「pattern-formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

Thus, since a fresh binary pattern can always be formed and detected by the recording means, image formation can be accurately controlled and color shift and displacement of the transfer body to one side can be prevented.例文帳に追加

これにより、レコーディング手段で常に新しい２値パターンを生成して、それを検出することが出来るので、精度の良い画像形成のための制御を行うことが出来、色ずれや転写体寄りを防止することが出来る - 特許庁

To provide an imprint apparatus, at the time of circuit pattern formation, which can imprint and easily release a substrate by aligning the substrate and the sequential pressurization, and which can be used for the large area substrate, and to provide a system and a method.例文帳に追加

回路パターン形成の時、基板を整列させて順次加圧によってインプリントを行って容易に基板と離形することができ、大面積基板で使用可能であるインプリント装置、システム及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method and an exposure apparatus which is suitably used for the formation of a fine pattern that composes an electronic device such as a flat panel display, and to provide an inexpensive exposure method with high resolution.例文帳に追加

フラットパネルディスプレイ等の電子デバイスを構成する微細パターンの形成に使用して好適な露光方法及び露光装置であって高解像度かつ安価な露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a transistor which minimizes an impact of the potential of a light screening layer on operation of the thin film transistor of a structure with a light screening film, and also to provide a formation method of a lamination film pattern.例文帳に追加

遮光膜を有する構造の薄膜トランジスタにおいて、遮光層の電位が薄膜トランジスタの動作に与える影響を最小限に抑制できるトランジスタ、および積層膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

Only a pattern (shaded parts in Figure 4 (b)) inside a cell which is frequently used is collectively transferred through an aperture, and a peripheral part of the cell (shaded parts in Figure 4 (c)) is transferred through a usual variable formation beam drawing.例文帳に追加

多数回使用されるセルの内部のパターン（図４（ｂ）の斜線部）に対してのみアパーチャを用いた一括転写を行い、セルの周辺部（図４（ｃ）の斜線部）は従来の可変成形ビーム描画を行う。 - 特許庁

To provide an electronic component capable of securing a sufficient mounting area for an electronic component element, and capable of coping with the formation of a fine pattern or a microvia, rigid in the mounting strength on a mother board while being highly accurate and highly dense.例文帳に追加

電子部品素子の充分な搭載面積を確保でき、マザーボード上への実装強度が強固であり、かつ高精度、高密度なファインパターンやマイクロビアの形成に対応できる電子部品を提供する。 - 特許庁

It is realized by selectively using two or more kinds of cutting tools having different edge diameters in accordance with the formation density of the recessed and projecting pattern when performing the cutting work of the original die of the diffraction optical device or the metallic die for molding the diffraction optical device.例文帳に追加

これは、回折光学素子の原型、又はその成形用金型の切削加工時、先端径の異なる複数種のバイトを、凹凸パターンの形成密度に応じて選択使用することにより実現する。 - 特許庁

The pattern light irradiation device is constituted of: a light source device; an optical integrator 11; and an image formation optical system 15 which irradiates light emitted from the optical integrator 11 toward a surface to be irradiated of a liquid crystal panel 20.例文帳に追加

パターン光照射装置は光源装置と光インテグレータ１１と光インテグレータ１１から出射された光を液晶パネル２０の被照射面に向けて照射する結像光学系１５とから構成される。 - 特許庁

To provide an image protective film roll which can produce an overcoat recording object with feel of luster and high quality level without giving rise to deformation of a transfer layer and the formation of uneven pattern even under long-term storage, and an image protecting method.例文帳に追加

長期間保管しても転写層の変形、凹凸模様の形成が起こらず、光沢感のある高品位のオーバーコート記録物を提供し得る画像保護フィルムロール及び画像保護方法を提供すること。 - 特許庁

After that, the secondary transfer roller is brought into pressure contact with the intermediate transfer belt (S21), a speed difference detecting pattern is formed on the intermediate transfer belt in the Y color (S22), and after formation, the secondary transfer roller is separated from the intermediate transfer belt (S24).例文帳に追加

その後、二次転写ローラを中間転写ベルトに圧接し（Ｓ２１）、Ｙ色で速度差検出用パターンを中間転写ベルトに形成し（Ｓ２２）、形成後、二次転写ローラを中間転写ベルトから離間させる（Ｓ２４）。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern-like thin film layer which has a mask layer material having a high heat resistance by a lift-off process and has a good stripping property, while preventing generation of a decomposed gas at its processing temperature upon formation of the thin film.例文帳に追加

マスク層材料の耐熱性が高く、又薄膜形成時の処理温度下での分解ガスの発生もなく、さらに、剥離性が良好なリフトオフ方式のパターン状薄膜層の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mixer in which manufacturing steps are reduced and manufacturing cost is reduced by providing a structure in which three independent ports are subjected to pattern formation on the same substrate, and to provide a high frequency module and a communication device.例文帳に追加

独立した３つのポートを同一基板上にパターン形成することができる構造にして、製造工程の削減と製造コストの低減化を図ったミキサ，高周波モジュール及び通信機を提供する。 - 特許庁

To provide a method which enables the formation of a concave/convex-shaped pattern by a simple means without using any filler precisely at a predetermined position of the coating film surface without bringing any foreign matter and any stain on the coating film surface.例文帳に追加

塗膜表面に異物や汚れなどをもたらすことなく、塗膜表面の所定位置に正確に、かつ簡単な手段により凹凸状のパターンを、フィラーを用いないで形成し得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printing plate, capable of coping with high-quality printing with a special ink for printable electronics and durable against plate washing, after printing in a printing plate which utilizes resist pattern formation by a photolithographic process.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によるレジストパターン形成を利用した印刷版において、プリンタブルエレクトロニクスの特殊なインクによる高品質印刷に対応でき、さらに印刷後の版の洗浄にも耐えうる印刷版を提供すること。 - 特許庁

To provide a blank holder which enables the user to process the other side, keeping a pattern already made at one side of a blank for formation of an exposure mask in non-break condition, and a method of manufacturing the exposure mask.例文帳に追加

露光マスク形成用のブランクスの一方の面に既に形成されたパターンを非破壊に保った状態で、他面の加工を行うことが可能なブランクス保持具および露光マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a printing plate which enables the accurate formation of a pattern having a large film thickness on the surface of a substrate by causing no damage or pollution of the substrate, and to provide the printing plate.例文帳に追加

基板に損傷や汚染を生ずることなく、基板の表面に膜厚の厚いパターンを正確に形成することが可能な印刷版の製造方法および印刷版を提供することを目的とする。 - 特許庁

After formation is completed up to an insulating film 4, a film to be etched is formed on the insulating film 4, and a pattern of a lower electrode center 5A is formed on the film to be etched, the insulating film 4 and a part of a conductive plug 3.例文帳に追加

絶縁膜４まで形成した後、被エッチング膜を絶縁膜４上に形成し、その被エッチング膜と絶縁膜４と導電性プラグ３の一部とに下部電極中心５Ａのパターンを形成する。 - 特許庁

To provide an image protecting film roll, which can provide a high grade over-coating recording matter with lustrous feeling due to no development of the deformtion of a transfer layer even after the storage over a long period of time and of the formation of an undulated pattern, and its image protecting method.例文帳に追加

長期間保管しても転写層の変形、凹凸模様の形成が起こらず、光沢感のある高品位のオーバーコート記録物を提供し得る画像保護フィルムロール及び画像保護方法を提供すること。 - 特許庁

The insulator layer 10 at the part where the 2nd insulator layer 20 is formed is etched away with the aforementioned solution to expose the circuit pattern 13 of the part on the reverse side of the circuit formation surface.例文帳に追加

第２絶縁体層２０を形成した部分の絶縁体層１０を前記溶液によるエッチング処理で除去することで、当該部分の回路パターン１３を前記回路形成面の裏面側に露出させた。 - 特許庁

In manufacturing the electronic parts, a base substrate body 6 of the substrate bodies is prepared, and hole parts 13 for forming the side conductive pattern are formed in the side formation region of each substrate body 2 of the base substrate body 6.例文帳に追加

この電子部品を製造する際には、まず、基板体の母材基板体６を用意し、この母材基板体６の各基板体２の側面形成領域には側面導体パターン形成用の穴部１３を形成する。 - 特許庁

To provide a glass plate 1 for decoration which enables formation of a line pattern by a simple operation, quickly and advantageously in cost and is suitable for small-lot production of a wide variety of products, and a manufacturing method of the glass plate 1 for decoration.例文帳に追加

簡単な操作で迅速かつコスト的に有利に線模様を形成することができて多品種少量生産に好適な装飾用硝子板１および装飾用硝子板１の製造方法を提供する。 - 特許庁

The image forming apparatus has at least one test print consisting of a designated pattern used for correction processing after image formation, and the white level of the test print on a form is detected to correct correction processing based upon the detected value.例文帳に追加

画像形成された補正処理に使用する為の所定のパターンから成る少なくともひとつのテストプリントを有し、前記テストプリントの用紙の白レベルを検知し、その値によって補正処理に補正をかける。 - 特許庁

Use of the sacrificial film 6 disposes of formation of the resist pattern in the trench 4 in forming first and second insulation films (silicon oxide films 8 and 5) different in thickness in the trench 4.例文帳に追加

犠牲膜６を用いることにより、トレンチ４内に膜厚の異なる第１,第２の絶縁膜(シリコン酸化膜８,５)を形成するに際してトレンチ４内にレジストパターンを形成する必要を無くすることができる。 - 特許庁

To provide a surface modifier for a resist modifying the surface of a photoresist film to sufficiently enhance the wettability with a developer solution and excellent in safety, and to provide a method for formation of a resist pattern with the modifier.例文帳に追加

ホトレジスト膜表面を改質して現像液に対する濡れ性を十分に高めることが可能であり、かつ安全性に優れたレジスト表面改質剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of an electrodeposition grinding wheel, which achieves an automated unmanned masking process and high-efficient formation of a masking with a micro-complicated pattern, and which is sufficiently suitable for mass production.例文帳に追加

電着砥石の製造工程において、マスキング工程を自動化、無人化できるだけでなく、微細で複雑なパターンのマスキングでも高能率に形成でき、しかも量産に十分に対応可能なものを提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus technology enabling formation of a high quality image over a long term by forming a toner pattern on a non-image region of an image carrier (photoreceptor) without increase of the toner use amount.例文帳に追加

トナーの使用量を増加させずに像担持体（感光体）の非画像領域上にトナーパターンを形成して長期に渡って高品質な画像の形成を可能とする画像形成装置技術を提供すること。 - 特許庁

To facilitate formation of pad metals separated individually by making a trench between adjacent pads thereby forming a pad metal film without requiring a pattern mask reflecting the individual pad shape in the pad metal film forming process.例文帳に追加

隣接するパッド間に溝を形成し、パッドメタル成膜工程で個々のパッド形状を反映したパターンマスクを用いることなくパッドメタルの成膜を可能とし、個々に分離されたパッドメタルを容易に形成可能とする。 - 特許庁

Inverting the PXLED to expose the pattern of the masking layer or using the Talbot effect to create an aligned second patterned masking layer allows the formation of PXLEDs with low defect density.例文帳に追加

マスク層のパターンを露出させるためにＰＸＬＥＤを逆にするか、又は、「タルボット」効果を用いて整列した第２のパターン化マスク層を作り出すことにより、欠陥密度の低いＰＸＬＥＤを形成することができる。 - 特許庁

To provide a method for inexpensively forming a circuit on a printed- wiring board by reducing defect in a circuit pattern due to dirt, and by shortening processes in circuit formation and exposure time.例文帳に追加

プリント配線板の回路形成にて、塵埃にる回路パターンの欠陥を低減させ、回路形成の工程を短縮し、露光時間を短縮し、廉価に回路を形成するプリント配線板の回路形成方法を提供すること。 - 特許庁

The scale manufacturing method includes; a step for detecting the position of the dense track that is formed in advance for generating a pattern in a coarse track corresponding to the position; and a write-once formation step of the coarse track onto a scale surface.例文帳に追加

あらかじめ形成された密トラックの位置を検出して、その位置に対応する粗トラックのパターンを生成するステップと、粗トラックをスケール面に追記可能な形成ステップとを含むスケール製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal polishing which enables the formation of the buried pattern of a highly reliable metallic film by revealing high CMP rate, and enabling the high flattening, the reduction of the quantity of dishing, and the reduction of the quantity of erosion.例文帳に追加

高いＣＭＰ速度を発現し、高平坦化、ディッシング量低減及びエロージョン量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属研磨方法を提供する。 - 特許庁

To easily reduce the pattern area of an array of DRAM cells which uses vertical MOS transistors for a transfer gate, facilitate consistency with peripheral transistors when a cell array is formed, and minimize increase in the number of masks for simultaneous formation.例文帳に追加

縦型MOS トランジスタをトランスファゲートに用いたDRAMセルのアレイのパターン面積の縮小が容易であり、セルアレイの形成時に周辺トランジスタとの整合性を取り易く、マスク数の増加を最小限にして同時に形成する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN, RESIST COMPOSITION USING PHOTOSENSITIVE RESIN, METHOD OF PATTERN FORMATION USING RESIST COMPOSITION, DEVICE PRODUCED BY METHOD THEREOF AND METHOD OF EXPOSURE USING RESIST HAVING PHOTOSENSITIVE RESIN例文帳に追加

感光性樹脂及び該感光性樹脂を用いたレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたパターン形成方法、該パターン形成方法により製造されるデバイス及び該感光性樹脂を有するレジストを用いた露光方法 - 特許庁

To reduce the increase of costs caused by the increase of masks, the increase of stages and the increase of materials and to reduce yield loss caused by dust and the like by attaining the formation of a contact hole and rugged pattern in an active matrix substrate in one photolithographic stage.例文帳に追加

アクティブマトリックス基板におけるコンタクトホール及び凹凸パターンの形成方法のフォトリソ工程を１回とし、マスク増、工程増、材料増によるコスト増、ダストによる歩留まりロス等の低減を図る。 - 特許庁

Cell shape data 17a, cell attribute data 17b and arrangement restriction condition data 17c formed as libraries are stored in the pattern forming device 11 which executes layout data formation processing of process patterns.例文帳に追加

プロセスパターンのレイアウトデータ作成処理を実行するパターン作成装置１１には、ライブラリとして作成されたセル形状データ１７ａ、セル属性データ１７ｂ及び配置制約条件データ１７ｃが格納される。 - 特許庁

To provide a titanium dioxide composition and a titanium dioxide-containing layer which has few crystal defects and exhibits high activity, and to provide a pattern formation body using the titanium dioxide-containing layer.例文帳に追加

本発明は結晶欠陥が少なく、高い活性を示す二酸化チタン組成物や二酸化チタン含有層、およびこの二酸化チタン含有層を用いたパターン形成体等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

The antenna 12, provided to the garage door opener which opens and closes a garage door through radio remote operation, is constituted by pattern formation on a printed board 11 mounted with an ECU 10 for the garage door opener.例文帳に追加

ガレージドアを無線遠隔操作により開閉するガレージドアオープナーに設けられるアンテナであって、前記アンテナ１２は、ガレージドアオープナー用ＥＣＵ１０を搭載するプリント基板１１にパターン形成されて成るように構成する。 - 特許庁

In image formation with the image forming apparatus, a pattern for following up information on a reproduction is formed with a hardly visible yellow toner selected from a plurality of color toners used in the image forming apparatus.例文帳に追加

画像形成装置による画像形成の際、この画像形成装置に用いられる複数色のトナーのうち、視認し難い色のイエロートナーを用いて、複写物の情報を追跡するためのパターンが形成される。 - 特許庁

The inkjet ink for the metallic pattern formation contains copper metal salt, complexing agent and the hydrazine system compound, characterized by containing a compound which has a reactivity with oxygen.例文帳に追加

銅金属塩、錯化剤およびヒドラジン系化合物を含有する金属パターン形成用インクジェットインクであって、酸素と反応性を有する化合物を含有することを特徴とする金属パターン形成用インクジェットインク。 - 特許庁

The composition for pattern formation contains a compound having a functional group capable of causing chain transfer and a hydrophilic functional group within a molecule, a polymerization inhibitor, a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator.例文帳に追加

分子内に連鎖移動可能な官能基と親水性官能基とを有する化合物、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含むことを特徴とするパターン形成用組成物である。 - 特許庁

Thus the occurrence of recessed portions on the phase-change material layer pattern or formation of a surface oxide film is suppressed to be able to considerably reduce the occurrence of defects in the phase-change memory device.例文帳に追加

これによって、相変化物質層パターンの上部に窪みが発生するか、あるいは表面酸化膜が形成されることを抑制して相変化メモリー装置の不良発生を著しく減少させることができる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which enables formation of a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, line width roughness (LWR) and etch resistance, and a method of forming resist patterns using the radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

感度、解像性、ＬＷＲ及び耐エッチング性に優れるレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an electrooptical device enabling precise inspection of presence/absence of defective wiring pattern formation by using a probe, and also to provide a manufacturing method of the electrooptical device, and an electronic device equipped with such an electrooptical device.例文帳に追加

プローブを用いて、配線パターンの形成不良の有無を正確に検査することができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及びそのような電気光学装置を備えた電子機器を提供する。 - 特許庁

The oscillating electric field pattern of a development bias applied to a developing roller, composed of oscillating electric field generation portions and oscillating electric field non-generation portions, is continuously switched during image formation.例文帳に追加

現像ローラに印加を行う現像バイアスの、振動電界を形成する部分と振動電界を形成していない部分とにより構成される振動電界パターンの切替えを、画像形成中に連続して行う。 - 特許庁

The mixer 1 is provided with first and second slot lines 2 and 3, a third line 4 and a FET 5, and the first and the second slot lines 2 and 3, and the third line 4 are subjected to pattern formation on the surface of the substrate 10.例文帳に追加

ミキサ１は第１及び第２のスロット線路２，３と第３の線路４とＦＥＴ５とを備え、第１及び第２のスロット線路２，３と第３の線路４とは、基板１０の表面にパターン形成されている。 - 特許庁