「pattern area」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

A pattern ID which identifies a pattern showing a predetermined range included in all ranges for data associated in a tree structure, is associated with an identifier which identifies a predetermined area in the tree structure.例文帳に追加

データの値が取りうる全範囲を複数に区分した木構造を表すように関連付け、前記データの値の取りうる全範囲に含まれる所定の範囲を示すパターンを識別するパターンＩＤを、前記木構造における所定の領域を識別する識別子に関連付ける。 - 特許庁

To provide a process for producing a multilayer ceramic body in which a level difference due to a conductor pattern formed on a ceramic green sheet can be eliminated and variance in the area of the conductor pattern can be suppressed by suppressing a blur even when a low viscosity conductor paste is used.例文帳に追加

セラミックグリーンシート上に形成された導体パターンによる段差を解消できるとともに、低粘度の導体ペーストを用いてもにじみを抑制して導体パターンの面積のばらつきを抑えることのできるセラミック積層体の製法を提供する。 - 特許庁

Each color image pattern of a rectangular shape on the moving medium 53, which is formed on the second area sensor 66, is photoelectrically converted as an optical image, edge positions of both major sides of the image pattern are detected while setting a threshold and the center of the edge positions is set as a forming position.例文帳に追加

第２エリアセンサ６６に結像された移動媒体５３上の矩形状の各色画像パターンが光学像として光電変換され、画像パターンの長辺両側のエッジ位置を、しきい値を設定して検出し、その中央を形成位置とする。 - 特許庁

A special pattern display device 6 has a total of nine display areas including eight special pattern display areas 6a to 6h to display special patterns, and another operation display area 6i to display notification patterns to notify a coming finalization condition.例文帳に追加

特別図柄表示装置６は、特別図柄を表示する８つの特別図柄表示領域６ａ〜６ｈと、リーチ状態となることを予告する予告図柄を表示する別動作表示領域６ｉとの、合わせて９つの可変表示領域を有している。 - 特許庁

To provide a masking magnet jig in which small magnet pieces embedded in a pattern before a cleaning process need not be removed in a cleaning process after the vapor deposition, the pattern forming area is not limited, and a plurality of plate masks are excellent in adhesion.例文帳に追加

マスキング磁石治具において、蒸着後の洗浄工程においても洗浄工程の前にパターン中に埋め込まれた磁石小片を取り除く必要もなく、しかもパターン作成面積が制約されることもなく、複数板マスクが密着性を良好にする。 - 特許庁

Furthermore, the plural transparent portions are two-dimensionally arranged in the shield grid, and in a unit pattern 153 (153a, 153b or 153c) composed of a part of the shield portion and one of the plural transparent portions, a proportion in area of the transparent portion to the unit pattern is larger than 0.25.例文帳に追加

また、遮蔽格子には、複数の透過部が２次元的に配列しており、遮蔽部の一部と複数の透過部のうち１つの透過部とからなる単位パターン１５３（１５３ａ，１５３ｂ，１５３ｃ）において、単位パターンの面積に対して透過部の面積が占める面積比は、０．２５より大きい。 - 特許庁

The apparatus comprises: a front member 1 including the outer shape of a first pattern and including a light transmission section 2 which has the shape of a second pattern; a light control film 4 which is arranged in an area corresponding to the light transmission section 2; and a main light source 6 arranged at the back of the light control film 4.例文帳に追加

第１パターンの外形を持ち且つ第２パターンの形状の光透過部２を持つ前面部材１と、光透過部２に対応する領域に配置された光制御フィルム４と、光制御フィルム４の背後に配置された主光源６とを備えている。 - 特許庁

To provide a magnetic transfer device which can perform a satisfied magnetic transfer suppressing the disturbance of a magnetization pattern over a whole area from an innermost peripheral track to an outermost peripheral track in the case of transferring a magnetic pattern of a master disk to an initially magnetized slave disk.例文帳に追加

初期磁化されたスレーブディスクにマスターディスクの磁気パターンを転写するにあたり、最内周トラックから最外周トラックに亘る全領域において、磁化パターンの乱れを抑えた良好な磁気転写を行うことができる磁気転写装置を提供すること。 - 特許庁

At this time, a main control part 8 as an adjustment part turns on a spare area DA1 of the variable pattern generation section VPG corresponding to the shape or the like of the pattern transferred finally on the plate PL and optimizes an exposure amount by adjusting the exposure amount of each part.例文帳に追加

この際、調整部である主制御部８は、プレートＰＬに最終的に転写すべきパターンの形状等に応じて可変パターン生成部ＶＰＧの予備領域ＤＡ１を点灯し、各部の露光量を調整して露光量の最適化を図る。 - 特許庁

To provide an aligning method and an aligner that the dimension of a pattern formed on a substrate is uniformized in each projecting area at the time of transferring the image of the pattern formed on a mask through plural projection optical systems to the substrate.例文帳に追加

複数の投影光学系を介してマスクに形成されたパターンの像を基板上に転写するに際し、基板上に形成されるパターンの寸法が各投影領域において均一化できる露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To enable a vein pattern of a requested area of a finger to be imaged without fail and to realize downsizing and slimming down of a device without having a guide for regulating a position of the finger in the personal authentication device using the vein pattern of the finger.例文帳に追加

指等の静脈パターンを利用する個人認証装置において、指等の位置を規制するためのガイド等を備えることなく、指等の所望領域の静脈パターンを確実に撮像できるようにし、かつ、装置の小型化・薄型化を実現する。 - 特許庁

In one embodiment, a brightness level is set based on at least one information out of a size of a pattern arranged on the area, a device condition of an image acquiring device, layer information of a sample and line segment information of the pattern, in addition to the information of a material.例文帳に追加

また、その一例として、材料の情報に加えて、上記領域上に配置されたパターンの大きさ，画像取得装置の装置条件，試料の層情報，パターンの線分情報の少なくとも１つの情報に基づいて、輝度レベルを設定する。 - 特許庁

To quickly display a large embroidery pattern in a minute state close to an embroidery state without enlarging a memory capacity of a control device when the large embroidery pattern with an embroidery area larger than an embroidery range of an embroidery frame is embroidered.例文帳に追加

制御装置のメモリ容量を大型化させることなく、刺繍枠の刺繍領域よりも大きい刺繍エリアを有する大型刺繍模様の縫製に際して、大型刺繍模様を刺繍状態に近い緻密な状態で、迅速に表示できるようにすること。 - 特許庁

A DNA microarray reading device 5 reads a hybridization pattern from a DNA microarrays 11 including a first DNA probe group (area B) which can be utilized for identifying the subject and obtains identification information (DNA information) of the subject by analyzing a pattern corresponding to the first DNA probe group from the hybridization pattern which has been read.例文帳に追加

ＤＮＡマイクロアレイ読み取り装置５は、被検査者を識別するのに利用可能な第１のＤＮＡプローブ群（領域Ｂ）を含むＤＮＡマイクロアレイ１１よりハイブリダイゼーションパターンを読み取り、読み取られたハイブリダイゼーションパターンより第１のＤＮＡプローブ群に対応するパターンを解析して被検査者の識別情報（ＤＮＡ情報）を取得する。 - 特許庁

The mask assembly includes an open mask having a plurality of first openings formed, and a pattern mask coupled to the open mask, the pattern mask having a plurality of second openings disposed within an area bounded by the first openings, wherein the open mask is formed of a material having a thermal expansion coefficient that is lower than a thermal expansion coefficient of the pattern mask.例文帳に追加

マスク組立体は、複数の第１開口部が形成されるオープンマスクと、前記オープンマスクに接合され、前記第１開口部内側に位置する複数の第２開口部が形成されるパターンマスクとを含み、前記オープンマスクは前記パターンマスクに比べて相対的に小さい熱膨脹係数を有する物質で形成されることを特徴とする。 - 特許庁

The system comprises a presence detector for detecting presence of a person in an area, a timer for measuring duration of the presence, a pattern selector for selecting the particular lighting pattern from the predetermined set of lighting patterns on the basis of the presence and the duration, and a lighting means for applying the particular lighting pattern.例文帳に追加

本システムは、領域中の人の存在を検出するための存在検出器と、前記存在の期間を測定するためのタイマーと、前記存在及び前記期間に基づいて照明パターンの前記所定の組の中から前記特定の照明パターンを選択するためのパターンセレクタと、前記特定の照明パターンを適用するための照明手段とを有する。 - 特許庁

A weighted value corresponding to pixels in each part area is changed by differentiating a loss function for calculating a loss value of a difference degree or similarity from/to a standard pattern obtained by recognizing a learning pattern by a variable representing the weighted value and evaluating the differentiated value and a result obtained by recognizing the learning pattern.例文帳に追加

部分領域ごとの画素に対応した重み値は、学習パターンの認識を行って得られた標準パターンとの相違度または類似度の損失値を求めるための損失関数を、重み値を表す変数によって微分し、この微分した値と学習パターンの認識を行って得られた結果を評価することによって変更されたものである。 - 特許庁

A first ink flow channel pattern including a first dissolvable resin and a light absorbing agent is formed so as to cover an area of a base plate where the discharge outlet is formed viewing from above the base plate and a second ink flow channel pattern including a second dissolvable resin and not including a light absorbing agent is formed so as to cover the first ink flow channel pattern.例文帳に追加

基板の、その上方からみて吐出口が形成される領域を被覆するように、第一の溶解可能な樹脂と光吸収剤とを含む第一のインク流路パターンを形成し、その第一のインク流路パターンを被覆するように、第二の溶解可能な樹脂を含み光吸収剤を含まない第二のインク流路パターンを形成する。 - 特許庁

The game machine is provided with a display control means for changing the expression of patterns displayed in a display area 50 of a decided result display means composed of any display device except an LED device from any one of a pseudo-dot matrix LED pattern expression and an ordinary pattern expression different from such a pseudo-dot matrix LED pattern expression to the other.例文帳に追加

ＬＥＤ表示装置以外の表示装置からなる判定結果表示手段の表示領域５０で表示される図柄の表現を、擬似ドットマトリクス式ＬＥＤ図柄表現と、該擬似ドットマトリクス式ＬＥＤ図柄表現とは異なる通常図柄表現との何れか一方から他方へ変化させる表示制御手段を備えている。 - 特許庁

The laser beam is branched into a main laser beam 13M and a sub-laser beam 13S, pattern irradiation corresponding to the recording pattern is performed by the main laser beam 13M, and the position of the main laser bema 13M is adjusted by the sub-laser beam 13S obtaining the positional information from the area where a pattern irradiation processing by the main laser beam 13M is performed.例文帳に追加

レーザ光を主レーザ光１３Ｍと副レーザ光１３Ｓとに分岐し、主レーザ光１３Ｍによって記録パターンに対応するパターン照射を行い、副レーザ光１３Ｓによって、主レーザ光１３Ｍによるパターン照射処理がなされた領域から、その位置情報を得て、主レーザ光１３Ｍの位置調整を行う。 - 特許庁

The matching processing part is provided with a similarity determination means (the CPU 1, for example) comparing teacher data d related to a reference pattern P for the face image with the predetermined area of the image data for determining similarity between them and a pattern dimension changing means (the CPU 1, for example) changing a dimension of the reference pattern P based on the similarity determination result.例文帳に追加

マッチング処理部は、顔画像に対する基準パターンＰに係る教師データｄと画像データの所定範囲とをパターンマッチング処理により比較して、それらの類似度を判定する類似度判定手段（例えば、ＣＰＵ１）と、類似度の判定結果に基づいて、基準パターンＰの寸法を変更するパターン寸法変更手段（例えば、ＣＰＵ１）とを備える。 - 特許庁

In the area of a semiconductor device manufacturing mask 200 except for a real pattern 202, a square dummy pattern 204, for example, having one side of 0.25 μm or less is inserted and the pattern density is made uniform, and an etching processing can be performed without changing conditions for every semiconductor device manufacturing mask and the global step of a post-CMP interlayer insulation film is not increased.例文帳に追加

半導体製造用マスク２００内の実パターン２０２以外の領域に，例えば一辺が０．２５μｍ以下の正方形のダミーパターン２０４を挿入し，パターン密度を均一化して，半導体製造用マスク毎に条件を変えることなくエッチング処理を行えるとともに，ＣＭＰ後の層間絶縁膜のグローバル段差を増大させないようにする。 - 特許庁

In a semiconductor device 1 which is configured to seal a semiconductor chip 8 mounted on the main plane of a package board 2 with sealing material 11, a conductor pattern 4 for wiring is arranged on the main plane and rear planes of the package board 2; and a dummy conductor pattern 4 is arranged on the area on which the wiring conductor pattern 4 is not arranged.例文帳に追加

パッケージ基板２の主面上に実装された半導体チップ８を封止部材１１によって封止した構成を持つ半導体装置１において、パッケージ基板２の主面および裏面に、配線用の導体パターン４を配置した他に、その配線用の導体パターン４が配置されていない領域にダミー用の導体パターン４とを配置した。 - 特許庁

To make a tracking pattern inconspicuous as much as possible even in an outputted matter image-formed only by black color of single color or mixed color, and to eliminate the need of discriminating a superposed area of the image and tracking pattern that is difficult in the conventional tracking pattern in an image forming apparatus using an electrophotographic system.例文帳に追加

電子写真方式を用いた画像形成装置において、単色もしくは混色の黒のみで画像形成された出力物においても極力追跡パターンを目立たせることなくかつ従来の追跡パターンで困難であった画像と追跡パターンの重なり領域の判別を考慮する必要がない画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

Since a heating pattern 12 in a heater pattern 10 is formed to avoid an area overlapped with a detection space 230 on a layered face, an electrode faced to at least the detection space 230, i.e. one electrode 22 in a sensor cell 20 is formed into structure not overlapped with the heating pattern 12 on the layered face.例文帳に追加

ヒータパターン１０における発熱パターン１２が、積層面において検出空間２３０と重なる領域を避けるように形成されているため、少なくとも検出空間２３０に面する電極，つまりセンサセル２０における一方の電極２２が積層面において発熱パターン１２と重ならない構造になっていることになる。 - 特許庁

When time information of a time clocking means clocking time satisfies a predetermined condition, a peripheral control part makes, from a state that the background pattern recorded in one light guide plate 702 appears by the light, the background pattern recorded in the light guide plate 704 different therefrom appear to completely reform the background pattern of the game area.例文帳に追加

周辺制御部は、時刻を計時する時刻計時手段の時刻情報が予め定めた条件になると、１つの導光板７０２に記録された背景絵柄が光によって表出している状態から、これとは別の導光板７０４に記録された背景図柄を表出させて、遊技領域の背景絵柄を刷新する。 - 特許庁

In a method for producing a semiconductor integrated circuit device, when a plurality of semiconductor integrated circuit devices, in which a circuit pattern having a linear pattern is provided and at least a part of production process is common, is produced, dry etching is performed to a film for processing with controlling dry etching conditions depending on circumferential length per unit area of the linear pattern in each of the semiconductor integrated circuit devices.例文帳に追加

ライン状パターンを有する回路パターンを備えており、製造工程の少なくとも一部が共通する複数の半導体集積回路装置を製造する際に、各半導体集積回路装置におけるライン状パターンの単位面積当たりの周縁長に応じてドライエッチング条件を調整しながら被加工膜に対してドライエッチングを行なう。 - 特許庁

A foot pattern 200 is so formed that the area S2 of a part 202 outer than an expected position A-A' of its end surface if an electronic component is fixed at a proper position be larger than the area S1 of a part 201 inner than the expected position (S1<S2).例文帳に追加

フットパターン２００は、電子部品が適正な位置に固定された場合のその端面の予想位置Ａ−Ａ’よりも内側部分２０１の面積Ｓ１に比して前記予想位置よりも外側部分２０２の面積Ｓ２が大きくなるように形成されている（Ｓ１＜Ｓ２）。 - 特許庁

This radio broadcasting receiver is provided with a microcomputer for tuner control having a storage device in which the receiving frequency range and the broadcasting station frequency interval of each destination area pattern stored, and a changeover switch that is connected to the microcomputer for tuner control and also switches destination area patterns.例文帳に追加

仕向け地域パターン毎の受信周波数範囲および放送局周波数間隔を記憶した記憶装置を有するチューナ制御用マイコン、ならびにチューナ制御用マイコンに接続されかつ仕向け地域パターンを切り替える切り替えスイッチを備えている。 - 特許庁

A layer selection unit 112 of the transmitter side selects a dividing pattern resulting from furthermore dividing the designation area as shape data to be transmitted next, and repeats the processing above to allow the receiver side to designate the area dividing positions desired by the receiver side to the transmitter side.例文帳に追加

送信側では、領域指定情報によりレイヤ選択装置１１２が、指定領域を更に分割した分割パターンを次に送信する形状データに選択し、上記を繰り返すことで、受信側が要望する領域分割位置を送信側に指定する。 - 特許庁

The magnetic recording medium includes a servo area including a pattern of a magnetic material or a nonmagnetic material utilized as a servo signal, wherein a burst mark of a burst part for detecting the deflection of the servo area is formed of the isolated nonmagnetic material surrounded by the magnetic material.例文帳に追加

サーボ信号として利用される磁性体または非磁性体のパターンを含むサーボ領域を有し、前記サーボ領域の偏差検出用バースト部のバーストマークが、磁性体によって囲まれた孤立した非磁性体で形成されている磁気記録媒体。 - 特許庁

A common printing image area, common to every printed matter, of a digital image manuscript and a specified image area, desired to be variably printed, of every printed matter, are automatically assigned to the pattern printing part 4 and the inkjet printing part 5 respectively using a non-illustrated control means.例文帳に追加

図示しない制御手段により、ディジタル画像原稿中の各印刷物に共通の共通印刷画像エリアが版型印刷部４に、各印刷物で可変印刷したい所定画像エリアがインクジェット印刷部５に各々自動的に割り当てられる。 - 特許庁

Further, a speed change control characteristic is changed so that an area where the lockup clutch is turned OFF in the lockup clutch control characteristic indicated by the selected pattern is not included in an area for indicating an upshift or a downshift in the speed change control characteristic (speed change shift map).例文帳に追加

また、選択されたパターンが示すロックアップクラッチ作動制御特性においてロックアップクラッチをＯＦＦとする領域が、変速制御特性（変速シフトマップ）におけるアップシフト又はダウンシフトを指示する領域に含まれないように、該変速制御特性を変更する。 - 特許庁

A pattern formed on the substrate 1 and indicating a specific area on the substrate 1 is recognized, the plurality of films only in the specific area is irradiated with X-rays having a micro spot diameter and the characteristics of each film are measured by X-ray reflectivity measurement.例文帳に追加

この基板１上に形成され上記基板１上の特定エリアを示すパターンを認識し、この特定エリアのみの上記複数の膜に、Ｘ線をマイクロ化されたスポット径で照射して、Ｘ線反射率測定によって、上記各膜の特性を測定する。 - 特許庁

An unoccupied area capable of arranging the first test pad in a test pad arranging layer immediately the an upper side of the selected processing pattern is searched out of the processing patterns by an unoccupied area searching means 12 based on wiring rule information 31 and target layer information 34.例文帳に追加

そして、配線ルール情報３１とターゲット層情報３４に基づいて、空き領域探索手段１２により、選択された処理パターンの直上のテストパッド配線層に第１テストパッドを配置できる空き領域が処理パターン中から探索される。 - 特許庁

When the drive of a movable piece 142 is controlled in a winning route from the side of a first special pattern start port 93, a game ball which enters the internal area of a mechanical drawing device is received in a general area (flow-down route 344) by an extremely high probability.例文帳に追加

第１の特別図柄始動口９３側からの当たりルートにて可動片１４２の駆動制御が行われるときは、機械抽選装置の内部領域に入球した遊技球は極めて高い確率で一般領域（流下経路３４４）に受け入れられる。 - 特許庁

The image of the moving object is picked up (S1) by an image pickup device 100, a luminescent point for constituting a pattern is detected from the picked-up image, the image of a specified area is segment with the detected luminescent point as a reference point and a feature amount inside the specified area is extracted (S3).例文帳に追加

映像撮像装置１００で移動物体を撮像し（Ｓ１）、撮像された画像からパターンを構成する輝点を検出し、検出された輝点を基準点として特定領域の画像の切り出し、特定領域内の特徴量を抽出する（Ｓ３）。 - 特許庁

A positional deviation detecting pattern is formed based on image data to which coordinate correction is performed in areas other than a level difference suppressing area 51 without performing the coordinate correction of pixel unit of the image data in a subscanning direction in the level difference suppressing area 51 in a main scanning direction.例文帳に追加

主走査方向における段差抑制領域５１では副走査方向についての画像データの１画素単位の座標補正を行わず、段差抑制領域５１以外で座標補正が施された画像データに基づき、位置ずれ検出用パターンを形成する。 - 特許庁

The two-dimensional code pattern includes a code frame for demarcating a certain area by dots arranged at prescribed intervals and a data arrangement area which is placed in the code frame and represents position information and document discrimination information by dots arranged at prescribed intervals.例文帳に追加

２次元コードパターンは、所定の間隔で配置されるドットにより一定の領域を区画するコード枠と、コード枠の内部に位置して所定の間隔で配置されるドットにより位置情報および文書識別情報を表現するデータ配置領域とを含む。 - 特許庁

By assigning icons arranged in the icon arrangement area 540 to the position specification areas based on the operation information, the source setting unit 222 sets image sources or pattern image sources corresponding to the icons as sources of display images on the display area.例文帳に追加

ソース設定部２２２は、アイコン配置領域５４０に配置されるアイコンを操作情報に基づいて位置指定領域に対して指定することにより、表示領域の表示画像のソースとして該アイコンに対応する画像ソース又はパターン画像ソースを設定する。 - 特許庁

A series inductance component is added locally, by partially forming a meander type pattern 4 in a maximum resonance current area Z of the higher mode (secondary mode) of a feeding radiation electrode 3, and consequently the electrical length per unit length is made longer than any other area.例文帳に追加

給電放射電極３における高次モード（２次モード）の最大共振電流領域Ｚにミアンダ状のパターン４を部分的に形成して局所的に直列インダクタンス成分を付加し、これにより、単位長さ当たりの電気長を他の領域よりも長くする。 - 特許庁

A control section 10 acquires a change pattern of the signal strength measured by the signal strength measurement section 5 in the communication between the human body communication section 4 and the human body communication medium 15 until the determination object exits from the detection area 12A after the determination object approaches to the detection area 12A.例文帳に追加

制御部１０は、判定対象者が、検出領域１２Ａに進入してから退出するまでの間に、人体通信部４と人体通信媒体１５との通信において、信号強度測定部５が測定した信号強度の変化パターンを取得する。 - 特許庁

When the drawing of the lesion is sketched, a doctor twice pen-touches drawing area 27a, 27b already entered on lesion drawing sheet 27 or without lesion drawing area 27c to carry out the sketch with a liquid crystal pen making a rough sketch of the pattern for sketch.例文帳に追加

医師は、患部図をスケッチする場合には、患部図シート２７の記入済み患部図表示エリア２７ａ、２７ｂ、又は患部図表示無しエリア２７ｃを２回ペンタッチし、記入済みの患部図或は上記スケッチ用雛型を下絵にして液晶ペンでスケッチを行なう。 - 特許庁

Before feeding the medium 3, an optical sensor 8 is arranged above the correction area L2, and printing density of the correction pattern printed in the correction area L2 is detected by the optical sensor 8 while feeding the medium 3 in a feed direction B by path width.例文帳に追加

そして、メディア３をフィードする前に、光学センサ８を補正用領域Ｌ２の上方に配置させて、メディア３をパス幅だけフィード方向Ｂにフィードさせながら、光学センサ８により補正用領域Ｌ２に印刷された補正用パターンの印刷濃度を検出する。 - 特許庁

An original image used as the source of an embroidery pattern is divided into a first area where the color gradually changes and a second area where the color changes relatively dramatically, based on the frequency components that compose the image or on the angle characteristic strength of each pixel.例文帳に追加

刺繍模様の元となる元画像が、画像を構成する周波数成分または画像中の各画素の角度特徴の強度に基づいて、色の変化が比較的緩やかな第１領域と、色の変化が比較的激しい第２領域に分割される。 - 特許庁