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pattern uponの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 506



例文

To provide the shielding case fitting structure which does not necessitate exclusive member and mounting space for positioning upon effecting the positioning of the shielding case to a printed circuit board, and which is capable of achieving the regulation of a fitting position while securing electric conduction between a ground pattern on the printed circuit board and the fitting position.例文帳に追加

プリント基板に対するシールドケースの位置決めを行なうにあたり、位置決めのための専用の部材及び実装スペースを必要とせず、プリント基板上のグランドパターンとの電気的導通を確保しつつ取り付け位置の規制が実現可能なシールドケース取付構造を提供する。 - 特許庁

Substrates 10 for multilayered wiring are laminated upon another by passing alignment pins 101 through through holes 19 for alignment formed in conductive paste 18 packed in through holes formed through the insulating substrates 11 at positions separated from the wiring pattern sections 12 of the substrates 11.例文帳に追加

絶縁性基材11の配線パターン部12とは離間した位置にある貫通孔に充填された導電性ペースト18にアライメント用貫通孔19をあけ、このアライメント用貫通孔19にアライメントピン101を通して多層配線用基材10を積層させる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device that prevents the degradation in image quality between lines the polarities of which are inverted upon displaying an image of a specified pattern, the degradation caused by changes in the displacement of a common voltage from 0 [V] each time of inserting a blanking period in a source block inversion driving.例文帳に追加

ソースブロック反転駆動において、共通電圧の0[V]からの変位がブランキング期間の挿入時毎に変化してしまい、特定パターンの映像を表示させる際に極性反転するライン間などで、画質が劣化してしまうことを防止することが可能な液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The reflection structure pattern includes a reflection film which reflects only the light of special wavelength and which is formed thereon whereby when a set wavelength is obtained upon adjusting an oscillation wavelength while turning a grating 52, reflection light is generated and is returned to the semiconductor laser source 50 again while passing through the same light path.例文帳に追加

反射構造パターンは特定の波長の光のみを反射する反射膜が形成されているので、回折格子52を回転させながら発振波長を調整した場合、設定波長になれば、反射光が発生し、同じ光路を通過して再び半導体レーザ光源50に帰還する。 - 特許庁

例文

The pattern of transactions engaged in by the SMEs upon which Japanese manufacturing depends for its core technologies such as the production and processing of parts and materials is changing. 例文帳に追加

部品等の製造・加工など我が国のモノ作り基盤技術を担う中小企業の取引構造の変化は、これまで見てきたように、「下請構造の崩壊」という言葉からイメージされるような、単純に下請取引から脱却し、自立した中小企業へと転身を遂げるというようなものとは異なっていた。 - 経済産業省


例文

To provide an address pattern generating device that can describe a device program in a short time, by reducing the burden imposed upon the user, who prepares the device program by constituting the device to eliminate the limitation on the description, regarding the holding commands of the device program.例文帳に追加

デバイスプログラムのホールド命令に関する記述上の制限をなくす構成とすることで、デバイスプログラムを作成するユーザの負担を軽減し、短時間でデバイスプログラムを記述することができるアドレスパターン発生装置及び半導体集積回路試験装置を提供する。 - 特許庁

In the surface defect data display management device 3, a risk level calculation part 33 calculates an influence degree of a defect upon yield of the final product on the basis of a defect size of the wafer detected by an appearance inspection device 12 and a review device 10 and a pattern density obtained from design data of a pattern figure corresponding to neighbors of the position of the defect.例文帳に追加

表面欠陥データ表示管理装置3において、危険率算出部33は、外観検査装置12やレビュー装置10によって検出されたウェーハの欠陥サイズと、その欠陥の位置の近傍に対応するパターン図の設計データから得られるパターン密度とに基づき、その欠陥が最終製品の歩留まりに影響を及ぼす影響度を表面欠陥の危険率として算出する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor sensor provided with a cover plate, which does not require detailed positioning of the cover wafer upon exposing an electrode pad by processing the cover wafer after mounting the cover wafer in a wafer state, and preventing damage to a wiring pattern and the electrode pad and occurrence of residues of the cover wafer.例文帳に追加

カバー板を備えた半導体センサの製造方法において、ウェハ状態でカバーウェハを搭載した後にカバーウェハを加工して電極パッドを露出させる際にカバーウェハの詳細な位置合わせを必要とせず、かつ、配線パターン及び電極パッドの損傷及びカバーウェハの残渣物の発生を防止する。 - 特許庁

At this time, the first cladding layer 4a kept in contact with the core layer 2 is made of a photorefractive material whose refractive index rises upon irradiation with access light B2 different from the reference light B1, so that diffracted light according to the hologram pattern 5 can be emitted to the outside only in the irradiated region.例文帳に追加

このとき、コア層2と接する第1クラッド層4aを上記参照光B1とは別のアクセス光B2の照射に応じて屈折率の上昇するフォトリフラクティブ材料で構成することにより、その照射領域でのみホログラムパターン5に応じた回折光を外部に放射させることができる。 - 特許庁

例文

To provide a power sale support system constituted so that a candidate for new customer to be preferentially acquired is automatically selected from among a plurality of candidates for new customers in order to reduce load fluctuation as much as possible upon considering a power load fluctuation pattern of the whole power supply destination at present.例文帳に追加

現時点における電力供給先全体の電力負荷変動パターンを踏まえた上で、負荷変動をできるだけ小さくするために優先的に獲得すべき新規需要家候補を複数の新規需要家候補の中から自動的に選択可能に構成される電力営業支援システムを提供する。 - 特許庁

例文

At least two colored emulsion coatings having different color tones are applied in turn one upon another, and the surface of the coating film is pressed while the coating film is kept fluid so that a pattern coating film in which the color tone of the coating film of a lower layer and the color tone of the coating film of an upper layer are mixed together is formed.例文帳に追加

少なくとも色調の異なる2色以上の着色エマルション塗料を、順次塗り重ね、該塗装塗膜が流動状態の内に、塗装塗膜の表面を押圧することで、下層の塗装塗膜の色調と上層の塗装塗膜の色調とが混ざり合う模様塗膜の形成方法で上記課題を解決する。 - 特許庁

The substrate stage device has a substrate stage that moves a substrate, to a position where a predetermined pattern is to be transferred, wherein the device includes a substrate holder 14 to mount a substrate P and a mount assisting mechanism 15a to 15d to temporarily support at least a part of the outer periphery of the substrate upon mounting the substrate on the substrate holder 14.例文帳に追加

所定のパターンを転写する位置に基板を移動させる基板ステージを備えた基板ステージ装置において、前記基板Pを載置する基板ホルダ14と、前記基板を前記基板ホルダ14上に載置する際に、前記基板の外周部の少なくとも一部を一時的に支持する載置補助機構15a〜15dとを備える。 - 特許庁

An imprint material 11 has a resin 11, that receives energy in contact with a convexo-concave pattern of a template 20 and is hardened, from a liquid state and a plurality of fine particles 13 which are contained in the resin 11 in a solid state, and have a volume shrinkage ratio that differs from that of the resin 11 upon receiving the energy.例文帳に追加

インプリント材11は、テンプレート20の凹凸パターンと接触された状態でエネルギーを受けて、液体の状態から硬化される樹脂11と、樹脂11中に固体の状態で複数含有され、エネルギーを受けたときの体積収縮率が樹脂11とは異なる微粒子13と、を備えた。 - 特許庁

The signal processing circuit 130 includes a formatter 134 which generates a signal based upon external supply pattern information, a driver 136 which generates an inspected body drive signal based on the signal, and a comparing circuit 138 which receives a response signal from the body to be inspected and outputs an inspected body defect signal to the delivering circuit 132.例文帳に追加

信号処理回路130は、外部供給パターン情報を基に、信号を発生するフォーマッタ134と、信号を基に被検査体駆動信号を発生するドライバー136と、被検査体からの応答信号を受けて、被検査体不良信号を受け渡し回路132に出力する比較回路138とを含む。 - 特許庁

This pattern recognition adaptive controller, configured to dynamically adjust proportional gain and integral time control parameters based upon patterns that characterize the closed-loop response, receives a sampled signal representative of the controlled variable, and determines a smoothed signal based on the sampled signal.例文帳に追加

閉ループ応答を特徴付けるパターンに基づく比例ゲイン(利得)および積分時間制御パラメータを動的に調整すべく形成されたパターン認識適応コントローラは、制御された変数を表すサンプルされた信号を受信し、そして前記サンプルされた信号に基づいて平滑化された信号を判定する。 - 特許庁

Then, the main controller 102 adjusts the voltage value of the transfer bias which is applied to the secondary transfer roll 8 by the transfer device control section 118, according to an adjusting operation manually performed based upon the calibration pattern PT, and sets the adjusted voltage value, as the set value of the transfer bias, for the transfer device control section 118.例文帳に追加

次いで、メインコントローラ102が、転写装置コントロール部118により二次転写ロール8に印加される転写バイアスの電圧値を、キャリブレーションパターンPTに基づいてマニュアルで行われる調整操作に応じて調整し、この調整後の電圧値を転写装置コントロール部118に転写バイアスの設定値として設定する。 - 特許庁

Then, based on the detected results from the detection part 205, the recording part 207 records the signal level of the detected signal and a count value upon the detection in the signal level of the detected signal, and based on the recorded signal level of the detected signal and the count value, a calculation part 208 calculates the coating weight of toner of the pattern image.例文帳に追加

そして、記録部207は、検知部205の検知結果に基づいて、検出信号の信号レベルおよび当該検出信号の信号レベルが検知されたときのカウント値を記録し、演算部208は、記録された検出信号の信号レベルおよびカウント値に基づいて、パターン画像のトナー付着量を演算する。 - 特許庁

To provide a photo-curable paint for a film and a method for forming a decorative coating using the same, wherein defective curing of a coating is not caused and a coating can be formed in a short time and a decorative effect can be realized by generating a rough pattern in the coating itself upon curing the coating.例文帳に追加

塗膜の硬化不良等の問題を生じず、短時間で塗膜を形成することができるとともに、塗膜を硬化させる際に塗膜自体に凹凸を発生させて装飾効果を発揮させることのできる光硬化性塗料、及び該塗料を使用した装飾性塗膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The photosensitive resin composition for forming a polyimide pattern on a substrate comprises (a) a polyamic acid, (b) a photobase generator which generates a secondary amine having at least one substituent in the α position upon irradiation with an actinic ray, and (c) a solvent.例文帳に追加

本発明の一態様における感光性樹脂組成物は、基体上にポリイミドのパターンを形成するための感光性樹脂組成物であって、(a)ポリアミド酸、(b)活性光線の照射によりα位に少なくとも一つの置換基を有する2級アミンを発生する光塩基発生剤、(c)溶媒を含有する。 - 特許庁

After the circuit pattern is formed by printing the silver paste on the substrate and the voltage is impressed upon the circuit, the electric circuit is formed by tentatively drying the substrate in an infrared heating furnace adjusted to150°C in temperature and, successively, drying the substrate in a circulating hot air oven adjusted to150°C in temperature.例文帳に追加

前記銀ペーストを基板上に印刷して回路パターンを形成し、該回路パターンに電圧を印加した後、前記基板を、150℃以上に温調した赤外線加熱炉内で仮乾燥し、続いて150℃以上に温調した熱風循環炉で乾燥して、前記基板上に電気回路を形成する。 - 特許庁

In the method of manufacturing a conductor pattern, a step of printing mask portions on a board by using a printing material containing a solvent-soluble resin as a main component, a step of laminating a conductive member upon the whole surface of the substrate, and a step of removing the printing material with a solvent, are successively performed in this order.例文帳に追加

支持体上に溶剤溶解性の樹脂を主成分とする印刷材料でマスク部分を印刷する工程と、導電性部材を全面に積層する工程と、前記印刷材料を溶剤で除去する工程とをこの順に有することを特徴とする導電性パターン製造方法。 - 特許庁

When the internal winning combination linked to the combination of the specified figures is determined, the rotation of reels involved is controlled to stop so as to make a pattern display means display the combination of the specified figures upon the detection of the stop operation at a predetermined timing.例文帳に追加

そして、特定の図柄の組合せに係る内部当籤役が決定される場合において、停止操作検出手段により停止操作の検出が予め定められたタイミングにて行われるときには、特定の図柄の組合せが図柄表示手段により表示されるように、該当するリールの回転の停止制御を行うようにした。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a process where resin 30 is provided on one surface of a wiring board 20 where a thin-film pattern is formed on at least one surface of a base substrate 22, and the identification display is made depending upon whether the resin 30 is exposed from a surface opposite to the surface where the resin 30 is provided.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、ベース基板22の少なくとも一方の面に薄膜パターンが形成された配線基板20の一方の面に樹脂30を設ける工程を含み、前記樹脂30が設けられる面とは反対側の面からの、前記樹脂30の露出の有無によって識別表示がされる。 - 特許庁

To provide a through-hole filling ink for flatly filling a through-hole which eliminates or minimizes the need for the subsequent grinding and has heat resistance and does not cause troubles such as peeling upon effecting solder ing ball connection or the like when an electrically conductive pattern is plated on the filled through-hole.例文帳に追加

スルーホールに平坦に埋め込みを行い、研磨を行わないか、必要最小限の研磨にとどめたスルーホール充填用インクに関し、優れた耐熱性を有し、また穴埋めしたスルーホールの上に導体パターンのメッキを行った場合、半田ボール接合時等に剥がれ等の不具合を生じないスルーホール充填用インクを提供する。 - 特許庁

A control unit 18 determines at least one of a plurality of drawing objects by a lottery, determines by a lottery at least one of color, an arranged location, size, and a movement pattern of the determined drawing object, and displays a standby image drawn by combining with a specified background image based upon result of the lottery, on a display unit 16.例文帳に追加

制御部18は、複数の描画オブジェクトの少なくとも一つを抽選により決定し、当該決定された描画オブジェクトの色、配置場所、サイズ、動きのパターンの少なくとも一つを抽選し、当該抽選の結果に基づき特定の背景画像と合成して描画される待受け画像を表示部16に表示する。 - 特許庁

The light rays emitted from the p-n junctions between the substrate 10 and areas 12 are condensed upon a photosensitive drum and form very small dot images on the photosensitive surface of the drum through an unmagnified image forming optical system after the uneven light quantity of a nonuniform luminous pattern is corrected to a uniform light quantity by means of the scattering bodies 14.例文帳に追加

そして、GaAsP基板10とZn拡散領域12とのpn接合部から放射された光は、散乱体14により不均一な発光パターンの光量むらを均一され、更に等倍結像光学系を経由して感光ドラムに集光され、その感光面に微小な点像を形成するようになっている。 - 特許庁

The existing range of a data description part DT is estimated based upon the recognized picking symbol parts SS, SE, and after the correctness is determined on a candidate image of the data description part included in the estimated existing range by a check pattern CP, the code data described in the data description part DT is decoded.例文帳に追加

そして、上記認識された切り出し用シンボル部SS,SEをもとにデータ記述部DTの存在範囲を推定し、この推定された存在範囲に含まれるデータ記述部の候補画像に対しチェックパターンCPによる正当性の判定を行ったのち、当該データ記述部DT記述されたコードデータを復号する。 - 特許庁

Then a first component mounting machine 13 determines mounting positions of the respective substrates on the palette 11 based upon the mask position information to stick the respective substrates on the palette 11, and the palette 11 is conveyed to the screen printer 14 to screen-print the predetermined pattern on the plurality of substrates on the palette 11 together at a time.例文帳に追加

この後、第1の部品実装機13で、上記マスク位置情報に基づいてパレット11に対する各基板の搭載位置を位置決めして各基板をパレット11に粘着させた後、該パレット11をスクリーン印刷機14に搬送して、該パレット11上の複数の基板に一括して所定のパターンをスクリーン印刷する。 - 特許庁

To provide a substrate having at least an antireflective silicone resin film deposited on an organic film and a photoresist film consecutively layered thereon, in which the antireflective silicone resin film has both of excellent resist compatibility and high etching durability upon etching of the organic film, and a pattern with higher accuracy is thereby formed.例文帳に追加

少なくとも、有機膜の上に、反射防止用ケイ素樹脂膜、その上にフォトレジスト膜を順次形成した基板であって、反射防止用ケイ素樹脂膜が、優れたレジストコンパティビリティと有機膜エッチング時の高いエッチング耐性の両方を兼ね備えており、このため、より精度の高いパターンを形成することができる基板を提供する。 - 特許庁

The mask blank comprises a thin film formed on a substrate for forming a mask pattern, and a resist film formed above the thin film, and is characterized in that the patterned resist film is prevented from collapsing upon developing the resist film for patterning by inserting a deposition layer joined with the thin film and the resist film.例文帳に追加

基板上に成膜されたマスクパターンを形成するための薄膜と、この薄膜の上方に成膜されたレジスト膜を備えるマスクブランクであって、 前記薄膜と前記レジスト膜とに接合した付着層を介挿することにより、前記レジスト膜をパターン形成する際の現像に際し、パターン形成されたレジスト膜の倒れを防止することを特徴とする。 - 特許庁

The program table creation module 77 extracts a plurality of successively arrayed broadcasting stations including a selected broadcasting station from the pattern so that the plurality of broadcasting stations of the first group are preferentially selected, and creates a program table of the plurality of extracted broadcasting stations based upon program information acquired by the acquisition module.例文帳に追加

番組表作成モジュール77は、第1グループの複数の放送局が優先的に抽出されるよう、上記パターンから、選択されている放送局を含む連続して並んだ複数の放送局を抽出し、取得モジュールで取得した番組情報を基に、上記抽出した複数の放送局の番組表を作成する。 - 特許庁

Based upon characteristic distribution data on a plurality of products, a plurality of constituents representing features of variation in the characteristic distribution data are extracted by a pattern classification method, and weight coefficients which contribute to the representation of the characteristic distribution data by the plurality of constituents are calculated for the respective characteristic distribution data (S1).例文帳に追加

複数の製造物の特性分布データに基づいて、パターン分類手法によって、特性分布データにおける変動の特徴を表す複数の構成成分を抽出するとともに、特性分布データの各々に対して、複数の構成成分がその特性分布データを表すのに寄与する重み係数をそれぞれ算出する(S1)。 - 特許庁

A method of performing the semiconductor layout pattern generation by generating a figure within the quadrangle using the computer and generating figures within a predetermined area, based upon the generated figure included in the predetermined area, is characterized by generating the figures inward at a constant pitch from four directions starting at the four vertexes of the quadrangle as start points.例文帳に追加

コンピュータを利用して、四角形内に図形を発生して、指定エリア内に含まれる発生図形を基に、指定エリア内に図形を生成することにより半導体レイアウトパターン生成を行う方法において、 四角形の四つの頂点を始点として、外側から内側に四方から、一定のピッチで図形を発生させることを特徴とする図形発生方法。 - 特許庁

In the game machine provided with a display control device for controlling a series of variable display games for variably displaying identification patterns, a CPU of the display control device prepares reduced patterns 62 based upon font data of identification patterns 22 stored in a font ROM and a reduced pattern group 61 is composed of a plurality of reduced patterns ....例文帳に追加

識別図柄を変動表示する一連の変動表示ゲームを制御する表示制御装置を備える遊技機において、表示制御装置のCPUは、フォントROMに格納された識別図柄22のフォントデータに基づいて縮小図柄62を作成し、複数の縮小図柄62…によって縮小図柄群61を構成する。 - 特許庁

A presentation command analysis part 402 receives a presentation command including one or two or more first lottery results, which are first lottery results suspended in a main control board and already output by a first lottery means, and not variably displayed based upon the first lottery result in the pattern display means, and analyzes the same.例文帳に追加

演出コマンド解析部402は、メイン制御基板において保留している第1の抽選手段が出力済みの第1の抽選結果であって、図柄表示手段において当該第1の抽選結果に応じた可変表示が行われていない1つ又は複数の第1の抽選結果を含む演出コマンドを受信して、解析する。 - 特許庁

Each side band is formed in a serpentine pattern including a series of bends 38, wherein upon expansion of the stent, the bends 38 of the side bands 34, 35 open to increase the length of each of the individual cells 37 in the helical direction, thereby lengthening the strip in the helical direction to allow the stent 30 to expand without any significant unwinding of the strip.例文帳に追加

各側帯34,35は、一連の曲げ部38を備える蛇状パターンで形成され、ステントを拡張すると、側帯34,35の曲げ部38が開いて、個々のセル37それぞれの長さを螺旋方向に増加させ、それによって細片を螺旋方向に伸張させて、細片を有意に解くことなく、ステント30が拡張できるようにする。 - 特許庁

By this method, AC voltage electrification based upon a specific electrification pattern is repeated in steps and the water tree generation type of the cable insulator is evaluated by using a distribution of residual electric charge quantities measured in the steps of the AC voltage electrification.例文帳に追加

CVケーブルに直流電圧を課電した後に接地し、その後に交流電圧を課電して残留電荷を測定する方法において、所定の課電パターンからなる交流電圧課電をステップ状に複数回行い、各ステップの交流電圧課電時に測定される残留電荷量の分布からケーブル絶縁体の水トリー発生態様を評価することを特徴とする。 - 特許庁

An electromagnetic wave shielding film is characterized, in that a geometrical etching resist pattern is formed on the conductive metallic layer of a plastic film carrying formed by laminating the conductive metallic layer upon a plastic substrate, so that the film may carry a conductive metal and a geometric graphic composed of the conductive metal is formed by over- etching the conductive metallic layer.例文帳に追加

プラスチック支持体に導電性金属層を積層してなる導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属層の上に、幾何学図形を有するエッチングレジストパターンを形成し、導電性金属層をオーバーエッチングすることによって導電性金属からなる幾何学図形を形成することを特徴とする電磁波シールドフィルムの製造方法。 - 特許庁

A manufacturing device 20 for an LTCC multilayer substrate includes a stacking section 28 where a plurality of green sheets GS are stacked in order on a conveyance stage 22, and a drawing section 25 which draws a pattern P on a top layer by discharging a droplet D to the top layer based upon bit map data related to the top layer each time a green sheet GS is stacked.例文帳に追加

LTCC多層基板の製造装置20は、複数のグリーンシートGSを順に搬送ステージ22の上に積層する積層部28と、グリーンシートGSが積層されるたびに最上層に関連付けられたビットマップデータに基づいて最上層に液滴Dを吐出して最上層にパターンPを描画する描画部25とを有する。 - 特許庁

To provide a composition for resist underlay film which is excellent in adhesiveness with a resist film, can improve the reproducibility of a resist pattern, has durability against an alkali solution used for development or the like and against oxygen ashing upon removing the resist, can form a resist underlay film less in permeation amount of a resist material, and is excellent in storage stability.例文帳に追加

レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。 - 特許庁

An imprint system 1 has a configuration connecting together the followings: a wafer carry-in-and-out station 2; a wafer processing station 3 which forms a first resist film on a wafer W; an imprint processing station 4 which forms a second resist film on the wafer W and a prescribed resist pattern upon the second resist film; and a template carry-in-and-out station 5.例文帳に追加

インプリントシステム1は、ウェハ搬入出ステーション2と、ウェハW上に第1のレジスト膜を形成するウェハ処理ステーション3と、ウェハW上に第2のレジスト膜を形成し、当該第2のレジスト膜に所定のレジストパターンを形成するインプリント処理ステーション4と、テンプレート搬入出ステーション5とを一体に接続した構成を有している。 - 特許庁

The coin is arranged at the bottom part of a coin conveyance path where the coin is conveyed radially so that the length of a core gap is in the coin conveying direction and when the coin passes on the magnetic sensor, magnetic variation based upon the pattern of the coin outer peripheral surface and the coin material is detected to accurately decide the kind of the coin from the detection results.例文帳に追加

硬貨を半径方向に搬送する硬貨搬送路の底面部に、コアギャップの隙間の長さ方向が硬貨搬送方向に平行になるように配設し、硬貨が磁気センサー上を通過したとき、硬貨外周面の模様、及び硬貨材質による磁気変化を検出し、これらの検出結果から硬貨の種別を正確に判別する。 - 特許庁

To provide a decorative sheet of so-called double layered constitution, in which problems such as the discoloring, whitening, straining, cracking, separation and the like will not be generated in a pattern layer or a concealed layer due to heat upon laminating a surface side transparent or semi-transparent thermoplastic resin layer, embossing on the surface of the thermoplastic resin layer or the like and capable of being manufactured stably.例文帳に追加

所謂複層構成の化粧シートにあって、表面側の透明又は半透明の熱可塑性樹脂層の積層の際の熱や、該熱可塑性樹脂層の表面へのエンボス等によっても、絵柄層や隠蔽層の変色、白化、歪、亀裂、剥離等の問題が発生することがなく、安定的に製造可能な化粧シートを提供する。 - 特許庁

Upon a start winning, whether the display result of variable display performed by holding storage becomes a big winning is determined, and the read-ahead notice (continuous notice performance) is executed by displaying a chance spot pattern continuously over the plurality of variable display before the start of the variable display which is the object of the winning time determination.例文帳に追加

始動入賞時に、保留記憶により行われる変動表示の表示結果が大当りとなるか否かを判定し、その入賞時判定の対象となった変動表示が開始されるまでに、複数の変動表示にわたって連続してチャンス目図柄を表示させることによって先読み予告(連続予告演出)を実行する。 - 特許庁

Then the circuit board on which the circuit is formed is manufactured by preventing a circuit pattern from being damaged by curing the ultraviolet-curing resin contained in the conductive paste by projecting ultraviolet rays upon the resin.例文帳に追加

紫外線硬化性樹脂を含有する導電ペーストを用いて回路を形成する方法であり、基板上に、スクリーン印刷により、上記導電ペーストで回路を形成し、次ぎに、紫外線を照射して、導電ペースト中に含有される紫外線硬化樹脂を硬化させることにより、回路パターンの損傷を防止し、表面に回路が形成された回路基板を製造する方法。 - 特許庁

Upon photographing a specific object 70 with an infrared light emitting device 50 attached thereto, a search button is pressed down (102), the infrared cut filter 22 is moved to the second position, a light emitting pattern of the infrared light emitting device 50 is identified from a photographed image (110), and the position of the specific object 70 that is identified is displayed on an LCD (114).例文帳に追加

赤外光発光装置50を取り付けた特定の被写体70を撮影する際は、サーチボタンを押下して(102)、赤外光カットフィルタ22を第2の位置へ移動させ、撮影された画像から赤外光発光装置50の発光パターンを識別して(110)、識別された特定の被写体70の位置をLCD上に表示する(114)。 - 特許庁

A main controller 70 determines focus positions of respective image capturing devices when detecting the position of the alignment mark of the mask and the position of the alignment mark of the underlying pattern on the substrate based upon variation in the image recognition rate, the sharpness value and the contrast value preliminarily detected by the image processing device 50 while moving the focus positions of respective image capturing devices by a focus position moving mechanism.例文帳に追加

主制御装置70は、予め、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点位置を移動しながら、画像処理装置50により検出された画像認識率、シャープネス値、及びコントラスト値の変化に基づいて、マスクのアライメントマークの位置又は基板の下地パターンのアライメントマークの位置を検出する際の各画像取得装置の焦点位置を決定する。 - 特許庁

To realize a verification method of proximity effect correction in electron beam image drawing wherein verification by a real image drawing member is omitted and accurate verification can be performed, by fetching and verifying correction quantity of a proximity effect operating unit which is prepared for preventing proximity effect which exerts influence upon mutual patterns by pattern density at the time of real image drawing, in the course of real image drawing.例文帳に追加

実描画時のパターン密度により図形相互に影響を与える近接効果を防止するために準備される近接効果演算ユニットの補正量を実描画途中で取りだし、検証することにより、実描画材料による検証を省略して正確な検証を行うことができる電子ビーム描画における近接効果補正の検証方法を実現する。 - 特許庁

A pattern forming method comprises the steps of: (a) forming a film from an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition containing a compound(A) that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and is decomposed by an action of an acid to reduce solubility in an organic solvent; (b) exposing the film; and (c) developing using a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

(ア)活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する化合物(A)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含む、パターン形成方法。 - 特許庁

例文

An electromagnetic wave shielding film is characterized, in that a geometrical etching resist pattern is formed on the conductive metallic layer of a plastic film formed by laminating the conductive metallic layer upon a plastic substrate, so that the film carries a conductive metal, and a geometrical graphic composed of the conductive metal is formed by etching the conductive metallic layer.例文帳に追加

プラスチック支持体に導電性金属層を積層してなる導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属層の上に、スクリーン印刷法により幾何学図形を有するエッチングレジストパターンを形成し、導電性金属層をエッチングすることによって導電性金属からなる幾何学図形を形成することを特徴とする電磁波シールドフィルムの製造方法。 - 特許庁




  
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