「element method」に関連した英語例文の一覧と使い方(710ページ目) - Weblio英語例文検索

This method for producing the lithium complexed metal nitride expressed by general formula Li_3-xM_xN (M is at least a metal element selected from the group consisting of Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu and Al; x is a value more than 0 and less than 0.8) comprises the steps of mixing lithium hydride powder with metal M powder and a heat treating the mixture.例文帳に追加

一般式Ｌｉ_３−ｘＭ_ｘＮ（ＭはＴｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｌより選ばれた少なくとも一種の金属元素、ｘは０＜ｘ＜０．８の範囲の値）で表されるリチウム複合金属窒化物の製造方法であり、水素化リチウム粉末と金属Ｍの粉末とを混合し、加熱処理する構成とする。 - 特許庁

To provide a nonaqueous electrolytic liquid battery having as a battery element an electrode wound body 6 of nearly circular column shape in which a positive electrode 3 of large thickness dimension and short sheet shape is wound around together with a negative electrode 4 and a separator 5, in which the outer package can is certainly prevented from getting into an abnormal high temperature state at the time of short circuit, by a simple method.例文帳に追加

厚み寸法が大きく且つ短いシート状の正極３を、負極４およびセパレータ５とに捲回してなる略円柱状の電極捲回体６を電池要素とする非水電解液電池において、簡便な方法で以って、短絡時において外装缶が異状高温状態に陥ることを確実に抑制する。 - 特許庁

To provide a ceramic polycrystalline substrate or a glass ceramic substrate to which a thin film device manufacturing technique at a high accuracy for forming a thin film having a film thickness of a few nm to several μm is applied, and which has smoothing properties at a high accuracy; to provide a thin film electronic part in which a passive element is formed on the substrate; and to provide their manufacturing method.例文帳に追加

本発明の目的は、数ｎｍ〜数μｍの膜厚の薄膜を成膜する高精度の薄膜デバイス製造技術を適用しうる、高精度の平滑性を有するセラミックス多結晶基板やガラスセラミックス基板及び該基板の上に受動素子を形成した薄膜電子部品並びにそれらの製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a connection method in which connection loss is reduced, when connecting an optical waveguide element having an optical waveguide core to a double clad fiber 10 having a core 11 doped with rare earth elements, a first clad 12 installed so as to cover the core 11, and a second clad 13 installed so as to cover the first clad 12.例文帳に追加

希土類元素がドープされたコア１１と、該コア１１を被覆するように設けられた第１クラッド１２と、該第１クラッド１２を被覆するように設けられた第２クラッド１３とを備えたダブルクラッドファイバ１０に、光導波コアを備えた光導波素子を接続する場合において、接続損失を低減した接続方法を提供する。 - 特許庁

This is a manufacturing method of a functional element in which an organic film is formed by coating an organic material using a coating equipment having a contact part for coating a coating solution by making it move relatively on a photo substrate while contacting with the substrate.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、光 基板上に、前記基板と接触した状態で相対的に移動させることにより塗布液を塗布する接触部を有する塗布用機器を用いて有機材料を塗布することにより、有機薄膜を形成することを特徴とする機能性素子の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

The method includes indicating lower layers of a UE to stop the MIMO operation when an ACTIVE SET UPDATE message, a CELL UPDATE CONFIRM message, or a reconfiguration message not including a MIMO parameter information element (IE) for listing MIMO configuration data thereon is received from a network terminal.例文帳に追加

方法は、ネットワークからのＡＣＴＩＶＥ ＳＥＴ ＵＰＤＡＴＥ（アクティブセット更新）メッセージ、ＣＥＬＬ ＵＰＤＡＴＥ ＣＯＮＦＩＲＭ（セル更新確認）メッセージ、または再設定メッセージに、ＭＩＭＯ構成データを載せるためのＭＩＭＯパラメータ情報要素（ＩＥ）が含まれなかった場合に、ＵＥの下位層に対してＭＩＭＯを終了するように指示する段階を含む。 - 特許庁

In the method for fabricating semiconductor device utilizing a crystalline silicon film obtained by crystallizing an amorphous silicon film formed on a substrate using a catalytic element, planarity on the surface of the crystalline silicon film is enhanced while decreasing the number of oxidation defects by thermally oxidizing the silicon film in a mixture gas of an oxidation species and a nonoxidation species.例文帳に追加

基板上に形成されたアモルファスシリコン膜を触媒元素により結晶化させて得られる結晶性シリコン膜を利用する半導体装置の作製方法において、該シリコン膜を酸化種と非酸化種の混合ガス中で熱酸化することによって、結晶性シリコン膜表面の平坦性を向上するとともに酸化欠陥数を低減する。 - 特許庁

To improve a method for manufacturing a solar cell for attaining an improved surface passivation and volume passivation, besides excellent optical properties of a substrate in manufacturing a semiconductor element, with respect to the process for forming a layer containing a hydrogen-containing silicon on a substrate formed of silicon or a substrate containing silicon such as a wafer or a film substrate.例文帳に追加

本発明はシリコンからなる基板はシリコンを含む基板、例えばウエハ又はフィルムの基板上に水素含有シリコンを含む層を形成して半導体素子を製造する方法に関し、良好な光学的性質のほかに基板の良好な表面不動態化も体積不動態化も可能なように太陽電池の製造方法を改良することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method of efficiently removing the active hydrogen oxide existing in a carbon material (existing as hetero element-containing functional groups, such as, for example, COOH, CHO and OH) at a relatively low temperature and to provide a carbon active material suitable for polarizable electrodes including electric double layer capacitors.例文帳に追加

本発明は、炭素材中に存在する活性酸化水素（例えば、ＣＯＯＨ、ＣＨＯ、ＯＨなどのような含ヘテロ元素官能基として存在している）を、比較的低温で、かつ効率的に除去する方法を提供し、また、電気二重層キャパシタをはじめとする分極性電極に適した炭素活物質を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the method for extracting soluble oligomer contained in resin having softening point of 200°C or above, oligomer is extracted from the resin using a solvent containing carbon, hydrogen and another element under such temperature conditions as not lower than 15°C but lower than the critical temperature of the solvent and the softening point of the resin and under pressurization conditions.例文帳に追加

軟化温度が２００℃以上の樹脂に含まれる可溶性オリゴマーを抽出する方法において、炭素、水素とそれら以外の元素を含む溶剤を用い、１５℃以上であり該溶剤の臨界温度より低温であり、かつ、該樹脂の軟化温度より低温である温度条件で、かつ、加圧条件において行う該樹脂からオリゴマーを抽出する方法。 - 特許庁

To make it possible to carry out a precise measuring evaluation of a dielectric characteristic of a dielectric in a high frequency band in a minute thin-film capacitance element used for measuring the dielectric characteristic of the thin-film dielectric and a thin-film dielectric characteristic measuring evaluation method.例文帳に追加

薄膜誘電体の誘電特性測定に用いる微小薄膜キャパシタンス素子及び薄膜誘電特性測定評価方法であって、高周波数帯域における誘電体の誘電特性を高精度に測定評価することのできる微小薄膜キャパシタンス素子及びそれを用いた薄膜誘電特性測定評価方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of semiconductor parts includes a process that starts the work of a semiconductor wafer, where the new element materials are subjected to film formation by using a conventional manufacturing device, and a process that cleans the region of the surface of the wafer which is in contact with the conventional manufacturing apparatus.例文帳に追加

課題を解決する半導体部品の製造方法は、新規な素子材料を成膜された半導体ウェハを、従来の製造装置を用いて着工する工程と、当該ウェハの表面であって、前記の従来の製造装置と接触する領域を洗浄する工程(以下、本発明にかかる洗浄工程という)とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photovoltaic element having a higher efficiency and high reliability, by depositing an amorphous silicon or a microcrystal silicon of a photoelectric conversion layer without deteriorating light transmission characteristics of a transparent conductive film, when a silicon is deposited on the conductive film made of an oxide to form the conversion layer.例文帳に追加

本発明は、酸化物からなる透明導電膜上にシリコンを堆積して光電変換層を形成する際に、透明導電膜の光透過特性を劣化させることなく光電変換層であるアモルファスシリコンもしくは微結晶シリコンを堆積し、より高効率で信頼性の高い光電変換素子の作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the MOVPE method there is obtained a growth speed of 10 μm/Hr or higher by lowering the group V/III ratio under a definite condition, and by applying this to the growth of an A surface nitride-based semiconductor layer on an R surface sapphire substrate, an application to a light emitting element and an electronic device using the A surface nitride-based semiconductor is executed.例文帳に追加

ＭＯＶＰＥ法において一定条件下でV／III比を下げることにより、１０μｍ／Ｈｒ以上の成長速度が得られ、またこれをＲ面サファイア基板上のＡ面窒化物系半導体層の成長に適用することにより、Ａ面窒化物系半導体を用いた発光素子および電子デバイスへの応用を行う。 - 特許庁

To lessen the number of scan lines when providing various correction circuits on a transistor driving by current a light emitting element by a source follower circuit configuration by being applied to a self-luminous display device due to current drive of an organic EL display device or the like, for instance, concerning the display device and a method for driving the display device.例文帳に追加

本発明は、ディスプレイ装置及びディスプレイ装置の駆動方法に関し、例えば有機ＥＬ表示装置等の電流駆動による自発光の表示装置に適用して、ソースフォロワ回路構成により発光素子を電流駆動するトランジスタに各種の補正回路を設ける場合に、走査線の数を少なくすることができるようにする。 - 特許庁

To produce an inexpensive base stock for a lead frame provided with mechanical strength that a lead material is not easily deformed, capable of radiating the heat generation of an element with high efficiency, excellent in electric characteristics and good in etching and punching properties needed for the pattern formation of a lead frame, to provide a method for producing it and to provide a semiconductor package using it.例文帳に追加

リード材が容易に変形しないような機械的強度を備え、素子の発熱に対して効率よく放散することができ、電気的特性に優れ、リードフレームのパターン形成に必要なエッチング性や打ち抜き性が良好であり，且つ安価であるリードフレーム用素材とその製造方法と、それを用いた半導体パッケージとを提供すること。 - 特許庁

This invention provides the member for the capacitor embedded in the substrate in which a heat-curing adhesive film 4 and a plastic carrier film 5 of a B-stage condition are laminated on one surface of a capacitor element in which a dielectric layer 2 is provided between facing electrodes 1 and 3, and provides the substrate with the embedded capacitor using it and the method for manufacturing the substrate.例文帳に追加

対向する電極１と電極３の間に誘電体層２を備えるコンデンサ素子の一方の面上に、Ｂステージ状態の熱硬化性接着フィルム４およびプラスチックキャリアフィルム５が積層されていることを特徴とする基板内蔵コンデンサ用部材、およびおよびこれを用いたコンデンサ内蔵基板とその製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin-film transistor that uses an oxide semiconductor, having improved production efficiency by improving the semiconductor characteristics (including mobility, on/off and Vg(ON)) of the oxide semiconductor and reducing the variation; and to provide a semiconductor element that uses the oxide semiconductor, and to provide a thin-film transistor.例文帳に追加

本発明の目的は、酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタにおいて、酸化物半導体の、半導体特性（移動度、ｏｎ／ｏｆｆ、Ｖｇ（ＯＮ））を向上させ、ばらつきを低減させて、生産効率が向上した製造方法を提供することであり、また、この酸化物半導体を用いた半導体素子、薄膜トランジスタを提供することにある。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a lightweight foamed concrete capable of preventing bulging out of a mortar to a front surface of a mortar block when a foamed semi-cured mortar block is cut by a rotating bar-like element and preventing loss at a rear end of the block.例文帳に追加

本発明に係る軽量気泡コンクリートの製造方法及びその装置は、発泡された半硬化状のモルタルブロックを回転する棒状体で切断する際に、モルタルブロックの表面にモルタルがはみ出して来ることを防止すると共に、モルタルブロックの後端部に欠損が生ずることを防止し得る軽量気泡コンクリートの製造方法及びその装置を目的とする。 - 特許庁

To provide a hydrogen production apparatus for efficiently producing hydrogen from a hydrogen source containing a compound having hydrogen as a structural element with a visible ray-responsive photocatalytic material using visible rays emitted from a light source or capable of accumulating proton and electron, a hydrogen production method and a hydrogen production system using the same.例文帳に追加

光源から照射される可視光を利用して、可視光応答性光触媒材料により、水素を構成元素として有する化合物を含む水素源から水素を効率良く発生させる、又はプロトン及び電子として蓄積することができる水素発生装置、これを用いた水素発生方法、及び水素発生システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a thin film transistor in which a manufacturing cost can be reduced by decreasing the number of the photoelectric steps in manufacturing and to provide a substrate for the display device having such a thin film transistor and a method for manufacturing the same, further a liquid crystal display device including such a substrate for the display device and an organic electroluminescent element.例文帳に追加

製造時におけるフォト工程の工程数を減らすことにより製造コストを削減することが可能な薄膜トランジスタ、ならびにこのような薄膜トランジスタを備えた表示装置用基板およびその製造方法、さらにはこのような表示装置用基板を含んだ液晶表示装置および有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。 - 特許庁

In the method for forming an optical element made of glass by disposing a glass blank 6 for forming between a pair of forming dies 1, 2 and press-forming it under heating, a carbon-base member 4 is interposed between the forming dies 1, 2 when the forming dies are heated and/or when the glass blank on the lower forming die is heated.例文帳に追加

成形用ガラス素材６を一対の成形用型１，２の間に配置して加熱下でプレス成形することによりガラス製の光学素子を成形する方法において、成形用型を加熱する際及び／又は成形用型上でガラス素材を加熱する際に、カーボンを主成分とする部材４を一対の成形用型１，２の間に挿入する。 - 特許庁

Further, the method for printing the stencil using the plate comprises a step of giving the liquid capable of passing through the pores in the printing element part of the desired print image to thereby allow the ink to pass through the pores, and a step of passing the ink through the pores in which the liquid is given.例文帳に追加

さらに、この孔版を用いた印刷方法は、所望の印刷画像の画線部において上記気孔内を通過できる低表面張力液体を気孔に付与することにより気孔内をインキが通過できるようにする工程と、低表面張力液体が付与された気孔においてインキを通過させる工程と、を含むようにする。 - 特許庁

The method for producing the basic metal oxide-dispersed transparent sol aqueous solution comprises: the first step of subjecting metal salt, rare earth element-containing salt and quaternary ammonium salt to a neutralization reaction to produce an aqueous solution containing an anionic, basic, and inorganic metal complex; and the second step of hydrothermally treating the aqueous solution produced at the first step.例文帳に追加

塩基性金属酸化物分散透明ゾル水溶液の製造方法は、金属塩および希土類元素を有する塩と第四級アンモニウム塩との中和反応を用いてアニオン性塩基性無機金属錯体を含む水溶液を製造する第１工程と、該第１工程で製造した水溶液を水熱処理する第２工程と、を有する。 - 特許庁

To efficiently remove moisture in a drying process after a wet barrel polishing processing, and to prevent the occurrence of cracks due to sudden generation of moisture in a process where a ceramic element (ceramic sintered compact) is heated to a high temperature in a forming process of an outer electrode by a method with which conductive paste is applied and it is baked.例文帳に追加

湿式バレル研磨処理後の乾燥工程で効率よく水分を除去することが可能で、その後の導電ペーストを塗布して焼き付ける方法による外部電極の形成工程などの、セラミック素子（セラミック焼結体）が高温に加熱される工程で水分の急激な発生によるクラックの発生などを引き起こすことを防止する。 - 特許庁

Related to the method for evaluating an SOI wafer 1 where an SOI layer 14 is provided on a substrate 10, an element different from that which mainly constitutes the substrate 10 and the SOI layer 14 is diffused in the SOI layer 14 or the substrate, so that the crystal lattice of the SOI layer 14 is different from that of the substrate 10.例文帳に追加

基板１０と当該基板１０の上にＳＯＩ層１４が設けられたＳＯＩウェーハ１を評価する評価方法において、基板１０及びＳＯＩ層１４を構成する主たる元素とは異なる元素をＳＯＩ層１４或いは基板に拡散することにより、ＳＯＩ層１４の結晶格子と基板１０の結晶格子とを異ならしめる。 - 特許庁

A first laminate ST1 in which at least a first conductive type first cladding layer 32, a first active layer 33, and a second conductive type second cladding layer 34 are laminated is formed on a substrate 30 by an epitaxial growth method, and the first laminate ST1 except for a region of forming a first semiconductor light emitting element is removed.例文帳に追加

基板３０上に、エピタキシャル成長法により、少なくとも第１導電型第１クラッド層３２、第１活性層３３および第２導電型第２クラッド層３４を積層させた第１積層体ＳＴ１を形成し、第１半導体発光素子形成領域の第１積層体ＳＴ１を残して、他の領域の第１積層体ＳＴ１を除去する。 - 特許庁

The micro movable element manufacturing method includes a step of forming the movable part 10, the frame 20 and the connecting part 40 on a material substrate, and a step of sticking a film material to the surface of the material substrate during the forming step and patterning the film material to form the support structure member 71 for bridging the movable part 10 and the frame 20.例文帳に追加

本発明は、材料基板に可動部１０、フレーム２０、および連結部４０を作り込む成形工程と、成形工程の途中において、材料基板の表面にフィルム材料を貼り合せ、当該フィルム材料をパターニングすることにより、可動部１０およびフレーム２０を架橋するためのサポート構造体７１を形成する工程とを含む。 - 特許庁

This method for producing the fatty acid alkyl ester and/or glycerol comprises a process of bringing the oils and fats in contact with an alcohol in the presence of the catalyst, and the catalyst contains at least 1 kind of a metal element selected from the group consisting of group 4 and 5 metal elements as an essential component.例文帳に追加

油脂類とアルコールとを触媒の存在下に接触させる工程を含んでなる脂肪酸アルキルエステル及び／又はグリセリンの製造方法であって、上記触媒は、４族及び５族の金属元素からなる群より選択される少なくとも１種の金属元素を必須成分とするものである脂肪酸アルキルエステル及び／又はグリセリンの製造方法。 - 特許庁

A circuit element 10 having electrodes on one principal face and a substrate 1 having an electrode 2 for the connected bump and an electrode 3 for the recognized bump located on its one principal face are prepared, and the connected bump 12 and the recognized bump 13 are formed respectively to the electrode 2 for the connected bump and the electrode 3 for the recognized bump by using the wire bonding method.例文帳に追加

一方主面上に電極１１を有する回路素子１０と、一方主面上に設けられた接続バンプ用電極２と認識バンプ用電極３とを有する基板１とを準備し、接続バンプ用電極２と認識バンプ用電極３とにそれぞれワイヤーボンディング法を用いて接続バンプ１２と認識バンプ１３とを形成する。 - 特許庁

A method for driving a display device having a plurality of scanning areas in which a display element is disposed on each of intersection points of signal lines and scanning lines, wherein each scanning area is drive line sequentially for display, the difference of scanning timing between two scanning lines which are adjacent in parallel beyond the boundary between each scanning area is one millisecond or more.例文帳に追加

信号線と走査線との各交点に表示素子を配置した走査領域を複数有する表示装置において、それぞれの領域を線順次駆動して表示を行う際に、各領域の境界に並列して接する走査線間の走査タイミングの差を、１ミリ秒以上にすることを特徴とする表示装置の駆動方法。 - 特許庁

To provide a forgery prevention laminated body which is inexpensive, high in productivity, high in visibility, has a visual effect excellent in decorativeness as well and comprises an optical element in which a relief structure and a relief-effect layer are highly accurately arranged, a forgery prevention transfer foil, a forgery prevention seal, a forgery prevention medium and a manufacturing method of them.例文帳に追加

本発明は、安価で生産性が高く、視認性の高い、装飾性にも優れた視覚効果を有する、レリーフ構造とレリーフ効果層を精度良く配置した光学素子からなる偽造防止積層体、偽造防止転写箔、偽造防止シール、偽造防止媒体を提供すると共に、それらの製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The operation method of phase change memory element, provided with a phase change layer and a means for applying a voltage to the phase change layer, includes a step of applying a reset voltage Vrecet to the phase change layer, wherein the reset voltage Vrecet may contain at least two pulse voltages continuously applied, for example, first to third pulse voltages V1-V3.例文帳に追加

相変化層と相変化層に電圧を印加する手段とを備える相変化メモリ素子の動作方法は、相変化層にリセット電圧Ｖｒｅｃｅｔを印加する段階を含み、リセット電圧Ｖｒｅｃｅｔは、連続印加される少なくとも２つのパルス電圧、例えば第１ないし第３パルス電圧Ｖ１〜Ｖ３を含むことができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the dielectric element 1 includes a process of heating a film 20 of a solution of a precursor on a metal layer 11 in an oxidizing atmosphere, to form a calcined film 20 comprising a dielectric material generated from the precursor, and a process of annealing the calcined film 20 to form a dielectric film 20 comprising the dielectric material that has been crystallized.例文帳に追加

金属層１１上の前駆体の溶液の膜２０を酸化雰囲気下で加熱して、前駆体から生成した誘電体材料を含む仮焼き膜２０を形成させる工程と、仮焼き膜２０をアニールして、結晶化した誘電体材料を含む誘電体膜２０を形成させる工程とを備える、誘電体素子１の製造方法。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device and its manufacturing method, which are capable of coping with it in that semiconductor elements can be enhanced in density and lessened in pitch lessening their weight and restraining the effects of stresses caused by a thermal expansion difference between the semiconductor element and a wiring board.例文帳に追加

本発明は多層配線基板上に半導体素子が搭載された構造を有する半導体装置及びその製造方法に関し、軽量化を図りつつ半導体素子の高密度化及び狭ピッチ化に対応し、かつ半導体素子と配線基板の熱膨張差に起因して発生する応力の影響を抑制することを過大とする。 - 特許庁

To provide a piezoelectric thin film vibrator comprising a piezoelectric element formed using a thin film forming technology, a driving device and a piezoelectric motor using it, the piezoelectric thin film vibrator manufacturable at a low cost, and a manufacturing method thereof; and to provide a driving device and a piezoelectric motor using it.例文帳に追加

本発明は、薄膜形成技術を用いて形成された圧電素子を備えた圧電薄膜振動子およびその製造方法、並びにそれを用いた駆動装置および圧電モータに関し、低コストで製造できる圧電薄膜振動子およびその製造方法、並びにそれを用いた駆動装置および圧電モータを提供することを目的とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor element comprises sequentially the steps of forming a gate electrode having a metal silicide layer on a semiconductor wafer, decreasing crystal grain region on the surface of the metal silicide layer exposing at least its part, forming a spacer consisting of an oxide film on the side wall of the gate electrode.例文帳に追加

半導体基板上に金属シリサイド層を有するゲート電極を形成する工程と、少なくとも一部が露出する前記金属シリサイド層表面の結晶粒界を減少させる工程と、前記ゲート電極の側壁に酸化膜からなるスペーサを形成する工程と、を順次含むことを特徴とする半導体素子の製造方法である。 - 特許庁

The manufacturing method of the laminated piezoelectric element comprises the steps of preparing a sheet having an electrode paste layer containing powdered zirconium oxide whose metal and BET specific surface area is ≤10 m^2/g on a piezoelectric material green sheet, obtaining a lamination by laminating a plurality of sheets, and baking this lamination.例文帳に追加

本発明の積層型圧電素子の製造方法は、圧電体グリーンシート上に、金属及びＢＥＴ比表面積が１０ｍ^２／ｇ以下である粉末状のジルコニウム酸化物を含む電極ペースト層を備えるシートを準備する工程と、このシートを複数積層して積層体を得る工程と、この積層体を焼成する工程とを含む。 - 特許庁

In addition, this manufacturing method includes a step to form a semiconductor thin film 15 on the substrate 11 having steps for determining the crystal orientation on one plane, through the catalyst epitaxial growth, and a step to form the photosensor PS and semiconductor switching element 20 constituting the pixels on the semiconductor thin film 15.例文帳に追加

また、一面上に結晶方位を決定する段差を有する光透過性の基板１１上に、触媒エピタキシャル成長により半導体薄膜１５を形成する工程と、半導体薄膜１５に画素を構成するフォトセンサＰＳ及び半導体スイッチング素子２０を形成する工程とを有して固体撮像素子１０を製造する。 - 特許庁

This method of manufacturing a semiconductor device includes a process of arranging the resist film forming the alignment superposition measurement mark 11 nearly 200 μm or above, apart from the end 2A of an element forming region 2 formed adjacent to a scribe region 18, in an X direction in which the scribe region 18 formed on a semiconductor board 1 as a base is measured.例文帳に追加

開示される半導体装置の製造方法は、合わせ側の重ね合わせ計測マーク１１を構成するレジスト膜を、下地である半導体基板１に形成したスクライブ領域１８の計測方向であるＸ方向に沿って、スクライブ領域１８に隣接して形成した素子形成領域２の端部２Ａから略２００μｍ以上離して配置する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor in which a product with both stable quality and performance can be obtained by solving problems in which a polymerization solution moves up along an insulating part to reach an anode part when the solid electrolytic layer is formed to make LC and ESR worse and an element slants when laminated owing to a partial increase in thickness.例文帳に追加

固体電解質層形成時に重合溶液が絶縁部を這い上がって陽極部に達し、ＬＣやＥＳＲが悪化すると共に素子積層時に部分的な厚み増加により素子が傾斜するという課題を解決し、品質・性能共に安定した製品が得られる固体電解コンデンサの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The manufacturing method of an electron emitting element comprises a process of forming a cathode electrode 5 on a supporting substrate 4, and a process of forming an emitter layer 10 containing a fibrous emitter material and a binder material on the cathode electrode 5 through a resistor layer 21, and a process of forming an insulation film 6 on the emitter layer 10 through a close-contact layer 22.例文帳に追加

電子放出素子の製造方法として、支持基板４上にカソード電極５を形成する工程と、カソード電極５上に抵抗層２１を介して繊維状のエミッタ材料とバインダ材料とを含むエミッタ層１０を形成する工程と、エミッタ層１０上に密着層２２を介して絶縁膜６を形成する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a display driving device making each light emission element perform light emitting operations with appropriate luminance gradation according to display data irrespective of variation of light emission characteristics of each display pixel by variation of external environment and temporal change, and thus, to provide a display device successfully displaying image information and a drive control method thereof.例文帳に追加

外的環境の変化や経時変化による各表示画素の発光特性のバラツキに関わらず、各発光素子を表示データに応じた適切な輝度階調で発光動作させることができる表示駆動装置を提供し、以て、画像情報を良好に表示することができる表示装置並びにその駆動制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a flash memory element manufacturing method for which can minimize the interference effect between adjacent cells, and can improve a coupling ratio by increasing the contact area between a dielectric film and a floating gate, and can make the coupling ratio increased, a gate oxide film in a high voltage transistor area thicker than that of the tunnel oxide film in a cell area too.例文帳に追加

隣接セル間の干渉効果を最小化することができ、誘電体膜とフローティングゲートの接触面積を増加させてカップリング比を向上させることができ、セル領域のトンネル酸化膜より厚い高電圧トランジスタ領域のゲート酸化膜によってもカップリング比を増加させることが可能なフラッシュメモリ素子の製造方法の提供。 - 特許庁

In the method of thinning the semiconductor wafer 10 containing a first face 10a having a semiconductor element region and a second face 10b formed on the opposite side, the first face 10a of the semiconductor wafer 10 is pasted together with a first face 20a of a support substrate 20 for supporting the semiconductor wafer 10 via an adhesive layer 30.例文帳に追加

半導体の素子領域を有する第１の面１０ａと、これと反対側の第２の面１０ｂとを備えた半導体ウエハ１０を薄型加工する方法において、半導体ウエハ１０の第１の面１０ａと、半導体ウエハ１０を支持する支持基板２０の第１の面２０ａとを接着層３０を介して貼り合わせる。 - 特許庁