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material processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 10983件
To correctly process keeping quantities of recording heads mounted after replacement and recording materials of a recording material supply means and jetting recovery before recording when a recording head or recording material supply means is replaced with a different kind of new recording head or recording material supply means.例文帳に追加
使用中の記録ヘッドや記録材供給手段から新品の種類の異なった記録ヘッドや記録材供給手段へ交換する場合において、交換後装着された記録ヘッドや記録材供給手段の記録材の保持量や記録に先立つ吐出回復処理を正確に行う。 - 特許庁
As a result, in a cooling process after the crystal growth of SiC single crystal 4, even if the cap material 1b deforms according to the effect of the growth of SiC multicrystal on the cap material 1b, little effect is given to the pedestal 5 which is bonded to the cap material 1b through a joining member 6.例文帳に追加
このようにすれば、SiC単結晶4の結晶成長後の冷却過程において蓋材1bにSiC多結晶が成長した影響で蓋材1bが変形したとしても、接合部材6を介して蓋材1bに貼り合わされた台座5にはその影響があまり伝わらない。 - 特許庁
The water absorbing material 4 thus obtained is molded to be brought to predetermined thickness and this molded water absorbing material is held between a water permeable sheet 10 and a water impermeable sheet 20 to obtain the photocatalytic pulp laminated sheet 1 having a laminated structure equipped with the water permeable sheet 10, the water absorbing material 4 and the water impermeable sheet 20 (sheet molding process).例文帳に追加
このようにして得られた吸水体4を所定の厚みに成形して、透水性シート10と不透水性シート20間に挟持して、透水性シート10、吸水体4、不透水性シート20を備えた積層構造の光触媒パルプ1を得る(シート成形工程)。 - 特許庁
The plated copper alloy material can be manufactured by forming a Ni-plated layer on the surface of the copper alloy base material, then forming a Sn-plated layer and thereafter executing a reflow treatment or a heating process or by forming the Ni-plated layer on the surface of the copper alloy base material and thereafter executing melted Sn plating on top of it.例文帳に追加
銅合金基材の表面にNiめっき層を形成し、続いてSnめっき層を形成した後、リフロー処理又は加熱処理を行うか、銅合金基材の表面にNiめっき層を形成した後、その上に溶融Snめっきを行うことにより製造できる。 - 特許庁
To provide a multi-color thermal recording material which can detect the coating defect of the upper layer thermal coloring layer in a thermal coloring layer made of two layers in the multi-color thermal recording material, and to provide the manufacturing process of the multi-color thermal recording material which excludes a coating defect position.例文帳に追加
多色感熱記録体において、2層からなる感熱発色層中の上層の感熱発色層の塗工欠陥検出を可能した多色感熱記録体および塗工欠陥箇所を排除する多色感熱記録体の製造方法に関するものである。 - 特許庁
In a process of manufacturing the base material for the friction material where segment pieces 3 as part of the wet type friction material 1 are cut out, a step of forming paper making grooves in the surfaces with pressing or cutting work while making paper is first performed, whereby a groove depth can be precisely formed because a paper making body has no elasticity.例文帳に追加
湿式摩擦材1を構成するセグメントピース3が切り出される摩擦材基材の製造工程においては、まず抄紙しながらプレスまたは切削によって表面に抄紙溝を形成する工程が実施され、抄紙体は弾性がないため溝深さ等を精度良く形成できる。 - 特許庁
In the process of sealing after a liquid crystal is injected, after the sealing material is applied on the injection port in a pressurized state, first pressure reduction is carried out to suck the sealing material into the inside of the injection port, then the sealing material is hardened and then the whole pressure is released by second pressure reduction.例文帳に追加
液晶注入後の封止を行う工程において、加圧状態にて封止材を注入口部分に塗布した後、第1の減圧を行って前記封止材を注入口内に引き込み、その後、前記封止材を硬化させた後、第2の減圧により加圧を全解除する。 - 特許庁
To provide a positive resist material, in particular a chemically amplified positive resist material, which surpasses a conventional positive resist material, has high sensitivity, high resolution, exposure margin and process adaptability, ensures a good pattern shape after exposure and particularly small line edge roughness, and exhibits superior etching resistance.例文帳に追加
従来のポジ型レジスト材料を上回る高感度及び高解像度、露光余裕度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、特にラインエッジラフネスが小さく、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁
To provide a roller for carrying a photosensitive material which can maintain mechanical rigidity in the process of molding a hollow cylindrical roller from a specified resin material having oil resistance even when the thickness of the roller is decreased and which does not damage the emulsion surface of a photosensitive material.例文帳に追加
耐油性を具備した所定樹脂材料を用いて中空筒状のローラを成型するときに、肉厚寸法を小さくした場合でも機械的な剛性を確保することができ、かつ感光材料の乳剤面に対する損傷を与えない感光材料搬送用ローラの提供。 - 特許庁
A pattern data generation apparatus according to an embodiment comprises a storage section which stores a table specifying for self-organization information combining for a self-organization material, a film thickness of the self-organization material and a process condition for the self-organization material for every pattern dimension.例文帳に追加
本実施形態によれば、パターンデータ生成装置は、パターン寸法毎に、自己組織化材料、前記自己組織化材料の膜厚、及び前記自己組織化材料に対するプロセス条件を組み合わせた自己組織化情報が規定されたテーブルを記憶する記憶部を備える。 - 特許庁
If an object is made of a material with unspecified composition and structure, in the case of an invention relating to a process of creating such object, information concerning the characteristics of the material and the application characteristics of the object shall be provided in such a manner that it allows the identification of the material and the object. 例文帳に追加
ある物が組成及び構造が不定の物質から成るとき,かかる物を作る方法に関する発明の場合は,当該物質の特性及び当該物の利用特性に関する情報は,当該物質及び当該物の特定ができる態様で記載するものとする。 - 特許庁
The method for forming a tungsten nitride film uses an MOCVD process, in which a tungsten precursor material and a nitrogen source material are charged into a reaction chamber at a predetermined ratio, and the tungsten nitride film is vapor-deposited on a semiconductor substrate at a predetermined temperature, wherein the nitrogen source material is a hydrazine derivative.例文帳に追加
タングステン前駆体物質及び窒素ソース物質を所定割合で反応チャンバー内へ流入し、所定の温度で半導体基板上にタングステン窒化膜を蒸着するMOCVD工程を用いたタングステン窒化膜の形成方法において、窒素ソース物質をヒドラジン誘導体とする。 - 特許庁
To provide an etching method applicable in a process for etching an organic material film with an inorganic material film serving as a mask, capable of maintaining a high etching rate according to a pattern to be etched with a superior result in shape and in in-plane uniformity, and which is free of inorganic material film exfoliation.例文帳に追加
無機材料膜をマスクとして有機材料膜をエッチングする場合に、エッチングパターンに対応して、高いエッチングレートを維持しつつ、良好なエッチング形状で、良好な面内均一性でかつ無機材料膜の膜剥がれが生じずにエッチングすることができるエッチング方法を提供すること。 - 特許庁
A rod element made of rubber material having outer diameter dimensions substantially same as inner diameter dimensions of a guard pipe, or a non-foam resin material sufficiently foamed by heating in a paint baking process of the guard pipe is inserted in the guard pipe before processing as vibration damping material.例文帳に追加
ガードパイプの内径寸法と略同等の外径寸法を有するゴム質材からなる棒状体や、ガードパイプの塗装焼き付け工程の加熱で十分に発泡する材質の未発泡樹脂材などを、加工前のガードパイプの内部に振動減衰材として挿入する。 - 特許庁
To provide a molding material from which a molded article having high dynamic characteristics and containing reinforcing fibers well dispersed in the molded article on an injection molding without deteriorating the economy and productivity of the molding material in a process for producing the molding material.例文帳に追加
成形材料を製造する過程での経済性、生産性を損なうことなく、かつ、射出成形を行う際には強化繊維の成形品中への分散が良好であり、高い力学特性を有する成形品を容易に製造できる成形材料を提供する。 - 特許庁
To obtain a coating material for preventing the corrosion of copper without changing a production process and an insulating material, and further to prevent the corrosion of a copper tube such as the copper tube for a finned tube-type heat exchanger, and the copper tube for water and hot-water supply by using the coating material for preventing the corrosion of the copper.例文帳に追加
製造工程及び断熱材を変更することなく、銅の腐食を防止することができる腐食防止用塗料を得、この腐食防止用塗料を用いてフィンチューブ型熱交換器の銅管、給水給湯用銅管などの銅管の腐食を防止することを目的とする。 - 特許庁
The gas separation device 50 is used for a film deposition system 10 provided with: a first vaporizer 40 where a liquid raw material L1 pressure-fed by an inert gas G1 is vaporized, so as to produce a gaseous starting material G2; and a process chamber 20 for performing film deposition using the gaseous starting material G2.例文帳に追加
ガス分離装置50は、不活性ガスG1によって圧送される液体原料L1を気化して原料ガスG2を生成する第1の気化装置40と、原料ガスG2を用いて成膜を行うためのプロセスチャンバ20とを備える成膜装置10に用いられる。 - 特許庁
Thereby, tissue surfaces of microorganisms are broken in a process for circulating a part of the raw material heated up by the pressurizing and kneading in the forward direction in the treatment tank while pressurizing and kneading the raw material in the retreating direction and the resultant microorganisms in the raw material are made to stay at ≥70°C temperature for ≥1 min and killed.例文帳に追加
これにより、前進方向の加圧・混練で昇温された原料の一部を後退方向へ加圧・混練しながら処理槽内を循環させる過程で、組織表面を破壊させた微生物を70℃以上の温度下に1分以上滞留させて原料中の微生物を殺死させる。 - 特許庁
The process comprises adding, into a solution of an organic or inorganic material dissolved in a good solvent, a poor solvent of the above material miscible with the good solvent and thus reducing the concentration of the material, and it is characterized by giving an associate, a polymer, or a crystal having a particulate size of 100 μm or less.例文帳に追加
良溶媒に溶解した有機又は無機材料溶液中に該良溶媒と相溶する前記材料の貧溶媒を添加することによって該材料の濃度を低下させることを含む、粒径100μm以下の会合体、重合体又は結晶からなる微粒子を製造する方法。 - 特許庁
This method for forming a three-dimensional structure includes a first process of dropping a liquid material with a structure-forming material dispersed or dissolved therein onto a substrate or an object arranged on the substrate, and drying a part or all of a solvent in the liquid material to form a dried body.例文帳に追加
本発明の立体構造物の形成方法は、構造物形成材料を分散または溶解させた液体材料を基板上または基板上に配置された物体に滴下し、液体材料の溶媒の一部または全てを乾燥させて乾燥体を形成する第1の工程を有する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device capable of achieving high density, thin shape and low cost, which achieves chip mounting with high precision, which needs no preparation of position marks on a base material at the time of chip mounting on the base material in a manufacturing process, and which can make removing of the base material easy, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加
高精度なチップ搭載を実現し、製造工程中において、基材上にチップ搭載時の位置マークを設ける必要がなく、基材の除去を容易にすることができる、高密度、薄型及び低コストを実現する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
Substrate dimples 11a are formed on an edge face forming the sliding face of a substrate material 11 made of a sintered ceramic material and covered with a film of a hard material such as amorphous carbon, diamond- like carbon, titanium carbide, titanium nitride, titanium carbonitride and silicon nitride evaporated by plasma CVD or PVD process.例文帳に追加
焼結されたセラミックスからなる下地材11の摺動面となる端面11aに、下地ディンプル11aを加工し、アモルファスカーボン、ダイヤモンドライクカーボン、炭化珪素、炭化チタン、窒化チタン、炭窒化チタン、窒化珪素等の硬質材料をプラズマCVD又はPVDにより蒸着して成膜する。 - 特許庁
A gas G is injected between a first resin material 11 injected in a first injection process and a movable part 5 of a mold 2 and the pressure is held, thereby pressing the first resin material 11 to closely contact with the mold 2, and preventing the contraction of the first resin material 11.例文帳に追加
第1の射出工程で射出された第1の樹脂材料11と金型2の可動部5との間に、ガスGを注入し、保圧することで、第1の樹脂材料11を押圧して、金型2に密接させることができ、第1の樹脂材料11の収縮を防止することができる。 - 特許庁
To reduce nitrogen content in a material to be treated by producing sulfuric acid simply and safely in an organic material treatment process without providing an exclusive apparatus and lowering the pH of the material to be treated by the sulfuric acid to collect ammonia nitrogen as ammonium sulfate to prevent the volatilization of the ammonia nitrogen.例文帳に追加
専用の装置を設けることなく、有機物処理過程において簡易・安全に硫酸を発生させ、その硫酸によって被処理物のpHを低下させ硫酸アンモニウムとして捕捉することでアンモニア態窒素の揮散を防止し、被処理物の窒素含有率低下を図る。 - 特許庁
To provide a liquefaction preventive construction method for improving permeation of a grout material into the ground by crushing cement particulates included in the grout material furthermore and reducing cost and time required by the whole process without generating waste grout material having difficulty in its permeation into the ground.例文帳に追加
グラウト材に含まれるセメント微粒子をさらに砕粒して地盤に対する浸透性を向上させるとともに、地盤への浸透が困難になる無駄なグラウト材を生じさせずに、工程全体に要するコストおよび時間を削減できる液状化防止工法を提供する。 - 特許庁
The transmittance for light of an optical material is suppressed by laser irradiation at a time of ion irradiation without melting or softening the optical material for a crystal or amorphous transparent optical material in a damaging environment by an ion injection process or ion irradiation.例文帳に追加
イオン注入プロセスもしくはイオン照射損傷環境下における結晶質あるいは非晶質の透明性光学材料に対し、これら光学材料の溶融あるいは軟化を行うことなく、イオン照射と同時にレーザーを照射して光学材料の光透過率の低下を抑える。 - 特許庁
In the vacuum film deposition system where a sheet-shaped flexible base material is wound around a film deposition drum, and film deposition is performed, the film deposition drum is provided with a means of winding the flexible base material therearound, applying tension to the base material in the process of the film deposition, and holding the same.例文帳に追加
シート状のフレキシブル基材を成膜ドラムに巻き付けて成膜する真空成膜装置であって、前記成膜ドラムに、フレキシブル基材を巻き付けて成膜中に該基材に張力を付与して保持する手段を具備することを特徴とする真空成膜装置である。 - 特許庁
The blowing method of the synthetic resin material fuel from a tuyere when a pig iron is produced in the metallurgical furnace uses the granulated synthetic resin material fuel which contains ≥70 mass% within ±20% the average grain diameter and which is produced by solidifying after applying a melting process to the resin material.例文帳に追加
冶金炉で銑鉄を製造するにあたり羽口から合成樹脂材燃料を吹込む方法において、樹脂原料を溶融工程に付した後に固化して製造された造粒物であり、平均粒径の±20%以内に70質量%以上が含まれる合成樹脂材燃料を吹込む。 - 特許庁
In a process for purifying the recovered electronic functional material, bulky particles and high density particles or minute particles and low density particles are separated and removed from the powdery electronic functional material by utilizing resistance force difference based on grain size or density of particles constituting the powdery electronic functional material.例文帳に追加
回収した電子機能材料を精製する過程で、粉体状電子機能材料を構成する粒子の粒径または密度に基づく抵抗力の差を利用して、粉体状電子機能材料から粗大粒子や高密度粒子、また微小粒子や低密度粒子を分離除去する。 - 特許庁
The housing and the vapor phase raw material distribution head 34 define a plenum 32 coupled to a film precursor evaporation system 50, and configured to receive the vapor phase raw material of the film precursor 52 from the evaporation system 50 and distribute the vapor phase raw material to the process chamber 10 through the plurality of the openings.例文帳に追加
ハウジングと気相原料分散ヘッド34により、膜前駆体蒸発システム50と結合され、蒸発システム50からの膜前駆体52の気相原料を受けてこの気相原料を複数の開口を通してプロセスチャンバ10へ分散するよう構成されるプレナム32が形成される。 - 特許庁
To provide a methanol synthesis reactor and a methanol synthesis method which secure a conversion rate higher than the equilibrium conversion rate in one pass, to thereby ensure a high methanol yield, even without circulating a raw material gas, in the process for preparing methanol from a raw material gas using a biomass or the like as a raw material.例文帳に追加
バイオマス等を原料とする原料ガスからメタノールを作製するプロセスにおいて、ワンパスで平衡転化率を超える高い転化率を確保し、原料ガスを循環せずとも高いメタノール収率を得ることができるメタノール合成反応器およびメタノール合成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for removing rib forming material from an exhaust hole and a method in which the rib forming material does not enter the exhaust hole in order to prevent defective products which are caused by entering of the rib forming material into the exhaust hole in a rib forming process of a back face board for a PDP.例文帳に追加
PDP用背面板のリブ形成工程で、排気孔内にリブ形成材料が入り込むことによる不良品発生を防止するため、排気孔内のリブ形成材料の除去方法、あるいはリブ形成材料が排気孔内に入らない方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for material management that can automate cutting position marking and labeling operations on a parent material and prevent the generation of products deviating from manufacturing specifications, in a process of cutting a parent material to manufacture child materials, and provide an automatic marker/labeler for use therein.例文帳に追加
親材を切断して子材を製造するプロセスにおいて、親材への切断位置の罫書きとラベル貼付作業を自動化するとともに、製造仕様と異なる製品の発生を防止できる材料の管理方法及びそれに用いる自動罫書き&ラベラー装置を提供する。 - 特許庁
Since the removal of uranium from a polymer material is relatively simple, even if the polymer material is mixed, the mingling of uranium can be suppressed, and if the polymer material is mixed into the ground product, it is oxidized and scattered in a following melting spheroidization process so that there may be no problem.例文帳に追加
また、高分子材料からのウラン除去は比較的簡単なので、万が一、高分子材料が混入してもウランの混入が抑制できる上、高分子材料が粉砕物中に混入してもその後の溶融球状化工程において酸化・飛散するので問題になり難い。 - 特許庁
The graphite waste and the defective formed material are constituted of at least one kind of an electrode for electric furnace, an electrode for electric discharge machining, a graphite crucible, an iron tapping runner of blast furnace, a sliding nozzle material of tundish and a fate valve material of tundish in the last process in the blast furnace.例文帳に追加
黒鉛の廃棄物及び不良成形物は、電気炉用電極、放電加工用電極、黒鉛坩堝、高炉出銑樋、溶鉱炉の最終工程にあるダンディッシュのスライディングノズルの材料及びダンディッシュのゲートバルブの材料の少なくとも1種から構成されている。 - 特許庁
To provide a coating method which reduces uneven coating on a material to be coated and forms a coating film of even thickness in a method for coating process which forms a coating film on the peripheral surface of the material to be coated by immersing in a coating liquid the above material to be coated, and to provide a method for manufacturing a photoreceptor for electrophotography and a method for producing images.例文帳に追加
被塗工物を塗工液に浸漬する事により該被塗工物の外周面に塗膜を形成する塗工方法において、被塗工物の塗工ムラが少なく膜厚ムラのない塗工方法、並びに電子写真感光体、画像形成方法を提供する。 - 特許庁
A seal material 52a is cured by selectively irradiating an uncured seal material 52a with infrared rays L1, and a first large substrate 210 including a TFT array substrate 10 and a second large substrate 220 including a counter substrate 20 are stuck to each other by the cured seal material 52 (forth process).例文帳に追加
未硬化のシール材52aに選択的に赤外線L1を照射することによってシール材52aを硬化させ、硬化したシール材52によってTFTアレイ基板10を含む第1大型基板210と、対向基板20を含む第2大型基板220を相互に接着する(第4工程)。 - 特許庁
The plasma etching method is to etch the base material to be processed by repeating alternately the deposition step S09 by a deposition gas and the etching step S11 by an etching gas, and intervenes an exhaust process providing exhaust steps S10, S13 for exhausting a process gas once when the process gas is switched.例文帳に追加
このプラズマエッチング法は、デポジッションガスによるデポジッション工程S09とエッチングガスによるエッチング工程S11とを交互に繰り返すことで被加工基材をエッチングするものであり、プロセスガスを切り替える際に一旦そのプロセスガスを排気する排気工程S10,S13を設けた排気工程を介在させた。 - 特許庁
The method for producing the acidic gel-like food is characterized by comprising a protein-insolubilizing process for thermally denaturing the protein of raw material to form the insoluble protein, a pH-adjusting process for mixing the insoluble protein with the gellant gum and adjusting the mixture into an acidic state, and a gelling process for gelling the pH-adjusted mixture.例文帳に追加
この酸性ゲル状食品は、原料たんぱく質を加熱変性して不溶化たんぱく質を形成するたんぱく質不溶化工程と、前記不溶化たんぱく質とジェランガムとを混合して酸性に調整するpH調整工程と、前記pH調整後の混合物をゲル化するゲル化工程によって製造される。 - 特許庁
The raw material is cut out in the size of each member in a cut-out process 104 by control using the allocation data 122, discrimination information is printed on member surfaces in a member discrimination-information printing process 105, and staining for discriminating building object is conducted in a member marking process 106.例文帳に追加
この割り当てデータ122を用いた制御により、切り出し過程104において原材が各部材のサイズに切り出され、部材識別情報印刷過程105において部材表面に識別情報が印刷され、部材マーキング過程106において建物物件を識別するための色付が行われる。 - 特許庁
A construction method for embankment on the backside of the substructure comprises a process for constructing the substructure 3, a process for constructing backside fill 5 by providing a prescribed separation section 6 on the backside 3a of the substructure 3, and a process for infilling a filling material 8 into a cavity W which is formed by providing the prescribed separation section after a lapse of a predetermined period.例文帳に追加
橋台背面盛土工法は、橋台3を施工する工程と、橋台3の背面3aに所定の離隔6を設けて背面盛土5を構築する工程と、所定期間経過後に所定の離隔により形成される空隙Wに間詰材8を充填する工程と、を有する。 - 特許庁
Cutting, a broken stone foundation process, a process, in which the foamed lightweight material 5 is laid between a space as the girder section 3 and the ground surface 4 while forms and bar arrangement are executed, and a process in which concrete is placed and cured and the foundation upstanding section 2 and the girder section 3 are formed integrally by one-time concrete placing are contained.例文帳に追加
また、根切り、割栗地業工程と、桁部となる空間と地盤面との間に発泡軽量材を敷込むとともに、型枠、配筋を施す工程と、コンクリートを打設、養生して基礎立上り部と桁部を1回のコンクリート打設により一体形成する工程とが少なくとも含まれてなるものである。 - 特許庁
The laser beam processing method is provided with; a process for forming a wax-film 6 on the surface to be processed in a material 3 to be processed; a process for laser beam-processing by condensing and emitting the laser beam onto a zone to be processed on the surface to be processed from the wax-film 6 side; and a process for removing the wax-film 6.例文帳に追加
被加工物3の加工すべき表面にワックス皮膜6を形成する工程と、前記ワックス皮膜6側から前記加工すべき表面の加工すべき領域にレーザを集光照射してレーザ加工する工程と、前記ワックス皮膜6を除去する工程と、を有することを特徴とするレーザ加工方法。 - 特許庁
In the processing apparatus in which a lithographic printing plate coated with a photosensitive material subjected to image formation with an FM screen or a high-definition AM screen is processed through at least a developing process and a washing process in order, the lower roller 62B of a pair of inlet rollers 62 present at the inlet of the washing process 10 has projected and recessed parts and grooves.例文帳に追加
FMスクリーンまたは高精細AMスクリーンで画像形成する感光材料が塗設された平版印刷版を少なくとも現像プロセス、水洗プロセスを順に処理する処理装置において、水洗プロセス10の入口にある一対の入口ローラ62の下ローラ62Bに凹凸部または溝を設けた。 - 特許庁
The method is furnished with a molding process step of molding the diffractive optics by curing the photosetting resin material without heating, a parting process step of parting the molded goods formed by molding from molds and a curing process step of completely curing the molded goods parted from the molds by heating after irradiating the molded goods with light.例文帳に追加
光硬化性の樹脂材料を型上で加熱せずに硬化させて回折光学素子を成形する成形工程と、成形された成形品を型から離型する離型工程と、離型された成形品に光を照射した後に加熱することにより完全硬化させる硬化工程とを具備する。 - 特許庁
To provide a process for sulfurizing a hydrotreatment catalyst, particularly, a sulfurization-resistant oxide of the hydrotreatment catalyst, the hydrotreatment catalyst sulfurized by the process and use of the hydrotreatment catalyst sulfurized by the process when a hydrocarbon supply raw material is hydro-refined and/or hydro-converted/hydrocracked.例文帳に追加
水素化処理触媒、特に耐硫化性の水素化処理触媒酸化物の硫化方法、前記硫化方法によって硫化された触媒、炭化水素供給原料の水素化精製および/または水素化転化/水素化分解のための前記硫化方法によって得られた触媒の使用を提供する。 - 特許庁
A material quantity flow evaluation section 3 specifies a treating method corresponding to kind and quantity of the waste, concentration and level of harmful substances by using waste attribute data in a waste database 1 and waste treating process specification data in a waste treating process database 2, and evaluates a process in which the waste is treated and an amount by which the waste is treated.例文帳に追加
物量フロー評価部3は、廃棄物データベース1の廃棄物属性データ、廃棄物処理プロセスデータベース2の廃棄物処理プロセス仕様データを用いて、廃棄物の種類、量、有害物の濃度およびレベルに応じた処理方法を特定し、どのプロセスでどのくらいの量を処理するかを評価する。 - 特許庁
The manufacturing method of the electrode 11 for the fuel cell is equipped with a process of forming the spacer member 2 at the peripheral part of the surface of the electrode base material 1, a process of coating a catalyst paste in a region surrounded by the spacer member 2, and a process of forming the catalyst layer 3 by crimping after drying the catalyst paste.例文帳に追加
本発明による燃料電池用電極11の製造方法は、電極基材1表面の周縁部にスぺーサ部材2を形成する工程と、スぺーサ部材2で囲まれる領域に触媒ペーストを塗布する工程と、触媒ペーストを乾燥した後、圧着して触媒層3を形成する工程とを備える。 - 特許庁
The catalyst ink is manufactured by forming catalyst-carrying carbon particles, by making carbon particles controlled so that the diameter of fine pores on surface becomes large (process 100) carry the catalyst that does not contain electrolyte (process 110), and by mixing and dispersing solvent and solid polymer electrolyte material to the catalyst-carrying carbon particles (process 140).例文帳に追加
表面微細孔径が大きくなるように制御したカーボン粒子に(工程100)、電解質を含まない触媒を担持させて触媒担持カーボン粒子とし(工程110)、この触媒担持カーボン粒子に溶媒と、固体高分子電解質材料とを混合、分散させて触媒インクとする(工程140)。 - 特許庁
To provide a promising bottom resist layer material as a bottom resist film for a multi-layer resist process such as a silicon-containing two-layer resist process or a three-layer resist process with a silicon-containing intermediate layer for instance, by having the optimum n-value, and k-value in exposure of short wavelength and having excellent etching resistance in a substrate etching condition.例文帳に追加
短波長の露光において、最適なn値、k値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性にも優れ、例えば、珪素含有2層レジストプロセス、あるいは珪素含有中間層による3層レジストプロセスといった多層レジストプロセス用レジスト下層膜として有望なレジスト下層膜材料を提供する。 - 特許庁
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