「Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(788ページ目) - Weblio英語例文検索

This invention includes a step of etching the object to be processed using the resist pattern as a mask, a step of irradiating the resist pattern through a photomask with light within a photosensitive wavelength region of the photosensitizer, and a step of removing the resist pattern on the object to be processed.例文帳に追加

また、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、若しくは、前記レジストパターンに、フォトマスクを介して前記感光剤の感光波長域の光を照射するステップ、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、前記被加工物上の前記レジストパターンを除去するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

The pattern processing paper includes a base layer and a pattern layer which is scattered on the surface of this base layer, where the base layer has natural pulp fibers, rayon fiber and binder and the pattern layer has rayon fiber aggregate and binder, and contains inorganic particles having a Mohs hardness of 3 to 6 in the base layer.例文帳に追加

本発明は、ベース層と、このベース層の表面に散在する模様層とを備え、上記ベース層が、天然パルプ繊維とレーヨン繊維とバインダーとを有し、上記模様層が、レーヨン繊維凝集体とバインダーとを有する模様加工紙であって、上記ベース層に、モース硬度が３以上６以下の無機粒子を含有することを特徴とする模様加工紙である。 - 特許庁

The personal computer 40 reads the selling price of the Sushi from the ID tag when the image recognizing device 42 recognizes the plate on the basis of the recognized image pattern to compare a standard pattern of the Sushi corresponding to the selling price with the recognized image pattern to judge a topping ingredient of the Sushi to write judged topping information in the ID tag.例文帳に追加

パソコン４０は、画像認識装置４２が認識した画像パターンに基づいて皿を認識したときは、ＩＤタグからすしの販売価格を読取り、その販売価格に対応したすしの標準パターンと認識した画像パターンとを比較することによりすしのネタを判断すると共に、判断したネタ情報をＩＤタグに書込む。 - 特許庁

At this time, the substrate S is etched with an ion beam, while controlling the tilt angle of the substrate so that the incident direction of the beam at the previously-found position on the element becomes parallel to a pattern sidewall for obtaining a pattern for the optical element having the pattern sidewall parallel with respect to the incident beam to the element.例文帳に追加

このとき、先に求めた回折光学素子上の任意の位置における光線の入射方向とパターン側壁とが平行になるように、基板Ｓのチルト角度を制御しながらイオンビームエッチングを行うことにより、回折光学素子に対する入射光線と回折光学素子パターン側壁が平行な回折光学素子用パターンを得る。 - 特許庁

An element isolation region is formed in a boundary of the element isolation region by forming a dielectric pattern locally in a boundary of an element region and carrying out etching using the dielectric pattern as a mask, and thereafter a semiconductor film is formed in an element region adjacent to the element isolation region by selective growth using the dielectric pattern as a mask.例文帳に追加

誘電体パターンを素子領域の境界部に局所的に形成し、前記誘電体パターンをマスクにエッチングを行うことで素子分離領域を前記素子領域の境界部に形成し、その後、前記素子分離領域に隣接する素子領域に半導体膜の成膜を、前記誘電体パターンをマスクとした選択成長によりに実行する。 - 特許庁

To provide an optical unit for a vehicle headlight can make light intensity of a prescribed region within a prescribed light distribution pattern formed by superimposing an additional light distribution pattern formed by one of the reflecting surfaces on a basic light distribution pattern formed by the other lower than light intensity around the prescribed region.例文帳に追加

一方の反射面により形成される基本配光パターンに他方の反射面により形成される付加配光パターンを重畳させることにより形成される所定配光パターン中の所定領域の光度を、該所定領域周囲の光度よりも低下させることが可能な車両前照灯用光学ユニットを提供する。 - 特許庁

The GPU 15 specifies a shape of a diagram being a plotting object, and selects a kind of interleave pattern adapted to the specified diagram shape, and sets so that the same pattern does not overlap in the interleave patterns even when any kind of interleave pattern is selected in the picture element areas designated by the frame buffer 18.例文帳に追加

ＧＰＵ１５は、描画対象となる図形の形状を特定し、特定された図形の形状に適合するインターリーブパターンの種類を選定するとともに、フレームバッファ１８で指定される画素領域が、どの種類のインターリーブパターンが選定された場合であっても当該インターリーブターン内で同一のものが重複しないように設定する。 - 特許庁

The method for film forming the organic semiconductor layer comprises the steps of forming an electrically-charged region having the desired pattern on a substrate, and making the electrically-charged region that has the desired pattern absorb the organic semiconductor material, by making the formed electrically-charged region, having the intended pattern contact an organic semiconductor material solution.例文帳に追加

基板の上に所望のパターンの帯電領域を形成する帯電領域形成工程と、形成された所望のパターンの帯電領域を有機半導体材料の溶液に接触させて、該有機半導体材料を該所望のパターンの帯電領域に吸着させる工程と、を含むことを特徴とする有機半導体層の成膜方法。 - 特許庁

The method for forming a metallic pattern 10 is characterized by irradiating infrared laser 8, under vacuum, at a laminated body 1 for forming a metal pattern including a photothermal conversion layer 3 and a metal transfer layer 4, evaporating the metal transfer layer in a region 9 where the infrared laser has been irradiated, and forming a metal pattern on a contactless transferred body 5.例文帳に追加

光熱変換層３と金属転写層４とを有する金属パターン形成用積層体１に真空下で赤外レーザー８を照射し、該赤外レーザーを照射した領域９の金属転写層を蒸発させて、非接触の被転写体５の上に金属パターンを形成することを特徴とする金属パターン１０の形成方法。 - 特許庁

To provide a method for forming a micro pattern by proximity field exposure by which a micro pattern having a high aspect ratio can be formed in an image formation layer with film thickness enough not to generate any defect such as pin hole or the like, when forming the micro pattern by proximity field exposure while the mask is made close to the image formation layer.例文帳に追加

マスクを像形成層に近接させて近接場露光によって微細パターンを作製するに際して、ピンホール等の欠陥の生じない厚さの膜厚に形成された像形成層に対して、高アスペクト比を有する微細パターンを作製することが可能となる近接場露光による微細パターンの作製方法を提供する。 - 特許庁

Second higher harmonics are generated by performing wavelength conversion by a nonlinear effect of a nonlinear element by irradiating an antenna pattern with pulse light at a state wherein bias voltage is applied on the antenna pattern by arranging the nonlinear element on the antenna pattern formed on the surface of a substrate and the terahert waves are generated by operating an optical switch by the second higher harmonics.例文帳に追加

基板の表面に形成されたアンテナパターンの上に、非線形素子を配置してバイアス電圧を印加した状態で、アンテナパターンにパルス光を照射することで、非線形素子の非線形効果による波長変換を行なって第２高調波を発生し、その第２高調波で光スイッチを動作させることによってテラヘルツ波を発生させる。 - 特許庁

The electrode structure 10 of the parallel MOSFET circuit can secure the area (the mounting area of parts) for mounting the parts such as the other circuit for the whole area of the printed circuit board 4 and an area (the formation area of a pattern) for forming the pattern, can widen the width of the pattern, and is suitable for high density as a product.例文帳に追加

本発明の並列ＭＯＳＦＥＴ回路の電極構造１０では、プリント基板４の全領域に対して他の回路のような部品を実装するための領域（部品の実装領域）、パターンを形成する領域（パターンの形成領域）が確保できる上にパターンの幅も広くでき、製品としての高密度化に適している。 - 特許庁

A designated background pattern and a composite pattern are outputted as a reference print, and after an image for composition and a composite position are designated using the reference print, and the image for composition and composition position are extracted by reading the reference print, and a composite image is prepared by using the original image of the pattern using extracted information.例文帳に追加

指定された背景パターンおよび合成パターンを参照プリントとして出力し、前記参照プリント用いた合成用画像および合成位置の指定の後、参照プリントを読み取って合成用画像および合成位置を抽出し、この抽出情報を用いて、パターンのオリジナル画像を用いて合成画像を作成することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having sensitivity to active light rays such as far-ultraviolet light represented by an ArF excimer laser, for example, superior in the flatness of a pattern surface without impairing fundamental material properties such as transparency to radiation, sensitivity, a resolution, and a pattern shape, and useful as a chemical amplification type resist which is improved against pattern collapse on a substrate.例文帳に追加

活性光線、例えばＡｒＦエキシマレーザー等に代表される遠紫外線等に感応し、放射線に対する透明性、感度、解像度、パターン形状等の基本物性を損なわずに、パターン表面の平滑性に優れ、かつ基板上でのパターン倒れが改善された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The design sheet 1 having the metallic-luster-finished window frame pattern includes: a metallic-luster-finished design layer 30 formed from a window frame pattern 3 on a transparent substrate sheet 7 and including at least one high refractive dielectric layer 10; and a concealing layer 40 formed so as to match the window frame pattern 3 of the metallic-luster-finished design layer 30.例文帳に追加

金属光沢調窓枠柄を有する意匠シート１は、透明な基体シート７上に窓枠パターン３で形成され、少なくとも１層の高屈折誘電体層１０を含む金属光沢調意匠層３０と、前記金属光沢調意匠層３０の窓枠パターン３と同調するように形成された隠蔽層４０と、を備えている。 - 特許庁

Then, an insulating film 7 mainly composed of polyester plastic is formed on the coil pattern 4c existent between the terminal part 4b and the outside terminal of the coil pattern 4c with the screen printing means and afterwards, a jumper 4e for connecting the terminal part 4b and the outside terminal of the coil pattern 4c is formed on the insulating film 7 with screen printing means.例文帳に追加

そして、終端部４ｂとコイルパターン４ｃの外側終端との間に存在するコイルパターン４ｃ上にポリエステル系プラスチックを主成分にした絶縁膜７をスクリーン印刷手段によって形成し、その後、絶縁膜７上に終端部４ｂとコイルパターン４ｃの外側終端とを接続するジャンパ４ｅをスクリーン印刷手段によって形成する。 - 特許庁

The method for forming a photoresist pattern includes steps of irradiating a photoresist structure 12 which includes an antireflection film 14 on a base 13 and a resist pattern 16 comprising a chemically amplified photoresist in contact with the antireflection film and on the antireflection film, with energy rays, and then heating the photoresist structure at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature and lower than the melting point of the resist pattern.例文帳に追加

下地１３上の反射防止膜１４と、反射防止膜と接触し、かつ反射防止膜上の化学増幅フォトレジストからなるレジストパターン１６とを含むフォトレジスト構造体１２に、エネルギー線を照射し、その後、フォトレジスト構造体を、レジストパターンのガラス転移点以上かつ融点未満の加熱温度で加熱する - 特許庁

The components of a control circuit protected by a protection part 37 are mounted on the multi- layer circuit board 30, and the connections are generated by middle layer pattern wirings 33 and 34, obverse surface pattern wiring 35, and rear surface pattern wiring 36, wherein the layers of the multi-layer wiring board 30 are connected by interstitial via holes 39 and bias holes 40.例文帳に追加

保護部３７によって保護される制御回路の各部品は、多層プリント配線板３０に搭載され、各部品は、中層パターン配線３３，３４、表面パターン配線３５、裏面パターン配線３６の各パターン配線により接続され、多層プリント配線板３０の各層は、インタスティシャルバイアホール３９、バイアホール４０により接続されるパターン配線構造とする。 - 特許庁

To provide a pinball game machine generating the capability of making a player continuously do a pinball game machine enhancing the Interest of the game by making the player positively participate during the progress of the game to raise expecting feeling to the game and making it possible to change symbols constituting a probability valuable pattern and the pattern constituting a non-probability valuable pattern.例文帳に追加

遊技者を積極的に遊技の進行に参加させることにより、遊技への期待感を高めるとともに、確変図柄を構成する図柄や非確変図柄を構成する図柄を変更可能にすることで、遊技の面白みを増やして遊技者に弾球遊技を継続して行わせ得る可能性が生ずる弾球遊技機を提供する。 - 特許庁

The current pattern data of a power supply body 10 controlled based on a signal which a current pattern generator 1 receiving the input of a signal from a current pattern control device 20 outputs is created as reference data stored in a reference data memory unit 5 and a predetermined constant stored in a constant register 4 are read and multiplied with each other.例文帳に追加

電流パターン制御装置２０からの信号を入力する電流パターン発生器１の出力する信号を基に、制御される電源本体１０の電流パターンデータが、基準データメモリ部５に格納されている基準データと、定数レジスタ４に格納されている所定の定数が読み出され乗算されることによって作成される。 - 特許庁

First, second and third pattern display plates 81, 82 and 83 for respectively displaying the variable patterns are provided in a pattern display device 35, and the first, second and third pattern display plates 81, 82 and 83 can be slidably driven in a vertical direction respectively by a sliding mechanism and first, second and third actuators M1, M2 and M3.例文帳に追加

図柄表示装置３５にあって、変動図柄をそれぞれ表示する第１、第２、及び第３図柄表示板８１，８２，８３を設け、それら第１、第２、及び第３図柄表示板８１，８２，８３をスライド機構と第１、第２、及び第３アクチュエータＭ１，Ｍ２，Ｍ３とによってそれぞれ上下方向にスライド駆動可能に構成する。 - 特許庁

The integrated circuit chip 10 comprises a semiconductor substrate 11 having cell regions A_cell1, A_cell2 and a peripheral region A_peri, a chip pad wiring pattern 12 formed on the substrate 11, a protective film 16 covering the pattern 12, and relocated chip pads 17 connected to the pattern 12 and formed on the regions A_cell1, A_cell2.例文帳に追加

集積回路チップ１０は、セル領域Ａ_cell1、Ａ_cell2と周辺領域Ａ__periを有する半導体基板１１と、半導体基板１１上に形成されたチップパッド配線パターン１２と、チップパッド配線パターン１２を覆う保護膜１６と、チップパッド配線パターン１２と接続されセル領域Ａ_cell1、Ａ_cell2上に形成された再配置チップパッド１７とを備える。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a multilayer wiring substrate which uses a pattern formation method (a semi-additive method and a subtractive method) for each layer according to pattern width and pattern density of a wiring layer, by discriminating a layer with a fine wiring layer (such as a signal wiring layer) and a layer with a relatively rough layer appropriately, and to provide the multilayer wiring substrate.例文帳に追加

微細な配線層（例えば、信号配線層等）を有する層と比較的粗い配線層を有する層とに層別し、配線層のパターン幅及びパターン密度に応じて、層毎にパターン形成方法（セミアディテイブ法、ブトラクティブ法）を使い分ける多層配線基板の製造方法及び多層配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

In this semiconductor device, electric continuity is made from a surface pattern 3 formed on a surface 2 of a semiconductor element 1 to the rear 6 of the element 1 via through holes 4, a rear pattern 8 connected with the through holes 4 is formed on the rear 6 of the element 1, and lands 9 as external terminals linked with the rear pattern 8 are formed.例文帳に追加

半導体素子１の表面２に形成した表面パターン３からスルーホール４を介して半導体素子１の裏面６に導通をとり、この半導体素子１の裏面６に前記スルーホール４に接続された裏面パターン８を形成すると共に、同裏面パターン８に繋がる外部端子としてのランド９を形成してなる半導体装置。 - 特許庁

To provide a polymeric ultrathin film and a pattern thereof, having little variance in the film thickness and excellent adhesiveness to a substrate, showing sufficient pattern resolution by irradiation exposure to electron beams, short-wavelength exposure light or the like, and having a structure controlled in a nanometer level, and to provide a method for forming a polymeric ultrathin film pattern.例文帳に追加

本発明は、膜厚のバラツキが少なく、かつ基板との密着性に優れ、電子線や短波長の露光光などの照射露光によって十分なパターン解像度を示し、ナノメートルレベルで構造制御された高分子超薄膜およびそのパターン、並びに、高分子超薄膜パターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A controller 1 compares a first light dimming stage at a starting period of the light dimming pattern, a second light dimming stage at an ending period of the light dimming pattern, and a third light dimming stage directly before starting of dimming of the light dimming pattern, in dimming lighting loads LA, LB by reading out light dimming patterns stored in a storage 4.例文帳に追加

制御部１は、記憶部４に記憶されている調光パターンを読み出して照明負荷ＬＡ，ＬＢを調光する際、調光パターンの始期における第１の調光段階と、調光パターンの終期における第２の調光段階と、調光パターンの調光を開始する直前の第３の調光段階とを比較する。 - 特許庁

To provide a method for making, on a semiconductor surface, a desired pattern having depth changed depending on the place thereof, by using a first mask having a desired pattern and a second mask for controlling the amount of etching seeds diffused in an opening of the desired pattern, the method providing a distribution corresponding to the change in depth, of supply of etching seeds contributing etching.例文帳に追加

所望のパターンを有する第１のマスクと、所望のパターンの開口部に拡散されるエッチング種の量を制御するための第２のマスクとを用いて、深さが場所によって変化する前記所望のパターンを半導体表面に作製するための方法において、エッチングに寄与するエッチング種の供給に前記深さの変化に対応した分布を設ける。 - 特許庁

To provide an alkaline soluble polymer having a low hardening shrinkage and excellent in physical properties of the hardened film, a photosensitive resin composition excellent in pattern shape, chemical resistance, physical properties and storing stability of cured products even in curing at a low-temperature region, a manufacturing method of cured relief pattern using the composition, and to provide a semiconductor device comprising the cured relief pattern.例文帳に追加

硬化収縮が低く、かつ硬化膜の物性に優れるアルカリ可溶性重合体、及び低温領域でのキュアによっても、キュア後のパターン形状、耐薬品性、物性や保存安定性に優れた感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、並びに該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置などの提供。 - 特許庁

The determining apparatus includes a projector 21 for projecting a pattern on a surface of a translucent resin 15, a CCD camera 22 for photographing the pattern projected on the surface of the translucent resin 15, and an arithmetic processing unit 23 for determining the surface shape or filling amount of the translucent resin 15 based on a pattern image captured by the CCD camera 22.例文帳に追加

透光性樹脂１５の表面にパターンを投影する投影装置２１と、透光性樹脂１５の表面に投影されたパターンを撮影するＣＣＤカメラ２２と、ＣＣＤカメラ２２によって撮影されたパターン画像に基づき透光性樹脂１５の表面形状もしくは充填量を判定する演算処理部２３とを備えている。 - 特許庁

When selecting a variation pattern for a game ball which has entered a first winning port 105 in the game state with time shortening, which is changed by the change part 304, a selection part 305 selects the variation pattern using a special variation pattern table having extremely short variation time, which is set in a table setting part 303.例文帳に追加

選択部３０５は、変更部３０４によって変更された時短付き遊技状態において、第１始動口１０５に入賞した遊技球に対する変動パターンを選択する場合には、テーブル設定部３０３に設定される、極めて短時間の変動時間を有する特殊変動パターンテーブルを用いて、変動パターンを選択する。 - 特許庁

The top and bottom determination part 27 performs the matching of each character pattern when the direction of a character pattern shown by image data is set to each of vertical and horizontal four directions with the character pattern of dictionary data by referring to the dictionary data of Japanese and the dictionary data of English, and determines the top and bottom direction of the image data based on the result of matching.例文帳に追加

天地判定部２７は、日本語の辞書データおよび英語の辞書データを参照して、画像データに示される文字パターンの方向を上下左右の４方向の各々にした場合の各文字パターンと前記辞書データの文字パターンとのマッチングを行い、前記マッチングの結果に基づいて前記画像データの天地方向を判定する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a preliminarily determined pattern such as a grating, comb-shaped and circular pattern can be formed in a single film forming process using a single mask under conventional various mask use environments such as high temperature, low temperature, vacuum and gas atmospheres, and to provide a patterned substrate prepared by the method, and a solar cell element using the substrate.例文帳に追加

従来の高温・低温・真空・ガス雰囲気中などの様々なマスク使用環境下で、格子状、櫛形、環状などの所定のパターンの成膜を、単独のマスクを用いて１回の成膜で行うことができるパターン形成方法、該方法によって作成されたパターン形成基板、及び該基板を用いた太陽電池素子の提供。 - 特許庁

After a projected pattern layer 2, wherein a plurality of conductive particles are partially fused within the layer, is formed by printing the ink of conductive composition including the conductive particles and binder resin in the form of a pattern on a transparent basic material 1, a metal layer 3 is formed as an electromagnetic wave shielding material 10, by electrolytic plating on the front surface of the projected pattern layer.例文帳に追加

透明基材１上に、導電性粒子とバインダ樹脂を含む導電性組成物のインキをパターン状に印刷して、層内部で複数の導電性粒子が部分的に融合している凸状パターン層２を形成した後、この凸状パターン層の表面に電解めっきで金属層３を形成して電磁波シールド材１０とする。 - 特許庁

A mask case that accommodates a mask on which a cylindrical pattern face is formed around a certain center axis includes a case body that forms a storage space for storing the mask and includes a window facing the pattern face of the mask stored in the storage space, and a regulation part that regulates a movement of the mask to prevent the pattern face from contacting the case body.例文帳に追加

所定の中心軸線周りに円筒面状にパターン面が設けられたマスクを収容するマスクケースであって、マスクを収容する収容空間を形成し、収容空間に収容されたマスクのパターン面に対向する窓部が設けられたケース本体と、パターン面がケース本体に接触しないようにマスクの移動を制限する制限部と、を備える。 - 特許庁

To provide a projector type headlight for a vehicle, switching between light distribution patterns for low beams and for high beams, in which hot zones for both the light distribution pattern for low beams and the light distribution pattern for high beams secure sufficient brightness, and each light distribution pattern contains the optimal shape and a light intensity distribution.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンとハイビーム用配光パターンの切換えが可能なプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンのホットゾーンとハイビーム用配光パターンのホットゾーンが共に十分な明るさを確保することができ、且つ夫々の配光パターンが最適な形状及び光度分布を有するようにすることにある。 - 特許庁

The travel plan generating device 1 for generating a travel speed pattern as a speed control target of a vehicle, includes an ECU 2 for acquiring deceleration information of a preceding vehicle that travels in front of the vehicle, and generating a speed pattern for stop as a travel speed pattern for stopping the vehicle based on the acquired deceleration information.例文帳に追加

本発明は、車両の速度制御目標である走行速度パターンを生成する走行計画生成装置１であって、車両の前方を走行する先行車両の減速情報を取得し、取得した減速情報に基づいて、車両を停止させるための走行速度パターンである停止用速度パターンを生成するＥＣＵ２を備える。 - 特許庁

To provide correction methods for a photomask capable of correcting an auxiliary pattern of the photo mask, when the auxiliary pattern is resolved on a surface to be transferred by a reliable and compatibly easy method in the photo mask having an ArF excimer laser as an exposure light source and having the auxiliary pattern used for projection exposure by means of deformation illumination, and to provide a corrected photomask.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザを露光光源とし、変形照明による投影露光に用いられる補助パターンを有するフォトマスクにおいて、補助パターンが転写対象面に解像されてしまう場合のフォトマスクを、確実で比較的容易な方法により補助パターンを修正するフォトマスクの修正方法および修正されたフォトマスクを提供する。 - 特許庁

The screen 20 which has the diffusion function of diffusing incident light and also includes a pattern 22b for coordinate recognition wherein coordinates on a surface 20a are patterned by the predetermined algorithm, includes a support base material 21 and the layer of the pattern 22 for the coordinate recognition, which is supported by the support base material 21 and includes the pattern 22b for the coordinate recognition.例文帳に追加

入射した光を拡散させる拡散機能を持つとともに、表面２０ａ上の座標が所定のアルゴリズムでパターン化された座標認識用パターン２２ｂを含むスクリーン２０は、支持用基材２１と、支持用基材２１により支持され、座標認識用パターン２２ｂを含む座標認識用パターン２２層とを備えている。 - 特許庁

The lithography simulation method includes steps of: applying defocus processing to an image formation condition of lithography simulation by referring to a table with a relationship between the dimension of a mask pattern of a simulation object and a defocus amount specified therein; and calculating the dimension of a transfer pattern corresponding to the mask pattern using the image formation condition with the defocus processing applied thereto.例文帳に追加

リソグラフィシミュレーションの結像条件に対して、シミュレーション対象のマスクパターンの寸法とデフォーカス量との関係が規定されたテーブルを参照してデフォーカス処理を施す工程と、前記デフォーカス処理が施された結像条件を用いて前記マスクパターンに対応する転写パターンの寸法を算出する工程と、を備えたリソグラフィシミュレーション方法である。 - 特許庁

A display device includes: an LED 3 to which one of two electrodes supplied with electric power is connected by a wire 7; and the wiring board 2 having a mounting pattern 221 mounted with the LED 3, and a first wire connection pattern 222x and a second wire connection pattern 222y to which wires are connected, formed on an insulating substrate 21.例文帳に追加

表示装置は、電源が供給される２つの電極のうち、一方の電極がワイヤ７で接続されたＬＥＤ３と、ＬＥＤ３が搭載された搭載パターン２２１とワイヤが接続された第１ワイヤ接続パターン２２２ｘおよび第２ワイヤ接続パターン２２２ｙとが絶縁性基板２１に形成された配線基板２とを備えている。 - 特許庁

There is provided an antenna pattern frame according to an exemplary embodiment of the present invention, including: a film radiator that includes a protective film supporting one surface or both surfaces of a radiator provided with an antenna pattern part; and a radiator frame that is an injection molded part to which the film radiator is fixed and that embeds the antenna pattern part in the electronic device case.例文帳に追加

本発明の一実施例によるアンテナパターンフレームは、アンテナパターン部が形成される放射体の一面または両面を支持する保護フィルムを含むフィルム放射体と、前記フィルム放射体が固定される射出体であって、前記アンテナパターン部が電子装置のケースの内部に埋め込まれるようにする放射体フレームと、を含むことができる。 - 特許庁

The multiple patterns include: a first pattern for generating a requested value accompanying a start of an engine; a second pattern for generating a requested value after the start of the engine while generating no request value during the start of the engine; and a third pattern for generating no request value both during and after the start of the engine.例文帳に追加

複数のパターンは、エンジンの始動開始にともなって要求値を発生させる第１のパターンと、エンジンの始動中には要求値を発生させない一方、エンジンが始動した後に要求値を発生させる第２のパターンと、エンジンの始動中およびエンジンが始動した後のいずれにおいても要求値を発生させない第３のパターンとを含む。 - 特許庁

The mask assembly includes an open mask having a plurality of first openings formed, and a pattern mask coupled to the open mask, the pattern mask having a plurality of second openings disposed within an area bounded by the first openings, wherein the open mask is formed of a material having a thermal expansion coefficient that is lower than a thermal expansion coefficient of the pattern mask.例文帳に追加

マスク組立体は、複数の第１開口部が形成されるオープンマスクと、前記オープンマスクに接合され、前記第１開口部内側に位置する複数の第２開口部が形成されるパターンマスクとを含み、前記オープンマスクは前記パターンマスクに比べて相対的に小さい熱膨脹係数を有する物質で形成されることを特徴とする。 - 特許庁

To measure an output voltage of a circuit pattern using a tester with no extra space required for forming a test point on a substrate body that has the circuit pattern, related to a circuit board where a plurality of signal lines of a flexible flat cable are connected to the circuit pattern of the substrate body.例文帳に追加

フレキシブルフラットケーブルの複数の信号ラインが基板本体の回路パターンに接続されている回路基板において、回路パターンを有する基板本体にテストポイントを形成するためのスペースを余分に設ける必要性を無くしているにもかかわらず、回路パターンの出力電圧の測定をテスタを用いて測定することができるようにする。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition capable of pattern formation that is improved in the pattern collapse, line edge roughness and scum occurrence, being free from any profile deterioration, and that exhibits appropriate following properties for the liquid for liquid immersion at the stage of liquid immersion exposure, while improving performance of reducing bubble defects, and to provide a method of forming a pattern with the use of the composition.例文帳に追加

現像欠陥、ラインウィズスラフネス、スカムの発生が抑制され、パターン形状に優れたパターンを形成することが可能で、更に液浸露光時の液浸液に対する追随性が良好であり、バブル欠陥抑制の諸性能も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁