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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > pattern uponに関連した英語例文

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pattern uponの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 506



例文

To provide a game machine in which games are prevented from being monotonous by appearing only specific ready-to-win state pattern upon performance of a ready-to-win game state.例文帳に追加

リーチ遊技状態の演出に際し特定のリーチパターンばかりが出現して遊技が単調になるのを防止する。 - 特許庁

To provide a method for providing a full mold casting process pattern, by which a burden imposed upon a casting manufacturer in the full mold method can be lessened.例文帳に追加

フルモールド法における鋳物メーカーの負担をより軽減できる、フルモールド鋳造法用模型の提供方法を提供する。 - 特許庁

A whole control part 52 requests a pattern retrieval part 53 to perform retrieval based upon description patterns by the nodes of the tree.例文帳に追加

全体コントロール部52は、このツリーの各ノード毎に、指定された記述パターンに従った検索をパターン検索部53に依頼する。 - 特許庁

Then a resist pattern having a desired size is obtained without relying upon the electric charge by exposing the substrate 20 with the optimum luminous exposure at every chip 20a.例文帳に追加

そして、チップ20a毎に最適露光量で露光することにより、帯電量によらず所望のサイズのレジストパターンを得る。 - 特許庁

例文

The center server 10 gathers the information based upon a pattern A to gather the information by executing a program to classify 14.例文帳に追加

センタサーバ10は、振分けプログラム14を実行し、該当する情報収集パターンAで情報の収集が行われる。 - 特許庁


例文

Echoes are received from the region-of-interest, and based upon the received echoes, an ultrasonic pattern of the region-of-interest is compiled.例文帳に追加

エコーがその関心領域から受信され、受信エコーに基づいて、関心領域の超音波パターンを集計してまとめる。 - 特許庁

Upon a handwritten character input by a user from the input key group, the input key pattern is collated with the registered key patterns.例文帳に追加

ユーザによる入力キー群に対する手書き文字入力を受け付け、その入力キーパターンと登録キーパターンとを照合する。 - 特許庁

To provide a method for decomposing a target pattern to be printed on a wafer into multiple patterns upon using double patterning techniques.例文帳に追加

ダブルパターニングを使用する際に、ウェーハに印刷されるターゲットパターンを複数のパターンに分解するための方法を提供する。 - 特許庁

Upon putting on the muti-color LEDs 17, their lights are diffused by the light diffusion pattern when passing through the vibration plate 18.例文帳に追加

多色LED17を点灯すると、その光は振動板18を透過する際に光拡散パターンによって拡散させられる。 - 特許庁

例文

To provide a manufacturing method of a semiconductor device provided with an etching process capable of applying a pattern work, uniform in the surface and excellent in accuracy without depending upon the roughness and fineness of a processing pattern.例文帳に追加

加工パターンの疎密に依存することなく面内均一に精度良好なパターン加工行うことが可能なエッチング工程を備えた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a gray tone mask blank and a gray tone mask, particularly a gray tone mask using a light-semitransmitting film, with which a desired pattern can be obtained on a transfer object upon forming a precise pattern.例文帳に追加

半透光膜を用いたグレートーンマスクにおいて、精緻なパターンを形成するときに、被転写体上に所望のパターンが得られるグレートーンマスクブランク及びグレートーンマスクを提供する。 - 特許庁

Based upon a telop, a cut being a starting point of an event is specified, and a pattern of camera works of a plurality of successive cuts including the cut is compared with a stored pattern of a prescribed camera work.例文帳に追加

テロップに基づいて、イベントの開始点となるカットを特定し、当該カットを含む複数の連続したカットのカメラワークのパターンを、記憶している所定のカメラワークのパターンと比較する。 - 特許庁

To highly accurately measure a pattern dimension of a photomask upon measuring a dimension with the use of a microscope even when the objective pattern for measurement or adjacent patterns cause insufficient resolution.例文帳に追加

顕微鏡を用いた寸法測定において、測定対象パターンや隣接するパターンにて解像度不足が生じる場合にあっても、フォトマスクのパターン寸法を精度良く測定する。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring board which can reduce warpage upon reflow soldering even if a space for forming a dummy pattern is not sufficient, or even if the dummy pattern cannot be formed.例文帳に追加

ダミーパターンを設けるスペースが十分にない場合、もしくはダミーパターンを設けることができない場合でも、リフローはんだ付け時の反りを低減できる多層配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a mask blank that prevents disappearance of a resist pattern and also prevent a pattern defect upon producing a transfer mask by a semiconductor design rule (for a DRAM with hp half pitch of 65 nm or less), and also to provide a mask.例文帳に追加

半導体デザインルール(DRAM hp65nm以下)の転写用マスクを作製する際、レジストパターンの消失を防止し、パターン欠陥を防止できるマスクブランク、及びマスクを提供する。 - 特許庁

By paying attention to influential factors, such as the focus, exposure, the shape of a mask pattern, the instrumental error (aberration etc.) between aligners, etc., upon the dimension of a transferred pattern, the pattern dependency of the response of exposing conditions, such as the best focus shift etc., is evaluated.例文帳に追加

フォーカス、露光量、マスクパターン形状および露光装置機差(収差他)等のような転写されるパターンの寸法への影響要因を考慮して、ベストフォーカスシフト等、露光条件の応答のパターン依存性を評価する。 - 特許庁

The big hit pattern 52 given in a pattern display device 30 together with the round number 51 changes in association with the progress of the round consumption, and different special prizes are given to respective players depending upon the final big hit pattern 52 after the end of the final round.例文帳に追加

このラウンド消化の進行の伴って図柄表示装置30には、ラウンド数51とともに大当り図柄52が変化し、最終ラウンド終了後の最終大当り図柄52に応じて、遊技者に異なる特典が与えられる。 - 特許庁

To provide a pattern measurement method to obtain a pattern having less errors by inserting a pattern which corrects a proximity effect of a photomask into a region except for monitor or circuit patterns conventionally designated by users upon ensuring dimensions of a photomask, and by inspecting the pattern and controlling drawing conditions after drawing.例文帳に追加

フォトマスクの寸法保証を行なう際に、従来のユーザーが指定するモニター、回路パターン以外に、フォトマスクの近接効果を補正するパターンを挿入して、描画後にパターンを検査して描画条件を管理して誤差の少ないパターンにするパターン測定方法を提供する。 - 特許庁

A traffic pattern score calculating means 27 calculates the score of the traffic pattern based upon the rate of communication devices having sent the traffic pattern among communication devices that the temporary abnormal communication device judgement section 26 extracts and the rate of communication devices having sent the traffic pattern among unextracted communication devices.例文帳に追加

トラヒックパターンスコア算出手段27が、トラヒックパターンのスコアを、一時的異常通信装置判定部26が抽出した通信装置のうち該トラヒックパターンを送信した通信装置の割合と、抽出しない通信装置のうち該トラヒックパターンを送信した通信装置の割合に基づき算出する。 - 特許庁

A relation among area density of a pattern, an irradiation amount of an electron beam, and edge roughness of the pattern is found, and based upon area density of the pattern and an irradiation amount of the electron beam in a predetermined area, it is determined whether the edge roughness of the pattern is equal to or smaller than an allowable value using the relation.例文帳に追加

パターンの面積密度と、電子ビームの照射量と、パターンのエッジラフネスとの関係を求め、所定の領域におけるパターンの面積密度と電子ビームの照射量とから、上記関係を用いて、このパターンのエッジラフネスが許容値以下であるか否かを判定する。 - 特許庁

Regarding multi-path recording, a cluster mask is used for a mask pattern for generating data to be recorded upon first scanning, and a dispersion mask is used for a mask pattern for generating data to be recorded upon the second or subsequent scanning, accordingly, the color irregularity and the granularity are reduced.例文帳に追加

マルチパス記録において、最初の第1走査で記録されるデータを生成するためのマスクパターンに集中マスクを用い、第2走査以降に記録されるデータを生成するためのマスクパターンに分散マスクを用いることにより、色むらと粒状性を低減する。 - 特許庁

To provide a decorative film for molding which prevents a rugged pattern on a decorative film surface from cracking upon vacuum molding or injection molding for performing the insert molding, or upon injection molding for performing the thermoject molding.例文帳に追加

インサート成形の真空成形時又は射出成形時に、或いはサーモジェクト成形の射出成形時に、加飾フィルム表面の凹凸模様に割れが発生しない成形用加飾フィルムを提供する。 - 特許庁

Linear patterns which are manufactured are both modulated in steps, but while the linear patterns based upon the rational number angle are in a periodic shape, the linear pattern based upon the irrational number angle has no periodicity.例文帳に追加

ともに作製された直線パターンの幅が階段状に変調されているが、有理数角の場合では直線パターンが周期的な形状となる一方、無理数角の場合では周期性が生じない。 - 特許庁

To provide a photomask capable of producing a high quality display device without depending upon the positioning accuracy and the dimensional accuracy of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの位置精度および寸法精度に依存せず、高品位な表示装置を製造することができるフォトマスクを提供する。 - 特許庁

Further upon arrival of each time period, the security level-specific information table is updated to a predetermined security level pattern depending on the time zone.例文帳に追加

各時間帯の到来に応じて、セキュリティレベル別情報テーブルを予め設定された時間帯に応じてセキュリティレベルパターンに更新する。 - 特許庁

To provide a decorative metal plate of beauty by superposing a color image 17 upon an embossed pattern of the surface of a metal plate 11.例文帳に追加

金属板11の表面の凹凸模様のイメージとカラーイメージ17とを重ね合わせ、より審美性の高い金属装飾板を得る。 - 特許庁

In regard to a corresponding decoding step the method comprises extracting from the recorded document, a retrieved pattern element for said pixel, determining a pattern element depending upon a major component extracted from the retrieved pattern element and the position of the pixel on the recorded document, and comparing the retrieved pattern element and the said determined pattern element.例文帳に追加

対応する復号工程に関して、方法は、画素に対する検索パターン要素を、記録文書から抽出する工程と、検索パターン要素から抽出された主成分、及び記録文書上の画素の位置に依存するパターン要素を判定する工程と、検索パターン要素及び判定パターン要素を比較する工程とから成る。 - 特許庁

To obtain a pattern capable of dealing with any kind of material without depending upon stretchability of material itself and manufacturing clothing not obstructing movement and to provide a method for producing the pattern.例文帳に追加

素材自体の伸縮性に依拠することなく、あらゆる種類の素材に対応可能であり、運動を阻害することがない衣類を製作することができるパターン及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method for plating in which no resist is used and no influence is produced upon a pattern mask and which is capable of repeated use and requires relatively low equipment cost and can cope with the recent demand for finer pattern.例文帳に追加

レジストを用いることなしに、また、パターンマスクへの影響がなく、繰り返し使用が可能で設備コストが比較的小さく、微細なパターンに対応できるめっきのパターニング方法を提供する。 - 特許庁

A first unit attenuation region in the first attenuation pattern and a second unit attenuation region in the second attenuation pattern have an attenuation rate characteristic of varying an attenuation rate depending upon an angle of incidence of the light.例文帳に追加

第1減光パターン中の第1単位減光領域と第2減光パターン中の第2単位減光領域とは、光の入射角度に応じて減光率が変化する減光率特性を有する。 - 特許庁

A transparent uncured prepreg resin sheet and a pattern-provided sheet having, from the surface side, a pattern layer and a semi-cured thermosetting resin layer are put one upon the other and used at the time of molding to form the decorating sheet.例文帳に追加

透明未硬化プリプレグ樹脂シートと、表面側より模様層、半硬化熱硬化性樹脂層を備えた模様付きシートとを、成形時に重ね合わせて使用する、加飾用シートである。 - 特許庁

In a tone reproduction process part 16, a pattern table is used when creating a dot matrix pattern with dots arranged based upon the human visual characteristics in response to a pixel value of inputted image data.例文帳に追加

階調再現処理部16は、入力された画像データの画素値に応じて、人間の視覚特性に基づいたドットの配置であるドットマトリクスパターンを作成するときに、パターンテーブルを用いる。 - 特許庁

On a window glass 1, a first resonance circuit section 5 is formed with a planar coil pattern 2 which is to be disconnected upon the breakage, and a conductive connection member 3 connected to the planar coil pattern 2.例文帳に追加

ウインドウガラス1には、破損時に断線状態となる平面コイルパターン2と、その平面コイルパターン2に接続された導電性接続部材3とによって第1共振回路部5が形成されている。 - 特許庁

This sensor has a first substrate having a first driving pattern and a first pickup pattern on its upper and lower surfaces respectively, and magnetic bodies laminated upon the upper and lower surfaces of the first substrate and patterned in prescribed forms.例文帳に追加

上下両面に第1ドライビングパターン及び第1ピックアップパターンが形成された第1基板と、該第1基板の上下両面に積層され、所定の形態にパターン化された磁性体が形成される。 - 特許庁

This setting device for setting a port of a router that relays access from the external network determines pattern information and transmits the pattern information to the communication equipment upon receiving a movement request from the communication equipment.例文帳に追加

外部ネットワークからのアクセスを中継するルータのポートを設定する設定装置において、通信装置から移動要求を受信すると、パターン情報を決定して通信装置へ送信する。 - 特許庁

To provide a photomask which is used in an exposure process and capable of effectively suppressing thinning or retreat near the end portion of a long shaped isolated pattern in a resist pattern even when defocus is caused upon exposure.例文帳に追加

露光工程で用いられ、露光に際してデフォーカスが生じた際にも、レジストパターンにおける長尺状の孤立パターンの端部付近の細りや後退を効果的に抑制できるフォトマスクを提供する。 - 特許庁

A pattern section section 10 selects a plurality of pitch patterns from a pitch pattern storage section 16 in prosody units, based upon language attribute information and phoneme duration length obtained from an input text.例文帳に追加

パターン選択部10は入力テキストから得られる言語属性情報と音韻継続時間長を基に韻律制御単位毎にピッチパターン記憶部16から複数のピッチパターンを選択する。 - 特許庁

The method inputs the normal pattern data into a storage device of a drawing device and inputs the tendency of the pattern deformation generated dependent upon the condition of the transfer exposure to a storage device of the drawing device.例文帳に追加

正規のパターンデータを描画装置の記憶装置に入力するとともに、転写露光の状況に依存して発生するパターン変形の傾向を描画装置の記憶装置に入力する。 - 特許庁

To provide a game machine and a game system renewing a performance pattern upon letting an external portable terminal to store game information in a game stepwisely renewing the performance pattern.例文帳に追加

段階的に演出パターンが更新される遊技において、その遊技情報を外部の携帯端末に記憶させることを契機として演出パターンが更新される遊技機及び遊技システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a recording method of pattern formation to a printed circuit board for electric circuit which allows electric impedance to be constant upon the use of high frequency signal, causes no stripping of pattern and, moreover, does not require exposure time so much.例文帳に追加

高周波信号使用時に電気的インピーダンスが一定になる、パターン剥がれのない、しかも露光時間をそれほど要しない、電気回路用プリント基板へのパターン形成の記録方法を提供する。 - 特許庁

In this method, the electric circuit is formed on a substrate by impressing a voltage upon a circuit pattern after the circuit pattern is formed by printing silver paste containing silver powder and a binder on the substrate.例文帳に追加

銀粉と、バインダとを含む銀ペーストを基板上に印刷して回路パターンを形成した後、該回路パターンに電圧を印加して前記基板上に電気回路を形成する電気回路の製造方法。 - 特許庁

Corresponding sounding pattern data are obtained from a storage means according to the number of operated playing operation elements and a musical sound of arpeggios is generated based upon the obtained sounding pattern data and specific pitch information.例文帳に追加

操作された演奏操作子の数に応じて対応する発音パターンデータを記憶手段から取得し、該取得した発音パターンデータと所定の音高情報とに基づいてアルペジオの楽音を生成する。 - 特許庁

Then it is determined whether the specific pattern is detected (S13), and when it is determined that the specific pattern is detected (S13: YES), an additional image to be put together is selected based upon the detection result (S14).例文帳に追加

そして、特定パターンを検出したか否かを判断し(S13)、特定パターンを検出したと判断した場合(S13:YES)、その検出結果に基づいて合成すべき付加画像を選択する(S14)。 - 特許庁

For each small-area dither matrix, an arrangement pattern of dots is generated based upon the threshold data and arrangement data over a range of values that the image data possibly take, and the arrangement pattern is recorded in a conversion table.例文帳に追加

そして、各小領域ディザマトリクスについて、画像データの取り得る値の範囲に亘って、前述した閾値データと配置データとに基づきドットの配置パターンを生成し、これを変換テーブルに記録する。 - 特許庁

The NFC unit is switched into the active mode upon detection of the first predefined motion pattern descriptive for an NFC touch gesture.例文帳に追加

NFCユニットは、NFCタッチジェスチャを記述する第1の事前に規定された動きパターンが検出されたときにアクティブモードに切り換えられる。 - 特許庁

A decoder 14 performs decoding processing upon channels with compression-coded data stored in a pattern ROM 12 as objects to be processed.例文帳に追加

復号化部14は、パターンROM12に記憶された各圧縮符号化データを処理対象とする各チャネルの復号化処理を実行する。 - 特許庁

To improve reliability of recording and reproducing upon multiple recording using a speckle pattern in a hologram recording and reproducing device.例文帳に追加

ホログラム記録再生装置に関し、スペックルパターンを用いた多重記録をする場合の記録および再生信頼性を向上させることを課題とする。 - 特許庁

To provide an optical wavelength conversion device or method capable of also controlling a stable high gradation without depending upon a modulation-signal pattern.例文帳に追加

変調信号パターンに依存せずに安定した高階調の制御も可能な光波長変換装置ないし方法を提供することである。 - 特許庁

A light-transmissive pattern printed on a commodity card 15 is projected upon an electrically illuminated translucent board 12 by means of an illuminating lamp 8.例文帳に追加

商品カード15に印刷された透光性をもつ図柄が、照明灯8により半透明な電照板12にシルエットとして投影される。 - 特許庁

例文

Contact of a grinding wheel 67 to the saw teeth, shape of the saw teeth, and completion of a grinding cycle are recognized based upon the detected pattern of the vibration.例文帳に追加

この検出された振動パターンに基づいて、砥石67の鋸歯に対する接触、鋸歯形状、研削周回の終了を認識する。 - 特許庁




  
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