「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(707ページ目) - Weblio英語例文検索

The pattern display device 120 is provided with a single special pattern common display part 123 which displays the first and second special patterns in common and a special pattern discrimination display part 124 which discriminatively displays which of the first and second special patterns is being variably displayed.例文帳に追加

図柄表示装置１２０に、第１特別図柄及び前記第２特別図柄が共通表示される、単一の特別図柄共通表示部１２３と、第１特別図柄及び前記第２特別図柄のいずれかが変動表示中であるかが識別表示される特別図柄識別表示部１２４を設ける。 - 特許庁

The foreign matter removing apparatus 8a is configured to remove foreign bodies 2a, 2b sticking on a pattern surface of the mask 1, and includes electrodes 5, 6 disposed opposite on the pattern surface of the mask 1, and a power source 3 configured to apply a positive and a negative voltage alternately between the pattern surface of the mask 1 and the electrodes 5, 6.例文帳に追加

本発明の異物除去装置８ａは、マスク１のパターン面に付着した異物２ａ、２ｂを除去する異物除去装置であって、マスク１のパターン面に対向配置される電極５、６と、マスク１のパターン面と電極５、６との間に正及び負の電圧を交互に印加する電源３を有する。 - 特許庁

A photomask 1 is manufactured by forming a transparent protective film 1c comprising quartz, an intermetallic compound of metal and silicon, or the like on a circuit pattern film 1b of a quartz substrate 1a, the protective film 1c having a film thickness equal to or larger than that of the circuit pattern film 1b, and removing a surface rugged pattern formed during forming the protective film by polishing.例文帳に追加

石英基板1aの回路パターン膜1b上に、石英もしくは金属とシリコンの金属間化合物等からなる透明な保護膜1cを回路パターン膜1bの膜厚以上の高さで成膜し、保護膜成膜時に形成される表面凹凸を研磨することにより除去してフォトマスク1を製造する。 - 特許庁

Then, receiving the detection signal through the main control board within a pattern variation period (required period), a display control board (picture display means) displays a plurality of screens (figures) on a special pattern display device (display part) switching them based on a ready for win pattern selected from among a plurality of those patterns (S92-S102).例文帳に追加

そして、当該検出信号を図柄変動期間（所要の期間）内にメイン制御基板を介して受けた表示制御基板（図柄表示手段）は、複数のリーチパターンの中から選択したリーチパターンに基づいて複数の画面（図柄）を切り替えながら特別図柄表示器（表示部）に表示する｛ステップＳ９２〜Ｓ１０２｝。 - 特許庁

A curable resin composition 4 applied on a substrate on which a seed film 2 is formed and a mold 5 having a prescribed pattern are relatively moved, thereby, the prescribed pattern is transferred onto the curable resin composition 4, in such a state, the curable resin composition 4 is cured and, thereby, a cured resin 4' having a transferred pattern shape is provided.例文帳に追加

シード膜２が成膜された基板３上に塗布された硬化性樹脂組成物４と、所定パターンを有するモールド５とを相対移動させて、硬化性樹脂組成物４に所定パターンを転写した状態で、硬化性樹脂組成物４を硬化させることで転写されたパターン形状を有する硬化樹脂４´を得る。 - 特許庁

Load torque To is determined based on a predetermined rotational speed pattern ω2ref of an output shaft of the transmission mechanism and rotational inertia connected to an output side of the transmission mechanism, and a slip ratio slip is determined based on the torque To when operated under the rotational speed pattern ω2ref, and also a rotational speed pattern ω1ref of an input shaft is determined.例文帳に追加

予め設定される伝達機構の出力軸の回転速度パターンω2refと、同伝達機構の出力側に接続される回転慣性とに基づき、回転速度パターンω2refで運転したときの負荷トルクＴo 、およびこのトルクＴo に基づき滑り率slipを求め、さらに入力軸の回転速度パターンω1refを求める。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a washing-place floor for a bathroom which has a surface material excellent in design and capable of easily matching a concavo-convex pattern formed on the surface with a grid pattern when applying the grid pattern on the surface of the washing place floor, and to provide its surface material.例文帳に追加

本発明は、洗い場床表面に格子模様を施すにあたって、表面に形成された凹凸パターンと、格子模様とを容易に一致させることが可能なデザイン性に優れる表面材を有する浴室用洗い場床、およびその表面材の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the circuit board 1, an inductance pattern 121 formed in a circuit board inner layer 11b includes a traverse part 121a formed to project from a first ground pattern 114a by traversing two parallel sides of the first ground pattern 114a formed on the circuit board back face 11C when perspectively viewed through a plane.例文帳に追加

そして、回路基板１において、回路基板内層１１Ｂに形成されるインダクタパターン１２１は、平面透視したときに、回路基板裏面１１Ｃに形成される第１接地パターン１１４ａの平行な２辺を横切って第１接地パターン１１４ａからはみ出すように形成された横断部１２１ａを有する。 - 特許庁

In the travel plan generating device 1, the speed pattern for stopping as the travel speed pattern for stopping the vehicle is generated based on the deceleration information of the preceding vehicle, and driving in response to the presence and absence of the preceding vehicle, and the tendency in decelerating is realized, by performing travel control along the speed pattern for stop.例文帳に追加

この走行計画生成装置１では、先行車両の減速情報に基づいて、車両を停止させるための走行速度パターンである停止用速度パターンを生成し、この停止用速度パターンに沿って走行制御を行うことで、先行車両の有無やその減速傾向に対応した運転が実現される。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having high sensitivity and capable of achieving an excellent pattern shape and excellent temporal stability, in pattern formation by irradiation with light such as an electron beam, a method for producing a relief pattern using the negative resist composition, and a method for producing a photomask using the negative resist composition.例文帳に追加

電子線等の光照射によるパターン形成において、高感度、且つ、優れたパターン形状、及び経時安定性を達成可能なネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

The imprint method performs multiple times: a step of transferring an indented pattern on an imprint material by bringing the indented pattern formed on the template into contact with the imprinted material on a substrate; and a step of imaging the indented pattern formed on the template after the transferring step, or the imprint material.例文帳に追加

実施の形態のインプリント方法によれば、テンプレートに形成された凹凸パターンを基板上のインプリント材料に接触させて凹凸パターンをインプリント材料に転写する工程と、転写する工程の後にテンプレート又はインプリント材料に形成された凹凸パターンを撮像する工程とを複数回行う。 - 特許庁

The production process for an embedded printed circuit substrate includes a step 1 for forming a circuit pattern region, in which a part of an insulation layer is etched by laser-patterning the insulation layer produced by laminating photosensitive substance layers; and a step 2 for forming a circuit pattern, by filling the circuit pattern region with a substance for plating.例文帳に追加

特に、感光物質層が積層された絶縁層をレーザーパターニングして絶縁層の一部がエッチングされる回路パターン領域を形成するステップ１と、前記回路パターン領域をメッキ物質で充填して回路パターンを形成するステップ２とを含む埋込型印刷回路基板の製造工程を特徴とする。 - 特許庁

To obtain a photosensitive conductive paste for forming an organic-inorganic composite conductive pattern by which an organic-inorganic composite conductive pattern having low specific resistivity even in a low temperature curing condition can be obtained and which has the effect that fine patterning is possible by high photosensitive characteristics, and to obtain a method for producing the organic-inorganic composite conductive pattern.例文帳に追加

低温のキュア条件においても比抵抗率の低い有機−無機複合導電性パターンが得られ、且つ高い感光特性により微細パターニングが可能という効果を有する、有機−無機複合導電性パターン形成用感光性ペーストおよび有機−無機複合導電性パターンの製造方法を得る。 - 特許庁

A plurality of LSI chips 30A-30D are arranged on a silicon interposer 20 with a wiring pattern 26a and each of the LSI chips is connected to the other LSI chips via the wiring pattern 26a, and the plurality of LSI chips and a base substrate 10 are electrically connected to each other via a portion excluding the wiring pattern 26a.例文帳に追加

配線パターン２６ａを有するシリコンインタポーザ２０上に、複数のＬＳＩチップ３０Ａ〜３０Ｄが配置されており、各ＬＳＩチップが、配線パターン２６ａを介して他のＬＳＩチップと接続され、かつ、複数のＬＳＩチップとベース基板１０とが、配線パターン２６ａ以外の部分を介して電気的に接続される。 - 特許庁

Use of a low-speed test device having a small number of terminals is made possible, by controlling the first and second transistors according to a pattern signal generated by the pattern generating section, and by providing a self-diagnosis control circuit (115) for transmitting the pattern signal to the input circuit.例文帳に追加

上記パターン生成部で生成されたパターン信号に従って上記第１トランジスタ及び上記第２トランジスタを制御することでパターン信号を上記入力回路に伝達する自己診断制御回路（１１５）を設けることによって、端子数が少なく且つ低速な試験装置の使用を可能にする。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film-forming method capable of forming a resist underlayer film that has a function as an antireflective film and that is excellent in pattern transfer performance and etching resistance, to provide an underlayer film that does not bend in micronized pattern transfer and a method of forming the underlayer; and also to provide a pattern forming method.例文帳に追加

反射防止膜としての機能を有すると共にパターン転写性能及びエッチング耐性が良好なレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成方法、微細化したパターン転写時においても曲がらない下層膜及びその形成方法、並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A signal acquisition unit 31 acquires multi-valued color signals, an address generation unit 32 generates an address signal indicating the position in the basic cell of a dither pattern, and a threshold acquisition unit 34 reads the dither pattern corresponding to the color signal from the dither pattern storage unit 33 and acquires a threshold from the position in the basic cell indicated by the address signal.例文帳に追加

信号取得部３１は、多値の色信号を取得し、アドレス発生部３２は、ディザパターンの基本セル内の位置を示すアドレス信号を発生し、閾値取得部３４は、色信号に対応するディザパターンをディザパターン記憶部３３から読み込んで、アドレス信号が示す基本セル内の位置から閾値を取得する。 - 特許庁

In the pattern printing device for printing a desired image pattern on a substrate 90, a base part 53 having a projected part 55 corresponding to a desired image pattern disposed in the image forming area 55 of one surface is formed on the surface of a letterpress printing plate 50 fixed to the outer peripheral surface of a plate cylinder 33.例文帳に追加

基板９０上に所望の画像パターンを印刷するパターン印刷装置において、版胴３３の外周面に装着された凸版印刷版５０の表面には、所望の画像パターンに対応する凸部５５１を一方面の画像形成領域５５に設ける基部５３が形成されている。 - 特許庁

A first special game execution means executes a first special game which is more advantageous to the game player than an ordinary game by changing a first jackpot port to a ball receivable state when a first pattern which is variably displayed by a special pattern display means has been stopped at a specified winning pattern.例文帳に追加

第１特別遊技実行手段は、特図表示手段により変動表示される第１の図柄が所定の当たり図柄で停止されたときに、第１大入賞口を入球可能な状態に変化させることにより、通常遊技よりも遊技者に有利な遊技である第１の特別遊技を実行する。 - 特許庁

When a failure of the first regulator 214 and the second regulator 224 is estimated, the first control part 216 and the second control part 226 cause the first regulator to output a predetermined first current pattern, and causes the second regulator 224 to output a predetermined second current pattern which is different from the first current pattern.例文帳に追加

第１制御部２１６および第２制御部２２６は、第１レギュレータ２１４および第２レギュレータ２２４の異常が推定された場合、第１レギュレータに所定の第１電流パターンを出力させ、第２レギュレータ２２４に第１電流パターンと異なる所定の第２電流パターンを出力させる。 - 特許庁

The method includes ST15 to select an optional spray position, ST16 to select a pattern of moving, ST19 to set a pace of moving in the pattern of moving, ST20 to select a spray position corresponding to the starting end of the pattern of moving as the first spray position and ST21 to determine the order of spraying.例文帳に追加

任意のスプレー位置を選択するＳＴ１５と、移動パターンを選択するＳＴ１６と、移動パターンにおいて、送りピッチを設定するＳＴ１９と、移動パターンの始端に対応するスプレー位置を最初のスプレー位置として選択するＳＴ２０と、スプレー順序を決定するＳＴ２１と、を実行することにある。 - 特許庁

In the terminal 1, a CPU 110 identifies an operation pattern, when a communication partner can be retrieved successfully from an operation pattern table 132 based on an operation of the terminal 1 detected with a sensor 30 and conducts communication with the communication partner in the communication contents in accordance with the relevant operation pattern identified.例文帳に追加

端末装置１において、ＣＰＵ１１０は、通信相手の検索が成功した場合に、センサ部３０により検出される端末装置１の動作に基づいて動作パターンテーブル１３２より動作パターンを特定し、当該特定した動作パターンに応じた通信処理内容にて通信相手と通信する。 - 特許庁

To allocate an antenna pattern, when installing a new station in a state where an antenna pattern having orthogonality between neighboring base stations is allocated, in such a way that an antenna pattern has orthogonality between the new station and an existent base station neighboring to the new station in a state where orthogonality between existent base stations is maintained.例文帳に追加

隣接する基地局間で直交性を持つアンテナパタンが割り付けられている状態で新局を設置する場合に、既存の基地局同士の直交性を保った状態で新局と新局に隣接する既存の基地局との間のアンテナパタンが直交性を有するように、アンテナパタンの割り付けが行えるようにする。 - 特許庁

The method for plotting the pattern of the photomask is characterized in that, when the pattern of the photomask is plotted by electron beams such offset correction is performed according to a lapsed time since the plotting work is started that an offset value added to the shot size of an electron beam plotting apparatus is increased or decreased gradually, and the pattern is plotted while changing a shot size.例文帳に追加

電子線によるフォトマスクのパターン描画において、描画開始からの経過時間にしたがって、電子ビーム描画装置のショットサイズに付加するオフセット値を漸次増加、もしくは減少させるオフセット補正を行い、ショットサイズを変更してパターン描画することを特徴とするフォトマスクのパターン描画方法である。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine uneven pattern on a substrate using a resin film, which can form the uneven pattern accurately at a position at which the uneven pattern is to be formed on the substrate even when the dispersion in shrinking ratios of the resin film, the change in temperature in an alignment step or the like occurs.例文帳に追加

樹脂製フィルムを用いて基板上に微細な凹凸パターンを形成する方法であって、樹脂製フィルムの収縮率のバラつきや位置合わせ工程における温度変化等があっても、基板上の凹凸パターンを形成すべき位置に精確に凹凸パターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

Then, the moving amount of the predetermined object or the predetermined pattern is calculated on the basis of the position of the predetermined object or the predetermined pattern on the image detected from a first image and the position of the predetermined object or the predetermined pattern on the image detected from a second image acquired before the first image.例文帳に追加

そして、第１画像から検出された当該画像上での所定物体または所定図柄の位置と、当該第１画像以前に取得された第２画像から検出された当該画像上での上記所定物体または所定図柄の位置に基づいて、当該所定物体または所定図柄の移動量を計算する。 - 特許庁

A second wiring layer 120 has a bridge wiring line 30, which electrically connects the first via 70 to the second via 72, and a conductor pattern 50 which is formed around a bridge wiring line 30 and has outer edges at positions beyond the outer edges of a first wiring pattern and a second wiring pattern in the first wiring layer 110.例文帳に追加

第２配線層１２０は、第１ビア７０および第２ビア７２を電気的に接続するブリッジ線路３０と、ブリッジ線路３０の周囲に設けられて、第１配線層１１０における第１配線パターンおよび第２配線パターンの外縁を越えた位置に外縁をもつ導体パターン５０とを有する。 - 特許庁

To provide a master disk for magnetic transfer having a reference servo pattern for transfer suitable for a method for scanning and drawing an electron beam in an circumferential direction corresponding to a reference servo signal of a spiral system; to provide a drawing method of a pattern for magnetic transfer; and to provide a magnetic recording medium to which the magnetic transfer pattern is transferred.例文帳に追加

スパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応し、電子ビームを円周方向に走査して描画する方法に適する転写用のリファレンスサーボパターンを有する磁気転写用マスターディスク、その磁気転写用パターンの描画方法及びその磁気転写パターンが転写された磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative tone development, which reduces line edge roughness, enhances in-plane uniformity of a pattern dimension and shows excellent bridge margin, so as to stably form a high precision fine pattern for manufacturing a highly integrated electronic device with high precision, and to provide a method for forming a pattern using the resist composition.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ラインエッジラフネスを低減し、パターン寸法の面内均一性を高め、更にはブリッジマージンに優れたネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

According to the rotating position of the special symbol display unit 30 by the rotator driving motor 144, the appearance of the special symbol display pattern 30 in execution of display by the lighting pattern D1 is made to be identical to the appearance of the special symbol display unit 30 in execution of display by the lighting pattern D2.例文帳に追加

回転体駆動モータ１４４による特図表示部３０の回転位置に応じて、点灯パターンＤ１による表示を実行したときの特図表示部３０の外観と、点灯パターンＤ２による表示を実行したときの特図表示部３０の外観とが同一となるように構成される。 - 特許庁

A test pattern of a semiconductor device includes a conductive pattern 100 disposed on a semiconductor substrate, and the conductive pattern 100 includes a plurality of line regions 100a, which are aligned in parallel and spaced at a uniform interval, and a plurality of connecting regions 100b for connecting the plurality of line regions 100a in a zigzag shape.例文帳に追加

半導体素子のテストパターンは半導体基板上に配置された導電パターン１００を具備して、該導電パターン１００は互いに平行しながら等しい間隔で離隔された複数のライン領域１００ａ及び該複数のライン領域１００ａをジグザグの構造で接続する接続領域１００ｂを含む。 - 特許庁

To synchronously and concurrently carry out work to laminate diffusion layers (second pattern 5) on a catalyst layer (first pattern 4) formed at a continuously sent electrolyte membrane of a web shape, and work to cut out a membrane electrode junction (joining pattern 1) formed by lamination, and improve the productivity of the membrane electrode junction 1.例文帳に追加

連続的に送られるウエブ状の電解質膜に形成された触媒層（第１パターン４）に拡散層（第２パターン５）を積層する作業と、積層によって形成された膜電極接合体（接合パターン１）を切り出す作業とを、同期して同時に行えるようにし、膜電極接合体１の生産性を向上させる。 - 特許庁

The judging part 20 judges whether or not the graphic plotting instruction is to form a gradation pattern where a graphic pattern is arranged along a prescribed arrangement axis, and when the gradation pattern is formed, a gradation processing part 24 converts the plotting instruction so as to make plotting processing efficient.例文帳に追加

そして、図形パターン判定部２０において、その図形描画命令が、所定の配列軸に沿って図形パターンが配列されたグラデーションパターンを構成するものかどうかを判定し、グラデーションパターンを構成していれば、グラデーション処理部２４において、描画処理が効率化されるように描画命令を変換する。 - 特許庁

To provide a game machine having a structure that simultaneously performs a first special pattern variation display and a second special pattern variation display, capable of granting a game status advantageous to a player, and having a small hit of the second special pattern occurring frequently in a specific game status uncounted by an external device.例文帳に追加

第１特別図柄の変動表示と第２特別図柄の変動表示とを同時に行う構成とし、遊技者に対して有利な遊技状態を付与することができ、さらには特定の遊技状態において頻発する第２特別図柄の小当たりが外部装置によってカウントされないようにする。 - 特許庁

The method of manufacturing the multi-resistance film touch screen includes a metal wiring pattern forming process for forming a metal wiring pattern in at least one active area cell formed in a transparent conductive film, and for forming a part of the metal wiring pattern by a photolithographic method and the rest by a screen-printing method.例文帳に追加

このマルチ抵抗膜タッチスクリーンの製造方法は、透明伝導性膜に形成される少なくとも１つの活性領域セルに金属配線パターンを形成し、該金属配線パターンの一部はフォトリソグラフィ法、残りはスクリーン印刷法を用いて形成する金属配線パターン形成工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

When forming the resist pattern 66, the copying machine 100 sets a width P and interval L in a transportation direction of the resist pattern 66 so that the resist pattern 66 of at least one color does not exist simultaneously on all of contact regions with a plurality of photoreceptors 1 lying on the transportation belt 7.例文帳に追加

そして，複写機１００は，レジストパターン６６を形成する際，少なくとも１色のレジストパターン６６については，搬送ベルト７上に複数ある感光体１との接触領域の全てに同時に存在することがないように，レジストパターン６６の搬送方向の幅Ｐおよび間隔Ｌを設定する。 - 特許庁

Accordingly, the method of manufacturing the multi-resistance film screen forms the metal wiring pattern by photolithography method and screen printing method and then provides the metal wiring pattern for markedly attaining the micro pattern with reduced wiring resistance, resulting in manufacturing of the high-resolution multi-resistance film touch screen.例文帳に追加

これによれば、マルチ抵抗膜スクリーンの製造において金属配線パターンをフォトリソグラフィ法及びスクリーン印刷法を用いて形成することによって、微細パターンが実現され且つ配線抵抗を顕著に減少させた金属配線パターンを提供し、高解像度のマルチ抵抗膜タッチスクリーンを製造することができる。 - 特許庁

A control circuit package 6 as the circuit module is provided with: two conductive circuit pattern parts 22a and 22b which are provided so as to space; a resistance 30 in which the two circuit pattern part 22a and 22b are connected to each other; a resin sealing body 19 in which the two circuit pattern parts 22a and 22b and the resistance 30 are buried.例文帳に追加

回路モジュールとしての制御回路パッケージ６は互いの間隔をあけて設けられた導電性の二つの回路パターン部２２ａ，２２ｂと二つの回路パターン部２２ａ，２２ｂ同士を接続した抵抗３０と二つの回路パターン部２２ａ，２２ｂと抵抗３０を埋設した樹脂封止体１９を備えている。 - 特許庁

When a selection pattern is determined from two or more kinds of selection patterns, a main control part generates authentication data on the basis of the predetermined data of a data group indicated by the selection pattern, generates the dummy data of the authentication data on the basis of the number of times of transmission corresponding to the selection pattern, and transmits the authentication data and the dummy data to a peripheral part.例文帳に追加

主制御部は、複数種類の選択パターンの中から選択パターンを決定すると、該選択パターンが示すデータ群の所定データに基づいて認証データを生成し、該選択パターンに対応した送信回数に基づいて認証データのダミーデータを生成し、認証データ及びダミーデータを周辺部に送信する。 - 特許庁

A main pattern 1A, resolution improving SRAFs (Sub-Resolution Assist Feature) 2A and 2B for improving the resolution of a pattern on the substrate obtained by a lithography process for transferring the main pattern 1A onto the substrate, and transfer suppressing SRAFs 3A to 3D for suppressing transferability of the resolution improving SRAFs 2A and 2B onto the substrate by the lithography process are disposed.例文帳に追加

主パターン１Ａと、主パターン１Ａを基板上に転写するリソグラフィプロセスにより得られる基板上パターンの解像度を向上させる解像度向上ＳＲＡＦ２Ａ，２Ｂと、リソグラフィプロセスによる解像度向上ＳＲＡＦ２Ａ，２Ｂの基板上への転写性を抑制する転写抑制ＳＲＡＦ３Ａ〜３Ｄと、を配置する。 - 特許庁

During the execution, the varied counter values pertaining to the variation pattern selected during the execution are replaced with the varied counter values pertaining to the variation pattern already stored in a reserved ball housing area to preferentially store the varied counter values pertaining to the variation pattern higher in the order of preference into the reserved ball housing area.例文帳に追加

その実行中においては、実行中に選ばれた変動パターンに関する各種カウンタ値と、すでに保留球格納エリアに記憶された変動パターンに関する各種カウンタ値とを入換えることで、優先順位の高い変動パターンに関する各種カウンタ値を優先的に保留球格納エリアに記憶していく。 - 特許庁

The server device stores a resource class database showing a correspondence relation between each software resource and a resource class showing the class of the software resource, and an authentication pattern database showing a correspondence relation between an authentication pattern and the resource class, and the authentication device stores an authentic method database showing a correspondence relation between an authentication pattern and an authentic method.例文帳に追加

サーバ装置に、ソフトウェアリソースとソフトウェアリソースの分類を表すリソースクラスとの対応関係を表すリソースクラスデータベースと、認証パターンとリソースクラスとの対応関係を表す認証パターンデータベースとが記憶され、認証装置に、認証パターンと認証方式との対応関係を表す認証方式データベースが記憶されている。 - 特許庁

The conductive member for the contactless type data carrier is constituted by laminating a peeling layer 5 on a base material 4, laminating an adhesive layer 6 formed in a specified pattern on the peeling layer 5, and laminating a conductive layer 7 formed of metal foil in nearly the same pattern as the pattern on the adhesive layer 6.例文帳に追加

本願の非接触型データキャリア用導電部材は、基材４上に剥離層５を積層し、前記剥離層５の上に所定のパターンで形成された粘着層６を積層し、前記粘着層６の上に前記パターンと略同一パターンの金属箔からなる導電層７を積層している。 - 特許庁

By using an exposure mask having a transfer pattern narrower than a limit value of photolithography and having a part of a slit connected thereto, first and second patterns and a third pattern are formed, wherein the third pattern connects the first and second patterns to each other and is smaller in thickness than the first and second patterns.例文帳に追加

フォトリソグラフィの限界値よりも狭く、かつスリットの一部が接続されている転写パターンを有する露光マスクを用ることにより、第１および第２のパターンと、第１および第２のパターンを接続し、かつ第１および第２のパターンより膜厚が薄い第３のパターンとをレジスト層に形成する。 - 特許庁

Around the antenna pattern 24 on the other side of the multilayer substrate 2, a first interdigital electrode 31 consisting of a metal film and connected electrically with the antenna pattern 24, and a second interdigital electrode 41 connected electrically with the ground pattern through a first through-hole 28 formed in the multilayer substrate 2 are formed.例文帳に追加

多層基板２の他方の面におけるアンテナパターン２４の周囲には、アンテナパターン２４に対して電気的に接続された金属膜からなる第一櫛形電極３１と、多層基板２に形成された第一スルーホール２８を介してグラウンドパターンに対して電気的に接続された第二櫛形電極４１とが形成されている。 - 特許庁