイズ情報を生成する。 - 特許庁

This method of manufacturing display device includes a step of patterning a resist layer 2 having a thickness excluding the thickness of the thickest resist film of a plurality of resist films having different film thicknesses in an area 13 other than a display area in a photoengraving process in which the plurality of resist films are provided for forming the pattern of the display device on the surface of a substrate 5.例文帳に追加

基板5表面上に表示装置のパターンを形成するために、複数のレジスト膜厚を設ける写真製版工程において、表示領域以外の領域13に、前記複数のレジスト膜厚のうち、最も厚いレジスト以外の厚さを有するレジスト層2をパターン形成する工程を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 特許庁

The spray gun for coating small area, which is capable of making a spray pattern of a coating material narrow and long, excellently micronizing the coating material and easily performing the gradation coating even in a coating area of40 cm by applying the spray gun having the air cap 11 mounted to a spray gun main body having 0.6-1.4 mmϕ coating material nozzle diameter is obtained.例文帳に追加

この空気キャップ11を塗料ノズル口径0.6〜1.4mmφのスプレーガン本体に装着したスプレーガンを採用することにより、塗料の噴霧パターンを細長くし、塗料の微粒化を良好にでき、ひいては40cm以下の塗装範囲でもボカシ塗装が容易に可能となる小面積塗装用スプレーガン得られる。 - 特許庁

At a bar code marking position on the surface of an object to be worked, loop-shaped marking is formed in the area of a square frame part 10a on each of segmenting symbols 10, eddy-shaped marking is formed in a square paint-out part 10b, and eddy-shaped marking of the same plotting pattern is formed in all black cells CEB inside a data area 12.例文帳に追加

被加工物表面のバーコードマーキング位置にて、各切出しシンボル10の正方形枠部10aの領域にループ状のマーキングが形成され、正方形塗り潰し部10bには渦巻き状のマーキングが形成され、データ領域12内の全ての黒セルCEB内には同一の描画パターンで渦巻き状のマーキングが形成される。 - 特許庁

Forms or results of overlaying forms and field data are divided into a few areas, in the respective divided areas, the number of graphic elements forming images is calculated, an optimal area to arrange the pattern is decided on the basis of the calculated number of graphic elements, and the design is arranged in the obtained optimal area.例文帳に追加

フォームあるいはフォームとフィールドデータをオーバレイした結果をいくつかの領域に分割し、それら分割された領域のそれぞれにおいて画像を形成する図形要素の多少を計算し、計算された図形要素の多少によって、地紋を配置するのに最適な領域を判定し、求められた最適な領域に地紋を配置する。 - 特許庁

As to an area in which an address given as a measurement test pattern continues over 16 bits on an LSB side, the address decoder 11 for selecting four ROMs 3A-3D mounted in the microcomputer outputs a decode signal for simultaneously selecting the ROMs 3A-3D corresponding to the area in receipt of an IDDQ test signal.例文帳に追加

マイコンに搭載される4つのROM3A〜3Dを選択するためのアドレスデコーダ11は、IDDQテスト信号が与えられると、測定用のテストパターンとして与えられるアドレスがLSB側の16ビットに亘り連続する領域については、その領域に対応するROM3A〜3Dを同時に選択するようにデコード信号を出力する。 - 特許庁

例文

A display area of a rendering display is divided into the plurality of display areas, and control concerned in the divided rendering and determination of control information are executed by a sub-overall-control board and a rendering display control board, in stead of a main control board, when carrying out the divided rendering for executing a pattern variable game in each display area after the dividing.例文帳に追加

演出表示装置の表示領域を複数の表示領域に分割し、その分割後の各表示領域で図柄変動ゲームを行わせる分割演出を行う場合、その分割演出に係る制御及び制御情報の決定を主制御基板に代えて、サブ統括制御基板及び演出表示制御基板で実行させる。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS