「metal concentration」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The metal corrosion suppression method of a water system is characterized in that at least phosphate, zinc salt, and M alkalinity component are added to the water system, total phosphorus concentration and total zinc concentration respectively exceed 0 and ≤1 mg/L and the Langelier's index at 30°C is specified to ≥1.2.例文帳に追加

水系の金属腐食抑制方法であって、少なくともりん酸塩と、亜鉛塩と、Ｍアルカリ度成分と、が添加され、全りん濃度及び全亜鉛濃度がそれぞれ０を超え１ｍｇ／Ｌ以下、かつ、３０℃におけるランゲリア指数を１．２以上とすることを特徴とする水系の金属腐食抑制方法。 - 特許庁

To provide a diaphragm attached cold molding square steel pipe for welding a diaphragm to connect it to cold press molding square steel pipes, a deposited metal is preceded to make a plastic deformation when stress such as bending or the like is applied to a joint section and assisting in stress concentration or strain concentration at a heat-affected zone to facilitate the incurrence of destruction.例文帳に追加

冷間プレス成形角形鋼管にダイヤフラムが溶接接合され、接合部に曲げ等の応力がかかったた場合、溶着金属が先行して塑性変形し、熱影響部（ＨＡＺ）での応力集中または歪集中が助長され破壊を招き易くなる。 - 特許庁

This method for transforming antibiotic-resistant bacteria to sensitive bacteria is to successively giving metal polyacid ions in a concentration less than the minimum inhibitory concentration MIC (preferably 1/100-1/10) for ≥5 passage number of the successive passage of the resistant bacteria.例文帳に追加

耐性菌を感受性菌へ転換するこの方法は、最小発育阻止濃度ＭＩＣより低い濃度（好ましくは１／１００〜１／１０）の金属ポリ酸イオンを、少なくとも耐性菌５代以上の継代時間にわたって継続投与するものである。 - 特許庁

According to the method of etching metal, at a concentration control point 6 where a groove 3 formed in a copper substrate 2 by etching is reached to a predetermined depth, a concentration of a liquid chemical for forming an etching controlled coating by replenishing a new solution into an etching solution 4, is reduced from 1,000 ppm to 500 ppm.例文帳に追加

この金属のエッチング方法によれば、エッチングにより銅基板２に形成される溝３が設定深さに達した濃度制御点６において、エッチング液４中に新液を補充してエッチング抑制被膜を形成するための薬液の濃度を１０００ｐｐｍから５００ｐｐｍへ低下させる。 - 特許庁

In replenishing the zinc to the hot dip galvanizing bath by charging the zinc ingot containing the Al into the hot dip galvanizing bath, the zinc ingot having an Al concentration x2 of 1 to 1.4 times the Al concentration x1 in the molten metal in the hot dip galvanizing bath is used as the zinc ingot.例文帳に追加

溶融亜鉛めっき浴へＡｌを含有する亜鉛インゴットを投入して、該溶融亜鉛めっき浴へ亜鉛を補給するにあたり、前記亜鉛インゴットとして、Ａｌ濃度ｘ２が前記溶融亜鉛めっき浴中の溶融金属中Ａｌ濃度ｘ１の１〜１．４倍であるものを用いる。 - 特許庁

The first explosion-proof body 10 (sensor protection tube 7 and metal wire gauze 9) is provided to cover a heater built-in type gas concentration sensor element 4, and the second explosion-proof body (capillary) 11 is provided in a passage for introducing the measured gas flowing in a main tube 50 into a gas concentration sensor element 4 side.例文帳に追加

ヒータ内蔵型のガス濃度センサ素子４を覆うように第１防爆体１０（センサ保護管７および金網９）を設け、本管５０内を流れる被測定ガスをガス濃度センサ素子４側に導く通路に第２防爆体（細管）１１を設けた。 - 特許庁

To prevent dispersion of Rh from the thermocouple element side having high concentration Rh to the thermocouple element side having low concentration Rh, to reduce decline of an electromotive force in use at a high temperature, to increase the strength of the Pt-Rh based noble metal thermocouple, and to elongate its service life.例文帳に追加

高濃度Ｒｈの熱電対素線側から低濃度Ｒｈの熱電対素線側へとＲｈが拡散するのを防止し、高温下での使用における起電力の低下を小さくし、併せてＰｔ−Ｒｈ系貴金属熱電対の強度の増大を図り、その寿命を向上させる。 - 特許庁

The oxide containing magnetic layer includes two or more layers, a Cr concentration of the layer adjacent to the ferromagnetic metal layer is ≥23 at.% and ≤32 at.%, and a difference of the Cr concentration between the adjacent layers is ≤25 at.% and a layer having a lowest Cr concentration has a granular structure in which the oxide encloses a ferromagnetic particle, and a reverse magnetic domain nucleation magnetic field is ≥159.2 kA/m.例文帳に追加

酸化物を含む磁性層は二層以上の層から構成され、強磁性金属層に隣接する層のＣｒ濃度が２３at.%以上３２at.%以下であり、隣接する層間のＣｒ濃度の差が２５at.%以下であり、最もＣｒ濃度の低い層は酸化物が強磁性粒子を取り囲んだグラニュラー構造を有し逆磁区核形成磁界が１５９．２ｋＡ／ｍ以上である。 - 特許庁

In this method of manufacturing the catalyst, a platinum- supported carbon catalyst and a ruthenium compound solution are mixed to prepare a mixture solution, and the mixture solution and a gas or a liquid having reducing action are reacted in a static mixer suitably used for stirring a mixture liquid of high viscosity under a proper concentration product of a concentration of a reducing agent and a concentration of noble metal to reduce the ruthenium.例文帳に追加

白金担持カーボン触媒とルテニウム化合物溶液とを混合して混合溶液を製造し、該混合溶液と還元作用を有する気体又は液体とを適切な還元剤濃度と貴金属濃度の濃度積の下、高粘度混合液の攪拌に適したスタティックミキサー中で反応させることにより、ルテニウムを還元させることを特徴とする触媒製造方法。 - 特許庁

To provide a measurement method of hydrochloric acid concentration in a hydrochloric acid containing chlorine that measures the concentration of the hydrochloric acid after mixing a metal iodide solution with the hydrochloric acid containing the chlorine, precisely can measure the concentration of hydrochloric acid in the hydrochloric acid containing the chlorine with simple operation, and hence is advantageous from the point of view of an analysis precision and operability.例文帳に追加

塩素を含有する塩酸に金属ヨウ化物溶液を混合した後、塩酸の濃度を測定する方法であって、塩素を含有する塩酸中の塩酸の濃度を測定するに際し、塩酸の濃度を高精度に、かつ簡易な操作で行うことができ、よって分析精度、操作性の観点から極めて有利な塩素を含有する塩酸中の塩酸の濃度の測定方法を提供する。 - 特許庁

Measurement of the concentration of a metal impurity of an acquired wafer (Fe-B concentration by SPV (surface photo-potential) method) confirms that the Fe-B concentration at the peripheral part of the wafer SW decreases as the mixture ratio of hydrogen decreases, from 100% (conventional example only with hydrogen) to 50%, 25%, and 10%.例文帳に追加

得られたウェーハの金属不純物の濃度（ＳＰＶ法によるＦｅ−Ｂ濃度）を測定したところ、水素の混合比率が１００％（すなわち水素のみの従来例）と比べて、５０％（実施例１）、２５％（実施例２）、および１０％（実施例３）と低くなる程、ウェーハ外周部のＦｅ−Ｂ濃度も低くなることが確認された。 - 特許庁

This semiconductor device comprises: lower concentration source/drain regions 106 and higher concentration source/drain regions 108 formed in a semiconductor substrate 101; a gate insulating film 102 formed on a region of the semiconductor substrate 101 between the lower concentration source/drain regions 106; and the gate electrode 103 formed on the gate insulating film 102 as seen in the plan view, and composed of metal silicide.例文帳に追加

半導体装置は、半導体基板１０１内に形成された低濃度ソース・ドレイン領域１０６および高濃度ソース・ドレイン領域１０８と、半導体基板１０１のうち平面的に見て低濃度ソース・ドレイン領域１０６の間に位置する領域の上に形成されたゲート絶縁膜１０２と、ゲート絶縁膜１０２上に形成され、金属シリサイドからなるゲート電極１０３とを備えている。 - 特許庁

In polishing metal films 24, 27, the method for manufacturing a semiconductor device includes has a first process that performs polishing where polishing speeds of insulating films 22, 25 is certain speeds or more and polishing is performed with a polishing agent 11 containing an oxidizing agent concentration and a second process that performs polishing with the polishing agent 11 at a lower concentration of the oxidizing agent concentration than in the first process.例文帳に追加

金属膜２４、２７の研磨において、絶縁膜２２、２５の研磨速度が一定以上となり、酸化剤濃度を含んだ研磨剤１１で研磨する第一の工程と、第一の工程よりも酸化剤濃度が低い研磨剤１１で研磨する第二の工程を有する半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

The copper-zinc alloy electroplating bath contains copper salt, zinc salt, alkali metal pyrophosphate and at least one selected from amino acids and the salts thereof and has ≤5% volumetric molar concentration ratio (A/M) (wherein A is the volumetric molar concentration of the amino acid or the salt thereof; and M is the total volumetric molar concentration of the copper ions and zinc ions contained in the copper-zinc alloy electroplating bath).例文帳に追加

銅塩と、亜鉛塩と、ピロりん酸アルカリ金属塩と、アミノ酸またはその塩から選ばれた少なくとも一種と、を含有する銅−亜鉛合金電気めっき浴において、浴中に含まれる銅イオンおよび亜鉛イオンの総容量モル濃度Ｍに対する、アミノ酸またはその塩の容量モル濃度Ａの比（Ａ／Ｍ）が、５％以下である銅−亜鉛合金電気めっき浴である。 - 特許庁

Since the N-type layer 13 becomes an N type concentration gradient layer 13a having a concentration profile which decreases in the depth direction from the bonding surface with the Schottky layer 14 by afterward activating of Si ions, the bonding part of a Schottky electrode 14a consisting of the Schottky metal layer 14 and the N type concentration gradient layer 13a becomes the super stage junction structure.例文帳に追加

従って、その後のＳｉイオンの活性化により、Ｎ^- 型ＧａＡｓ層１３は、ショットキー金属層１４との接合面から深さ方向に向かってＳｉ濃度が減少する濃度プロファイルをもつＮ型濃度勾配層１３ａとなるため、ショットキー金属層１４からなるショットキー電極１４ａとＮ型濃度勾配層１３ａとの接合部は超階段接合構造になる。 - 特許庁

The polyamide resin composition includes a polyamide obtained by performing polycondensation of a diamine including 70 mol% or more of metaxylylenediamine and a dicarboxylic acid component, and an alkaline compound (A), wherein the sum of twice of the alkaline earth metal concentration and the alkali metal concentration in the polyamide resin composition is 9-45 μmol/g.例文帳に追加

メタキシリレンジアミンを７０モル％以上含むジアミンと、ジカルボン酸成分とを重縮合して得られたポリアミドとアルカリ化合物（Ａ）を含むポリアミド樹脂組成物であって、該ポリアミド樹脂組成物中のアルカリ土類金属濃度の２倍とアルカリ金属濃度の和が９〜４５μｍｏｌ／ｇであるポリアミド樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a method for recovering valuable metals by denitrifying valuable-metal-containing high nitrogen concentration and high salt concentration waste water with a granular bacterium by an anaerobic treatment device without diluting the industrial waste water, and adsorbing the valuable metal into the granular bacterium simultaneously, and effectively capturing it in bio-sludge.例文帳に追加

有価金属を含有する高窒素濃度及び高塩類濃度の廃水を嫌気性処理装置によりグラニュール菌を使用し、上記産業廃水を希釈することなく脱窒処理すると同時に有価金属をグラニュール菌中に吸着し、それを生物汚泥中へ効率よく捕捉する、有価金属回収方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for separating an electrode substance and a titanium or titanium alloy substrate from an insoluble metal electrode, which is mainly a used electrode or an electrode in use or unused, then recovering the substrate metal to be recycled as it is, and recovering the electrode substance as a precipitate in a high concentration that can be easily recovered with a sufficient concentration.例文帳に追加

主として使用済みまたは使用過程品あるいは未使用の不溶性金属電極から電極物質とチタンまたはチタン合金基体を分離し基体金属はそのまま再使用可能な状態として回収し、また電極物質は十分な濃度で容易に回収出来る高濃度の沈殿物として回収する方法を提供する。 - 特許庁

(1) The filling liquid for a liquid ejector which is filled in a liquid ejection head includes an alkaline electrolytic ion water, wherein the total amount of alkali metal (Li, Na, K) concentration and alkaline earth metal (Mg, Ca, Sr, Ba) concentration in the filling liquid is 1,000 ppm or less, and pH is 10 or more.例文帳に追加

（１）液体吐出ヘッドに充填される充填液であって、アルカリ電解イオン水を含有し、充填液中のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）濃度、及びアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）濃度の合計が１０００ｐｐｍ以下で、ｐＨが１０以上であることを特徴とする液体吐出装置用充填液。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a silicon epitaxial wafer, which enables manufacturing of a silicon epitaxial wafer including a heavy metal impurity of a low concentration, especially a heavy metal impurity in a surface layer region of a silicon single-crystal thin film serving as a device active layer that has a concentration lower than that of a conventional impurity, and thus having superior device characteristics.例文帳に追加

シリコンエピタキシャルウェーハに含まれる重金属不純物、特にデバイス活性層であるシリコン単結晶薄膜の表層領域の不純物濃度が従来に比べて低く、優れたデバイス特性をもつシリコンエピタキシャルウェーハを得ることができるシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

This method for the chromosome hybridization in fluorescence in situ hybridization(FISH), comparative genomic hybridization(CGH) or the like is characterized by using a buffer solution for the hybridization containing an alkali metal salt at ≥600 mM concentration and sodium citrate at ≥60 mM concentration in the method for the chromosome hybridization using the buffer solution containing the alkali metal salt and the sodium citrate.例文帳に追加

アルカリ金属塩およびクエン酸ナトリウム塩を含有する緩衝溶液を用いる染色体ハイブリダイゼーション方法において、該アルカリ金属塩の濃度が６００mM以上であり、好ましくは該クエン酸ナトリウム塩が６０mM以上含まれてなるハイブリダイゼーション用緩衝溶液を用いることを特徴とするＦＩＳＨ(Fluorescence in situ hybridization)、ＣＧＨ(Comparative Genomic Hybridization)等における染色体ハイブリダイゼーション方法。 - 特許庁

To provide a method for calculating impurity metal concentration by conducting correction considering relationship of dependence, if it exists, among minority carrier diffusing length to be measured, passage time up to measurement from activation, resistivity and temperature in the measurement of concentration of impurity metal included in a silicon wafer using electromotive force at the surface of light.例文帳に追加

光表面起電力を用いたシリコンウエハに含まれる不純物金属濃度の測定において、測定される少数キャリア拡散長とアクティベーションから測定までの経過時間、抵抗率及び温度との間に依存関係がある場合に、それらを考慮した補正を行うことによって、不純物金属濃度を算出する方法を提供する。 - 特許庁

This metal separator with improve anti-corrosivity is so formed that the surface of a base metal 1 composed of the iron-based alloy containing at least one kind out of chromium, nickel, titanium, niobium, aluminum and silicon is etched to form the concentration layer 2 having concentrated additive element concentration in the vicinity of the surface.例文帳に追加

クロム、ニッケル、チタン、ニオブ、アルミニウム、ケイ素等のうち、いずれか少なくとも１種類を含む鉄基合金からなる母材１の表層をエッチング処理して、表面近傍における添加元素の濃度を濃縮させた濃縮層２を形成し、耐食性の向上を図った金属セパレータを構成する。 - 特許庁

The quartz glass contains metal elements and is improved in plasma corrosion resistance and has the concentration of metal elements of 0.1-20 wt.%, OH concentration of 100-2000 ppm, a content of foams and foreign substances of <100 mm2 projected area per 100 cm3, and the inner visible light transmissivity of 50%/cm or more.例文帳に追加

金属元素を含有しプラズマ耐食性を増大した石英ガラスであり、該金属元素の濃度が０．１〜２０ｗｔ％、ＯＨ濃度が１００〜２０００ｐｐｍ、石英ガラス体中の泡と異物の含有量が１００ｃｍ^3当たりの投影面積で１００ｍｍ^2未満で、可視光線の内部透過率が５０％／ｃｍ以上であるようにした。 - 特許庁

Measurement target metal element concentration in the sample gas is calculated from each known concentration, each detection signal intensity, the set capacity of the collected solution, an introduction set time of the index gas to the filter 13, the introduction time and introduction volume flow rate of the sample gas to the analyzer, and the integrated intensity of the detection signal of the measurement target metal element from the analyzer.例文帳に追加

各既知濃度、各検出信号強度、捕集溶液の設定容量、フィルタ13への指標ガスの導入設定時間、分析装置への試料ガスの導入時間と導入体積流量、及び分析装置からの測定対象金属元素の検出信号の積算強度から、試料ガスにおける測定対象金属元素濃度を算出する。 - 特許庁

The core flow rate correction processing part 30 has the second signal input part 31 for inputting a metal ion concentration in the coolant, a flow rate deviation estimating part 32 for estimating a flow rate deviation, based on an input value of the metal ion concentration, and a flow rate correcting part 33 for calculating a difference between the core flow rate and the flow rate deviation as a new core flow rate measured value.例文帳に追加

炉心流量補正処理部３０は、冷却材中の金属イオン濃度を入力する第２の信号入力部３１と金属イオン濃度の入力値から炉心流量偏差を推定する流量偏差推定部３２と、炉心流量と炉心流量偏差との差を新たな炉心流量測定値として算出する炉心流量補正部３３とを有する。 - 特許庁

To accurately control the adding of an insolubilizer into fluorine-containing wastewater based on this value obtained by measuring a fluoride ion concentration after removing a metal ion which becomes a hindrance substance in fluoride ion concentration analysis by a micro reactor when fluorine is separated as a hardly-soluble fluoride by adding the insolubilizer of fluorine into the fluorine-containing wastewater containing the metal ion as an impurity.例文帳に追加

金属イオンを不純物として含むフッ素含有排水にフッ素の不溶化剤を添加してフッ素を難溶性フッ化物として分離するに当たり、フッ素イオン濃度分析において妨害物質となる金属イオンをマイクロリアクタで除去した後フッ素イオン濃度を測定し、この値に基いてフッ素含有排水への不溶化剤添加量を的確に制御する。 - 特許庁

Since the hydroxide of alkali metal removes brittle layers on the surface of the resin stock to more largely allow active groups to appear, and catalyst metal is adsorbed on the surfactant adsorbed on the active groups, so that the catalyst metal can sufficiently be stuck thereto even if an inexpensive chemical containing the catalyst metal at a low concentration is used.例文帳に追加

アルカリ金属の水酸化物は樹脂素材表面の脆化層を除去して活性基をより多く表出させ、その活性基に吸着した界面活性剤に触媒金属が吸着するので、触媒金属を低濃度で含む安価な薬液を用いても触媒金属を十分に付着させることができる。 - 特許庁

In a decarburizing refining step in which carbon is oxidized by blowing oxygen gas and dilute gas into molten steel, when carbon concentration in the molten steel is higher than 5 mass %, the metal oxide wastes are thrown into the molten steel, oxygen in the metal oxides is utilized as oxygen sources during the decarburization, and the metal in the metal oxides is reduced and then, recovered.例文帳に追加

溶鋼中に酸素ガスおよび希釈ガスを吹込むことにより炭素を酸化する脱炭精練工程において、前記溶鋼中の炭素濃度が0.5質量％より高い濃度のときに、前記溶鋼中に金属酸化物系廃棄物を投入し、前記金属酸化物中の酸素を前記脱炭時の酸素源として利用するとともに、前記金属酸化物中の金属を還元して回収する。 - 特許庁

To establish a cleaning method using a microorganism, by which a sufficiently satisfactory cleaning rate and economic efficiency are exhibited with respect to removal of a heavy metal from a low-concentration heavy metal contamination, especially a bioreactor for accumulating/recovering a heavy metal so as not to cause redispersion of the heavy metal and a secondary environmental pollution, and a cleaning method.例文帳に追加

低濃度重金属汚染からの重金属の除去について十分に満足できる浄化速度や経済的効率性を発揮できる微生物利用浄化方法を確立すること、特に重金属の再拡散や二次的環境汚染を引き起こさないように重金属を蓄積・回収できるバイオリアクター及び浄化方法を提供する。 - 特許庁

The method for improving the adhesion between the metal thin film of a conducting layer and the electroplated film, comprises immersing the substrate provided with the metal thin film of the conducting layer, into a liquid of pH 2 or lower, which includes a predetermined concentration of a coupling agent having metal scavenging ability, before electroplating metal.例文帳に追加

導電層となる金属薄膜の付いた基板に対し、下記濃度の金属補足能を有するカップリング剤を含むｐＨ２．０以下の液へ浸漬処理を行い、その後に電気金属めっきを行うことを特徴とする導電層となる金属薄膜と電気めっき膜との密着性を向上させる金属膜間密着性向上方法。 - 特許庁

In a method for producing the metal titanate by reacting a titanium salt with a water-soluble metal salt in water, the titanium salt is a long filamentous titanium oxide, the concentration of the water-soluble metal salt is 0.4-20 mol/L and the particles of the metal titanate are produced by performing a reaction in a stirred state.例文帳に追加

チタン塩と水溶性金属塩を水中で反応させてチタン酸金属塩を製造する方法において、上記チタン塩が長繊維状酸化チタンであり、上記水溶性金属塩の濃度が０.４〜２０モル／Ｌであり、撹拌状態で反応させることにより、チタン酸金属塩粒子を製造する方法である。 - 特許庁

In this heavy metal recovery method, heavy metal components in ash are extracted as heavy metal ions using acidic water; the hydrogen ion concentration of the obtained extracted water is adjusted to 0.1mole/litter or more; a surfactant is added; the extracted water is foamed; the generated foams are separated from the extracted water; and the heavy metal ions are collected and recovered from the separated foams.例文帳に追加

酸性の水を用いて、灰中の重金属成分を重金属イオンとして抽出し、得られた抽出水の水素イオン濃度を０．１モル／リットル以上に調整し、界面活性剤を添加し、得られた抽出水を発泡させ、発生した泡を抽出水から分離し、分離した泡から重金属イオンを捕集回収する。 - 特許庁

In a method for producing the metal titanate by reacting a titanium salt with a water-soluble metal salt in water, the titanium salt is a long filamentous titanium oxide, the concentration of the water-soluble metal salt is 0.01-1 mol/L and a long filamentous metal titanate is produced by performing a reaction in a settled state.例文帳に追加

チタン塩と水溶性金属塩を水中で反応させてチタン酸金属塩を製造する方法において、上記チタン塩が長繊維状酸化チタンであり、上記水溶性金属塩の濃度が０.０１〜１モル／Ｌであり、静置状態で反応させることにより、長繊維状のチタン酸金属塩を製造する。 - 特許庁

In order to stably remove metal impurities on a wafer with good reproducibility, hydrogen ion concentration (pH) which determines metals dissolved in a cleaning chemical liquid and oxidation/reduction potential(ORP) which determines oxidation of metal are independently controlled, so that the metal impurities on the water which is to be cleaned are dissolved before changing to a hard-to-dissolve metal oxide.例文帳に追加

ウエハー上の金属不純物を安定に再現性良く除去するために、洗浄用薬液における金属の溶解を決める水素イオン濃度（ｐＨ）と金属の酸化を決める酸化還元電位（ＯＲＰ）を独立に制御し、ウエハー上の洗浄対象となっている金属不純物を難溶性の金属酸化物に変化させないうちに溶解させる。 - 特許庁

When a capacitor element obtained by winding or laminating the metallized film made of a metal vapor-deposited electrode containing zinc as a main component on the dielectric film, the zinc concentration of the vapor-deposited metal of the non-vapor deposited part side is raised, the vapor-deposited metal is thickly vapor-deposited, or the zinc containing quantity of the vapor-deposited metal is increased.例文帳に追加

誘電体フィルムに亜鉛を主体とする金属蒸着電極から成る金属化フィルムを巻回または積層してなるコンデンサ素子を形成する際に、非蒸着部側の蒸着金属の亜鉛濃度を高くすること、蒸着金属を厚く蒸着すること、または蒸着金属の亜鉛含有量を多くすることを特徴とする金属化フィルムコンデンサ。 - 特許庁

In the electrolytic refining method for nonferrous metal, a metal used to the hanger for the cathode plate is sintered at a temperature equivalent to 70 to 95% of the melting point indicated by the absolute temperature of the metal in a nonoxidizing atmosphere, and further, the concentration of oxygen in the nonoxidizing atmosphere is controlled to not higher than the concentration of equilibrium oxygen where the primary oxide of the metal is produced.例文帳に追加

陰極板用吊手に用いる金属を、該金属の絶対温度で表示する融点の７０〜９５％に相当する温度で、かつ非酸化性雰囲気下で焼鈍することを特徴とする電解精錬に用いる陰極板用吊手の製造方法、及び前記非酸化性雰囲気の酸素濃度は、前記金属の第一酸化物が生成する平衡酸素濃度以下であることを特徴とする前記製造方法などによって提供する。 - 特許庁

In the method for producing the metal oxide film, whose the crystal is gradually or continuously changed, is formed on a substrate by bringing metal oxide film forming solutions different in the concentration of an acid changing the crystal state of the metal oxide film into contact with the substrate heated to a metal oxide film forming temperature or above while changing the concentration of the acid.例文帳に追加

本発明は、金属源として金属塩または有機金属化合物が溶解し、かつ、金属酸化物膜の結晶状態を変化させる酸の濃度が異なる金属酸化物膜形成用溶液を、上記酸の濃度を変化させつつ、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基材に接触させることにより、上記基材上に、結晶状態が段階的または連続的に変化した金属酸化物膜を形成することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

In the anodization of magnesium or its alloy in an electrolyte containing an alkali metal hydroxide or the water soluble salt and a glycol compound, an alkali metal oxalate is added into the electrolyte in the concentration of 7.5-25 g/L.例文帳に追加

アルカリ金属の水酸化物又は水溶性塩とグリコール化合物とを含む電解液中で、マグネシウム又はその合金を陽極酸化するに当り、電解液中にシュウ酸アルカリ金属塩を７．５〜２５ｇ／リットルの濃度で添加する。 - 特許庁

To obtain a device for eluting metal ions which can easily control the concentration and amount of metal ions, and automatically remove chlorides and metallic oxide coating adhering to a cathode to be efficiently operated.例文帳に追加

本発明は金属イオンの濃淡や、多量や少量の調整を容易に行なうことができるとともに、陰極に付着する塩化物や金属の酸化被覆を自動的に除去して、効率よく作動させることができる金属イオンの溶出装置を得るにある。 - 特許庁

The method of manufacturing metal catalyst-supporting carbon powder to be used for a catalyst layer of a solid polymer fuel cell comprises performing heat treatment under a high-concentration carbon dioxide atmosphere after supporting a metal catalyst on carbon powder.例文帳に追加

固体高分子型燃料電池の触媒層に用いる、金属触媒が担持されたカーボン粉末の製造方法であって、カーボン粉末に金属触媒を担持させた後、高濃度の二酸化炭素雰囲気下で熱処理を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The antistatic agent contains, as a substantial component, a phosphonium sulfonate salt consisting of a specific organic sulfonate anion and a specific organic phosphonium cation, and contains an alkali metal ion and/or an alkaline earth metal ion in a total concentration of 0.1-300 ppm.例文帳に追加

合成高分子材料用帯電防止剤として、特定の有機スルホネートアニオンと有機ホスホニウムカチオンとからなるスルホネートホスホニウム塩を実質的成分とし、且つアルカリ金属イオン及び／又はアルカリ土類金属イオンを合計で０．１〜３００ｐｐｍの濃度で含有して成るものを用いた。 - 特許庁

An aqueous emulsion containing hinokitiol and/or its metal complex, and a surfactant, that is, an aqueous emulsion containing hinokitiol at a high concentration in which the concentrations of hinokitiol and/or its metal complex in the emulsion exceed their solubilities in water.例文帳に追加

ヒノキチオール及び／又はその金属錯体と、界面活性剤を含有する水系エマルジョンであって、該エマルジョン中のヒノキチオール及び／又はその金属錯体の濃度が、それらの水への溶解度を越えることを特徴とする高濃度ヒノキチオール含有水系エマルジョン。 - 特許庁

In the method for pulverizing the scrap containing conductive metal oxide into a hydroxide by electrolysis, the metal hydroxide concentration in the electrolytic reaction system is controlled to 0.1 to 20 g/L in the electrolytic treatment.例文帳に追加

導電性のある金属酸化物を含有するスクラップを電解により水酸化物にし、粉砕する方法において、電解処理に際し、電解反応系内の金属水酸化物濃度を、０．１〜２０ｇ／Ｌに制御することを特徴とする導電性のある金属酸化物を含有するスクラップの電解粉砕方法。 - 特許庁

Also, the aqueous solution containing the indium and the metal impurities is decreased in the metal impurities by bringing the raw aqueous solution having the hydrogen ion concentration ranging from ≥1 to ≤12mol/L into contact with the anion exchange resin having the tertiary amino group as the exchange group.例文帳に追加

インジウムと金属不純物とを含有し、水素イオン濃度が１モル／Ｌ以上１２モル／Ｌ以下の範囲である原水溶液を、第三級アミノ基を交換基として持つ陰イオン交換樹脂と接触させるインジウム含有水溶液の金属不純物低減方法。 - 特許庁