「each process」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

The information generated at each manufacturing timing such as an NC programming detailed process design, a work reception, an NC tape assembly, a work setting, and a machining or the like is input from a terminal after planning the machining schedule.例文帳に追加

加工スケジュール計画後に、ＮＣプログラミング詳細工程設計、ワーク入荷、ＮＣテープ組立、ワークセット、加工等の各製作タイミングで発生した情報を端末から入力する。 - 特許庁

In a gas feeding process, carrier gas is fed to a bubbling apparatus 4 by the selective operation of a plurality of mass flow controllers 6a to 6c which are arranged in parallel and whose full scales are different from each other.例文帳に追加

ガス供給工程で、並列に配置されたフルスケールの異なる複数個のマスフローコントローラ６ａ〜６ｃの選択的な作動によりキャリアガスをバブリング装置４に供給する。 - 特許庁

The guide plates 11a to 11f rectify each reactive gas guided into the process chamber 2 and guide it to a specified region on the surface of wafer W placed on the placement part 7A.例文帳に追加

ガイド板１１ａ〜１１ｆは、処理チャンバ２内に導入された各反応ガスを整流して、載置部７ａに置かれたウェハＷ表面の所定領域に導くものである。 - 特許庁

In the wafer test process, a test time criterion value is calculated from test time achievements in the past for each product and each measurement conditions, and actual test time is compared with the criterion value for every notice of wafer end from a device such as a tester thus performing GO/NO-GO test.例文帳に追加

ウエハのテスト工程にて、各製品毎、測定条件毎の過去のテスト時間実績からテスト時間判定基準値を算出し、テスタ等の装置からのウエハ終了通知毎に、実際のテスト時間と、判定基準値とを比較し良否判定を行う。 - 特許庁

The image adjustment processing unit executes a process for restraining signal intensity to pixels each having a value below the threshold that determined from the standard deviation of the signal intensity of each image signal of a high-frequency band component out of the image signals obtained by the biorthogonal wavelet conversion and the binominal wavelet conversion.例文帳に追加

そして、双直交ウェーブレット変換及び二項ウェーブレット変換で得られた画像信号のうち、高周波帯域成分の画像信号の信号強度の標準偏差から決定された閾値以下の画素に対して、信号強度を抑制する処理を行う。 - 特許庁

To provide a device and method for supporting quality improvement which facilitate the search and extraction of a viewpoint while preventing viewpoint omission in each step of development so that viewpoints fostered in the process of developing each business can be used for various businesses.例文帳に追加

各業務を開発する過程で培ってきた観点について様々な業務で使用できるにして、開発の各段階の工程で観点洩れを防ぎ、観点を検索・抽出しやすい品質向上支援装置および品質向上支援方法を提供する。 - 特許庁

The operator inputs the operation journal data, the inputted operation journal data are classified in each product, the data of a product selected by a manager are taken out (#90), and times needed to manufacture the product are summed up for each part and process routine (#91, 92 and 93).例文帳に追加

作業者の業務日報データが入力され、入力された業務日報のデータを製品別に分け、管理者により選択された製品のデータを取り出し（＃９０）、その製品を製作するために要した時間を、部品及び工程のルーチン毎に集計する（＃９１，９２，９３）。 - 特許庁

The coordinate transformation functions are calculated for each aforementioned group, which transform each value obtained by measuring the control points common among the different groups by the different groups into the same or very approximating coordinate points (the calculation process of control point coordinate transformation functions).例文帳に追加

異なるグループ間で共通した基準点を異なるグループで測定して得られたそれぞれの値を同一あるいは極めて近似する座標点に座標変換する座標変換関数を前記グループごとに算出する（基準点座標変換関数算出工程）。 - 特許庁

To provide a standard curriculum and execution procedure for each improvement theme with the reconstruction of a product development process suited to the characteristics of three-dimensional design in mind, and to provide a method of deriving a procedure suited to present situations different in each company.例文帳に追加

３次元設計の特性に合った製品開発プロセスの再構築を念頭においた、改善テーマごとの標準的なカリキュラムと実施手順の提供、および企業ごとに異なる現在の状況に合わせた手順の導出方法の提供を行なう。 - 特許庁

This process control system is provided with a terminal state control table for managing the information of each terminal, and is configured to prevent double operation instructions by performing picture exclusive control and message display, and allows a computer main body to turn on/off the power source and picture task of each terminal.例文帳に追加

各端末機の情報を管理する端末状態制御テーブルを有し、画面排他制御ならびにメッセージ表示を行い２重の操作指示を防止し、計算機本体から各端末機の電源ならびに画面タスクのオンオフを行えるようにする。 - 特許庁

This electric stimulating device includes a power generator 13 and at least one intracorporeal electrode 5, wherein the power generator 13 and the electrode 5 are electrically separated from each other, in the process of MRT test, excessive temperature rise is not caused, and both are connected to each other through an energy transporting connector.例文帳に追加

発電装置１３及び少なくとも１つの体内電極５を含み、この発電装置１３と電極５とを電気的に分離し、MRT検査の間過度の温度上昇を生ぜずエネルギー輸送可能な結合装置を介して両者を結合する。 - 特許庁

A positional recognition and a positional correction are made by an image processing in a lamination process by making at least one end parts of an area in width direction, where the porous heat resistant layer arranged between the cathode and/or the anode contacts, and the separator, and the separator abut on each other, different in color tone from each other.例文帳に追加

正極または／および負極とセパレータとの間に配した多孔質耐熱層とセパレータとが、接する領域の少なくとも幅方向の一端部が互いに異なる色調とし、積層工程時に画像処理による位置認識と位置補正を行う。 - 特許庁

Then, encoded converted data f(y) 1 to 8 are gathered by each converted data obtained in the same process in the processes of conversion based on the conversion rule to obtain N-kinds of groups of converted data, and compression processing of the converted data f(y) 1 to 8 is carried out by each of the groups.例文帳に追加

そして、符号化された変換データｆ(y)1〜8を、前記変換規則に基づく変換の過程のうちの同じ過程で得られた変換データ毎に集めてＮ通りの変換データ群を得、この群の各々毎に、変換データｆ(y)1〜8に圧縮処理を施す。 - 特許庁

Necessary information is inputted (S101), all cells are automatically arranged (S102), the initial outline wiring for the entire net is carried out (S103), the delay time of each path is calculated in a delay analysis process 104, and a critical path violating the delay constraint value of each path.例文帳に追加

必要な情報を入力し（Ｓ１０１）、全セルの自動配置を行い（Ｓ１０２）、全ネットの初期概略配線を実行し（Ｓ１０３）、遅延解析工程１０４で各パスの遅延時間を計算し、各パスの遅延制約値を違反するクリティカルパスを抽出する。 - 特許庁

To improve uniformity in surface treatment of each semiconductor wafer, in surface treatment rate, and in treatment between each semiconductor wafers in a batch treatment apparatus used in a wafer process of the semiconductor device and in a batch treatment method using the apparatus.例文帳に追加

半導体装置のウエハプロセスで使用されるバッチ処理装置とそれを用いたバッチ処理方法において、各半導体ウエハの面内処理の均一性を向上し、面内処理レートの均一性を向上し、併せて各半導体ウエハ間の処理の均一性を向上する。 - 特許庁

Since a distance from each point of the bonding tool 10a, in particular, from each corner to the opening 12 of the fixing member 9 fixing the tape carrier 1 is selected long, the restoration force of the film base 2 on the tape carrier 1 after being pressed / heated in the ILB process can be decreased.例文帳に追加

これにより、ボンディングツール１０ａの各点、特に角部からテープキャリア１を固定している固定部材９の開口部１２までの距離を大きく取れるため、ＩＬＢ工程で加圧、加熱された後のテープキャリア１のフィルム基材２の復元力を減少させる。 - 特許庁

To automatically plan an optimum work schedule suitable for an actual work pattern even in the case of a complicate process calculation exceeding the limit of a person in charge of schedule planning and leveling each day load as much as possible while keeping the available starting date and the delivery date of each order.例文帳に追加

日程計画担当者の限界を超えた、複雑な工程計算の場合においても、実作業形態に合った最適な作業日程計画を自動立案し、各オーダーの開始可能日と納期は遵守しつつ、各日の負荷をできる限り平準化する。 - 特許庁

A control means 9 compares the temporal variation of the frequency of the abnormal electric discharge at each point in time of the sputter process shown by the amount of cumulative electric energy applied to a target 4, and the power source exhibiting a smaller frequency of abnormal discharge per unit time is operated each time.例文帳に追加

制御手段９は、ターゲット４への積算電力量にて示される、スパッタ工程の各時点において、前記した異常放電発生回数の経時変化を比較して、単位時間当りの発生回数が少ない方の電源をその都度作動させる。 - 特許庁

To properly associate a production plan with the results so that the delay/progress of processing is accurately grasped in each working process, in a production management system in which a plurality of workpieces are successively processed for each lot in a plurality of working processes.例文帳に追加

複数の加工品が各ロット毎に複数の加工工程にわたって順次加工処理される生産管理方式において、生産計画と実績との関連付けを適正なものとし、各加工工程での処理の遅れ進みを的確に把握できるようにする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an ultra-micro optical device having two wavelength separating films intersecting each other inside with a high yield, by using a simple and reliable method without requiring a complicated process of mirror-finishing and coating each of triangle pole shaped glass blocks.例文帳に追加

三角柱状のガラスブロックを一個づつ鏡面加工、コーティングするという煩雑な工程を減ることなく、簡単確実な方法によって内部で２つの波長分離膜が交差した状態の超小型光学デバイスを歩留良く製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing device constituted of an enclosure with a plurality of separated chambers formed inside, a gas distribution assembly arranged at each process chamber, a gas source connected to the separated chambers, and a power source device connected to each gas distribution assembly.例文帳に追加

複数の分離されたチャンバが内部に形成されたエンクロージャと、各処理室に配置されたガス分配アセンブリと、分離チャンバに接続されたガス源、および各ガス分配アセンブリに接続された電源装置によって構成される真空処理装置を提供する。 - 特許庁

Each process part 12 and each conveying part 14 which constitute the production line 10 are provided with a respective workpiece sensor for detecting whether or not there is a workpiece in a respective position, with detection signals of the workpiece sensor fed from a PLC 16 to a production line analysis device 24.例文帳に追加

生産ライン１０を構成する各工程部１２及び各搬送部１４には、それぞれその場所にワークがあるか否かを検出するワークセンサが設けられており、このワークセンサの検出信号はＰＬＣ１６から生産ライン解析装置２４へと送られる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, where defects occur on the surface of a wafer before and after the water is subjected to processing are compared with each other, in a manner in which defects are assorted by kind, and the defects of the same kind are compared with each other so as enable precise discrimination of one from the other, in a process of manufacturing an LSI wafer.例文帳に追加

ＬＳＩウェハの製造工程において、ウェハを処理する前と後とでウエハ上に発生した欠陥を種類毎に比較することにより、欠陥を的確に判別することができる半導体デバイスの製造方法を提供する - 特許庁

As for each of LCSs 11B, 11G and 11R, the shielding/transmitting control is executed only for the light of the blue component, green component and red component, respectively, and the color tone of each pixel of the image printed on the printing paper 12 is controlled by using a subtractive color process.例文帳に追加

各ＬＣＳ１１Ｂ・１１Ｇ・１１Ｒは、それぞれ青色成分、緑色成分、赤色成分の光のみに対して遮断／透過を制御し、減色方式によって印画紙１２上に焼き付けられる画像における各画素の色調を制御する。 - 特許庁

To provide a delay circuit that can be set a very small delay time with respect to an input signal with high accuracy without being affected by a manufacture process for each product or each semiconductor circuit while being hardly affected by external factors such as an environmental change.例文帳に追加

製品ごとあるいは半導体回路ごとの製造プロセスに影響されずに、また、環境変化等の外部要因に影響されにくく、入力信号に対して微少な遅延時間を高精度に設定することができる遅延回路を提供することにある。 - 特許庁

A DM(device manager) detects the time from the interruption of each I/O driver of a touch panel, a display, an audio device, etc., to actual process execution as a CPU stoppable time Ct(critical time) and computes a total Ct as AND of Ct's in each I/O driver state.例文帳に追加

タッチパネル，ディスプレイ，オーディオなどの各Ｉ／ＯDriver処理の割り込みから実際の処理実行までの時間をＣＰＵ休止可能時間Ｃt（クリティカルタイム）としてＤＭ（デバイスマネージャ）により検出し、各Ｉ／ＯDriver状態毎のＣtのＡＮＤ（アンド）である総合Ｃtを算出する。 - 特許庁

A needed gauge information generating part 11 of the control part 1 utilizes information of a data database 21 and a component configuration database of the database part 2 to decide needed gauges and their data in each part of parts constituting a bearing and in each manufacturing process.例文帳に追加

制御部１の必要ゲージ情報生成部１１は、データベース部２の諸元データベース２１及び部品構成データベース２２の情報を利用して、軸受を構成する部品の部品毎及び製造工程毎に必要なゲージ及びそれらの諸元を決定する。 - 特許庁

A basic label 49 corresponding to each work process generated by a CPU from the storage content of the RAM, and progress labels 42 and 43 showing the status of progress of each work in an identifying manner are stuck on a layout drawing 21 of a layout sheet SB and displayed.例文帳に追加

そして、そのＲＡＭの記憶内容からＣＰＵが生成した作業工程毎に対応する基本ラベル４９と各作業進行状況を識別表示する進捗ラベル４２，４３をレイアウトシートＳＢのレイアウト図面２１上に貼り付け表示する。 - 特許庁

To improve productivity by automatically tracking the action of each worker in a work field, grasping the work contents of each worker from the stay area of the worker and calculating the number of workers engaging in specific work and the process time of the specific work.例文帳に追加

作業現場内で作業員個々の行動を自動的に追跡しつつ、個々の作業従事者の滞在エリアから作業内容を把握し、もって特定の作業に従事している作業者の人数や工程時間を割り出して生産性を向上する。 - 特許庁

To provide a machine tool capable of performing a plurality of processes with one machine, forming a finished product from material even for the work which needs the plurality of processes, eliminating the need of positioning of each apparatus for each process at the time of installation, and facilitating relocation or change in the processes.例文帳に追加

１台で複数の工程を行うことができ、複数の工程が必要なワークでも素材から完成品を成形でき、据え付けの際に各工程用の装置の位置合わせの必要がなく、移設や工程の変更も容易である工作機械を提供する。 - 特許庁

In the electrode-forming process, the etching depth of the piezoelectric substrate 2 is changed within the same substrate, on the basis of the film thickness distribution of the metal film 11 measured in the film thickness measurement process, thereby adjusting the center frequency in each of a plurality of element regions.例文帳に追加

そして、電極形成工程の際に、膜厚測定工程により測定された金属膜１１の膜厚分布に基づいて、圧電性基板２のエッチング深さを同一基板内で変化させることにより、複数の素子領域のそれぞれにおける中心周波数を調整する。 - 特許庁

To provide a silicon epitaxial wafer which has high gettering capability and is capable of reducing the total cost of semiconductor device fabrication, by facilitating film thickness control in each device process to be carried out readily and enabling the process of thinning the silicon substrate, after finishing the device fabrication to be carried out readily.例文帳に追加

高ゲッタリング能力を有し、なおかつデバイスプロセスの各工程において膜厚管理を容易にし、またデバイス作製後のシリコン基板の薄膜化工程を容易にするなどして、半導体デバイス作製のトータルコストを削減できるシリコンエピタキシャルウェーハを提供することを目的とする。 - 特許庁

In these treatments, LDD width WD11, WD13 are each set separately, by setting a source region/drain region implantation process of the Tr 33 after the formation of the first sidewall, and a source region/drain region implantation process of the Tr 35 after the formation of the second sidewall, respectively.例文帳に追加

これらの処理において、第１のサイドウォール形成後にＴｒ３３のソース領域／ドレイン領域インプラ工程を、第２のサイドウォール形成後にＴｒ３５のソース領域／ドレイン領域インプラ工程を、それぞれ打ち込むことにより、各ＬＤＤ幅ＷＤ１１，ＷＤ１３を別個に設定する。 - 特許庁

To provide a bending system which can perform processing composed of a bending process and a press-insertion process by a single device, determines a proper order of both the processes in advance, and improves work efficiency at each point by utilizing existing equipment.例文帳に追加

曲げ工程と圧入工程から成る加工を行う場合に、１台の装置で実施可能にすると共に、両工程の適性順序を予め決定し、更に、既存設備を利用することにより、それぞれの点で作業効率を向上させる曲げ加工システムを提供する。 - 特許庁

The method for forming the thin-film transistor comprises the steps of executing a plurality of times of a step of using a plasma chemical vapor deposition process in the same depositing chamber, and executing gas cleaning of the depositing chamber and film performing, at each execution step of using the process.例文帳に追加

薄膜トランジスタの形成において、プラズマ化学気相堆積法を用いたステップが、同一の堆積室内において複数回実施され、かつ、１回実施される毎に堆積室のガスクリーニングおよび予備成膜が行われる薄膜トランジスタ形成方法を提供する。 - 特許庁

To continuously produce a blended raw material having constant components and properties as a raw material for a metal reducing furnace, in a process of blending dust with slurry containing an oxidized metal powder and a carbon powder with a wet process, even when the components and the properties of each raw material change with time.例文帳に追加

金属還元炉の原料として、酸化金属粉末と炭素粉末を含むダストおよびスラリーを湿式で混合する方法において、原料の成分や性状が時間の経過と共に変化しても、連続的に成分や性状の一定な混合原料を製造する。 - 特許庁

To provide a polishing device and a polishing method to apply a further polishing process, corresponding to each of elements on a ceramic bar, on a locally widely polished ceramic bar and reducing a cost, required for the polishing process, without using a jig to hold the ceramic bar.例文帳に追加

局所的に大きく研磨されたセラミックバーに対して、セラミックバー上の各素子毎に応じた更なる研磨加工を施すことを可能とし、かつセラミックバーを保持するための治具を用いずに当該加工に要するコストを低減せしめる研磨装置および研磨方法を提供する。 - 特許庁

A rout control function unit 80 is designed, to decide whether to establish a new cession, in response to the reception of an IP packet for a WAN from a LAN 6, and to generate a PPP process function unit 82 and a PPPoE process function unit 86 for each cession, when the cession is to be established.例文帳に追加

経路制御機能部８０はＬＡＮ６からＷＡＮ向けのＩＰパケットを受信すると、これに応じて新たなセッションを確立すべきか否かを判定し、確立すべき場合にはセッション毎にＰＰＰ処理機能部８２およびＰＰＰｏＥ処理機能部８６を生成する。 - 特許庁

The execution resources process instructions to be processed by the same execution resource by the in-order method according to the sequence of a flow of the instructions, and also process instructions to be processed by the execution resources different from each other by the out-of-order method regardless of the sequence of the flow of the instructions.例文帳に追加

そして上記実行リソースは、同一の実行リソースで処理される命令については、当該命令のフローの順序に従ってインオーダ方式で処理し、互いに異なる実行リソースで処理される命令については当該命令のフローの順序にかかわらずにアウトオブオーダ方式で処理する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition suitable not only to a normal dry process but also to an immersion process for a line width of 45 nm or less and improved in the DOF, pattern collapse and iso/dense bias, and to provide a resist film and a pattern forming method each using the composition.例文帳に追加

通常のドライプロセスに加え、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した、ＤＯＦ、パターン倒れ、及び疎密依存性が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a focus detecting device in which a plurality of line sensors are arranged, a pixel signal and a reset signal read from the photodiode of each line sensor is stored in capacitors 316 and 318 respectively, and by opening/closing a switch 321, a pixel signal is output while a CDS process (a noise removal process) is performed.例文帳に追加

複数のラインセンサを配列させた焦点検出装置において、ラインセンサのフォトダイオードから読み出された画素信号およびリセット信号を、キャパシタ３１６、３１８にそれぞれ格納し、スイッチ３２１を開閉することによって、ＣＤＳ処理（ノイズ除去処理）しながら画素信号を出力する。 - 特許庁

To provide a production object range setting device capable of optimizing an inventory and resolving a processing delay when a range of objects for which a production plan is to be prepared is set in a production process where steel plates are transported in discontinued processing and an inventory is retained immediately before each processing process.例文帳に追加

鋼板が非連続処理にて搬送され、各処理工程の直前で在庫が滞留する生産工程での生産計画作成対象範囲の設定に際し、在庫を最適化するとともに処理日遅れを解消し得る生産対象範囲設定装置を提供する。 - 特許庁

In a memory leak determination device (a resource release failure determination device) 1, a memory usage obtaining unit (a resource usage obtaining unit) 21 obtains memory usage (resource usage) for each process, and a maximum value update counter 22 counts the number of updating the maximum value of the memory usage for every process.例文帳に追加

メモリリーク判定装置（資源解放漏れ判定装置）１において、メモリ使用量取得部（資源使用量取得部）２１が、各プロセスのメモリ使用量（資源使用量）を取得し、最大値更新回数計数部２２が、メモリ使用量の最大値更新回数をプロセス毎に計数する。 - 特許庁

The hydrophilicity of a hydrophilic coating film is prevented from falling in the process of polishing the same, by preventing the loss of functional groups each comprising an OH group present on the surface of the coating film in the process of polishing the same with a buff, by employing a buff constituted of a nitrogen-free resin that does not contain a nitrogen atom, in polishing the same.例文帳に追加

親水性塗膜を、窒素原子を含有しない窒素不含樹脂からなるバフを用いて研磨することにより、塗膜表面において、ＯＨ基を含む官能基がバフによる研磨で失われることを防止し、塗膜の親水性が低下することを防止する。 - 特許庁

Next, a server processing apparatus performs an operation order generating process (S15) determining the operation order of assembling blocks on the basis of the block information 224, and performs a camera position information addition process (S16) determining a viewpoint position for creating an appearance diagram of the product assembled by each operation.例文帳に追加

次に、サーバ処理装置は、そのブロック情報２２４に基づき、各ブロックを組み立てる作業順番を定める作業順番生成処理（Ｓ１５）を実行し、各作業で組み立てられる製品の外観図を作成する視点位置を定めるカメラ位置情報付加処理（Ｓ１６）を実行する。 - 特許庁