patternを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 50000件
In a formation process of an absorption layer pattern of the method of manufacturing the laminated feedthrough capacitor 1, precursors of a step absorption layer 22 for grounding and a step absorption layer 24 for grounding are formed on an electrode pattern 43 for grounding, and a precursor of a step absorption layer 32 for grounding is formed on an electrode pattern 44 for grounding.例文帳に追加
積層貫通コンデンサ1の製造方法では、吸収層パターンの形成工程において、接地用電極パターン43上に接地用段差吸収層22及び接地用段差吸収層24の前駆体を形成し、また、接地用電極パターン44上に接地用段差吸収層32の前駆体を形成する。 - 特許庁
In the method for imparting specific image information about a recording image to the recording image, the specific image information is formed of a pattern group 10 consisting of a plurality of patterns (11a-11d), and the pattern has directional information (Z1-Z3) indicating the direction where a pattern to be read out next exists.例文帳に追加
記録画像上に記録画像に関する特定画像情報を付与する方法で、特定画像情報は複数のパターン(11a〜11d)からなるパターン群10で形成され、パターンは次に読取るパターンが存在する方向を示す方向情報(Z1〜Z3)を有していることを特徴とする。 - 特許庁
The pattern detection method includes a suppression procedure (S12) for suppressing inconsistency in an image magnification factor between a component of a circumference direction and a component of a radius direction in each position of the image imaged by the optical system, and a pattern detection procedure (S13) for detecting the specific pattern from the above image after the suppression.例文帳に追加
本発明のパターン検出方法は、光学系で撮影した画像の各位置における像倍率の周方向成分と径方向成分との不一致を抑制する抑制手順(S12)と、前記抑制後の前記画像から特定パターンを検出するパターン検出手順(S13)とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a die machining method by which a fine pattern can be formed on the surface of a desired shape with high accuracy in an easy production process without limiting the size of the fine pattern while avoiding complexity of the die production process in a method of producing the die for molding a molded article having the fine pattern.例文帳に追加
微細パターンを有する成形品を成形するための金型の製造方法について、その製作工程の煩雑化を避け、微細パターンのサイズが制限されないで、所望形状の表面に微細パターンを容易な製作工程で高精度に形成できるように、金型加工方法を工夫すること。 - 特許庁
In the molding die for manufacturing the molded object with the fine uneven pattern formed on at least one surface by injection molding, the bottom surface part 15 of a recessed part 12 of the fine uneven pattern 10 of the movable half surface corresponding to the fine uneven pattern of the molded object, is laminar with pores.例文帳に追加
少なくとも1つの面に微細な凹凸によるパターンを有する成形品を射出成形により製造するための成形用金型において、前記成形品の微細な凹凸パターンに対応する可動金型面の微細な凹凸パターン10の凹部分12の底面部15が気孔を有する層となっている。 - 特許庁
To provide method of manufacturing a phosphor pattern which has no phosphor being removed by the development in photo processing, which embedment property of a substrate having unevenness surface into space is excellent and which can form an uniform shape of phosphor pattern in high precision, and to provide element for forming the phosphor pattern having good workability and environment safety.例文帳に追加
フォトプロセス等において現像等により除去される蛍光体を無くし、凹凸を有する基板の空間への埋め込み性が優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パターンを形成できる蛍光体パターンの製造法、作業性、環境安全性のよい蛍光体パターン形成用エレメントを提供する。 - 特許庁
In a wiring pattern M112 having a bent part having locally different line width in a line system, the layout is divided into a rectangle pattern M114 having a large area and a node part M113 connecting the rectangle pattern, and M113 and M114 are separated by a slit S113 of ≤0.22×λ/NA dimension.例文帳に追加
ライン系で局所的に線幅が異なる屈曲した部位を有する配線パターンM112において、当該レイアウトを大面積のレクトアングルパターンM114とそれらを接続するノード部M113に分割し、M113とM114とを0.22×λ/NA以下の寸法範囲内S113で分離する。 - 特許庁
To provide a photosensitive paste capable of ensuring a long paste stabilization period (in which the paste is kept in a usable state without gelling), a thick film pattern forming method using the photosensitive paste, and a method for producing an electronic component including a step of forming a thick film pattern by the thick film pattern forming method.例文帳に追加
長いペースト安定期間(ゲル化せず使用可能な状態が保たれる期間)を確保することが可能な感光性ペースト、該感光性ペーストを用いた厚膜パターンの形成方法、および、該厚膜パターンの形成方法により厚膜パターンを形成する工程を備えた電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a trial article whereon a demanded minute roughness pattern is easily formed in a short preparation period for demands for diversified minute roughness patterns, and to provide, based on this trial article, the trial article with the minute roughness pattern which enables an exact evaluation of a design including the minute roughness pattern, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加
多様化した微細凹凸模様の要求に対して、簡易に短い作製期間で、要求された微細凹凸模様が形成された試作品を提供し、この試作品により、微細凹凸模様を含めた設計を正確に評価することができる微細凹凸模様付試作品及びその製作方法を提供する。 - 特許庁
To provide a totally new cosmetic with a colored pattern, in which a solid cosmetic and a liquid cosmetic form a marble tone color pattern, and by using with selecting a specific color in the colored pattern, it is possible to make up with a delicate tint without soiling the other color parts, and a method for producing the same.例文帳に追加
固形化粧料と液状化粧料とがマーブル調の色模様を形成しており、その色模様の中から特定の色を選択して使用すれば、他の色の部分を汚すことなく微妙な色合いの化粧を施すことができる、全く新しい色模様付化粧料とその製法を提供する。 - 特許庁
These three patterns are composed of one reference pattern (a pattern by contact areas 13b to 17b), and, with this being a reference (axis of symmetry), pattern pairs having a mutually symmetrical (line symmetry) relation, that is, patterns by contact areas 13a to 17a and 13c to 17c.例文帳に追加
これら3つの同一パターンは、1つの基準パターン(コンタクト領域13b〜17bによるパターン)と、これを基準(対称軸)にして互いに対称(線対称)な関係をもつパターン対、すなわちコンタクト領域13a〜17aによるパターンとコンタクト領域13c〜17cによるパターンとによって構成されている。 - 特許庁
A similar pattern applying means 103 has the function of forming customer evaluation data 108 on the whole customers by using the similar pattern data recorded on the similar pattern recording means 102, and data 107 on a purchase history on customers other than the sampling customers among the plurality of customers becoming the population.例文帳に追加
類推パターン適用手段103は、該類推パターン記録手段102に記録された類推パターンデータと、母集団となる複数の顧客のうちサンプリング顧客以外の顧客に関する購買履歴に関するデータ107とを用いて、全顧客に関する顧客評価データ108を生成する機能を有する。 - 特許庁
After a first insulating film pattern having a first contact hole is formed, a contact plug for a lower electrode is formed in the contact hole and a second insulating film having a second etching ratio higher than a first etching ratio of the first insulating film pattern is formed on the first insulating film pattern and the contact plug.例文帳に追加
第1コンタクトホールを有する第1絶縁膜パターンを形成した後、前記コンタクトホール内に下部電極用コンタクトプラグを形成し、前記第1絶縁膜パターン及び前記コンタクトプラグ上に前記第1絶縁膜パターンの第1食刻比より高い第2食刻比を有する第2絶縁膜を形成する。 - 特許庁
This inspection device 10 for a printed wiring board for inspecting the conductor pattern formed on an insulated substrate surface is provided with a computing part 14 for regenerating a mask film preparing data, based on an actual dimension data of the conductor pattern, and based on the mask film preparing data used when forming the conductor pattern.例文帳に追加
絶縁基板表面に形成された導体パターンを検査するプリント配線板の検査装置10であって、前記導体パターンの実測寸法データと、該導体パターンを形成した際に用いたマスクフィルム作製データとに基づいて、該マスクフィルム作製データを再生成する演算部14を備えている。 - 特許庁
While forming a secondary coil pattern 14 in the semiconductor substrate 11, a primary coil pattern 18 is formed in the one side of a glass substrate 17, a glass substrate 17 in which the primary coil pattern 18 is formed in its one side is adhered on the semiconductor substrate 11 by an adhesive layer 16 through another side of the glass substrate 17.例文帳に追加
2次コイルパターン14を半導体基板11に形成するとともに、1次コイルパターン18をガラス基板17の一方の面に形成し、1次コイルパターン18が一方の面に形成されたガラス基板17を、ガラス基板17の他方の面を介して粘着層16にて半導体基板11上に固着する。 - 特許庁
In a mask layout having aperture patterns continuously and discretely disposed, a device pattern having a chevron pattern selectively having a large aperture part can be formed with high controlling property by specifying the pattern pitch P to satisfy 0.69λ/NA≤P≤0.85λ/NA, wherein λ is the exposure light wavelength and NA is the numerical aperture of a projection lens.例文帳に追加
開口パターンを連続的に離散配置したマスクレイアウトにおいて、パターンピッチPを0.69λ/NA≦P≦0.85λ/NA(ここで、λは露光光波長、NAは投影レンズの開口数)とすることで、選択的に大開口部を有するシェブロンパターンを有するデバイスパターンを制御性よく形成することができる。 - 特許庁
The image forming apparatus, which forms an image on a recording medium by adding a specific pattern to inputted image data, comprises: a mask generation section which generates a mask region wherein addition of the specific pattern is inhibited; and a control section which performs image formation upon the mask region so as to inhibit the addition of the specific pattern.例文帳に追加
入力された画像データに特定パターンを付加して記録媒体上に画像形成を行う画像形成装置において、特定パターンの付加を禁止するマスク領域を生成するマスク生成部と、マスク領域に特定パターンの付加を禁止するよう画像形成を行う制御部と、を有する。 - 特許庁
The positions of base patterns formed on a substrate are detected, pattern data on patterns to be formed on the substrate are corrected on the basis of information on the positions of the base patterns, mask patterns based on the corrected pattern data are displayed in a liquid crystal panel and pattern formation is carried out by lithography using this liquid crystal panel as a mask.例文帳に追加
基板上に形成された下地パターンの位置を検出し、下地パターンの位置情報に基づいて基板上に形成すべきパターンのパターンデータを補正し、液晶パネルに補正パターンデータに基づくマスクパターンを表示し、この液晶パネルをマスクに用いてリソグラフィーによりパターン形成を行う。 - 特許庁
On one side surface of transparent base 1, a mesh pattern 4 (or 2) including a light-shielding pattern 7 (or 5) of black stripe and a conductive thin film having electromagnetic wave shielding function is formed and, on the other side surface, a display electrode 15 of a mesh pattern made of conductive thin film is formed.例文帳に追加
透明基材1の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターン7(または5)と電磁波シールド機能を有する導電性薄膜からなるメッシュパターン4(または2)とが形成されるとともに、透明基材1の他方の面に、導電性薄膜からなるメッシュパターンの表示電極15が形成されてなる。 - 特許庁
To inspect the uneven flaw on a wafer having a non-repeating pattern accurately and effectively by removing the mixing of reflected light from the pattern corner or the like in a die having no repeating pattern with desired signal light or the generation of ringing noise or speckle noise, in a visual examination device utilizing an image forming optical system using a laser.例文帳に追加
繰り返しパターンを持たないダイ中のパターンコーナ等からの反射光の所望の信号光への混入や、レーザを用いた結像光学系利用の検査装置ではリンギングノイズやスペックルノイズの発生を除き、非繰り返しパターンを持つウェーハ上の凹凸性欠陥を精度良く、また有効に検査できるようにする。 - 特許庁
The conductive pattern formation ink is used for forming a conductive pattern on a base member using a liquid droplet ejecting method, and comprises a dispersion liquid prepared by dispersing metal particles in a water-based dispersion medium, and a drying suppressant in the dispersion liquid, the drying suppressant suppressing drying of the conductive pattern formation ink.例文帳に追加
本発明の導体パターン形成用インクは、液滴吐出法により、基材上に導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、金属粒子を水系分散媒に分散してなる分散液中に、導体パターン形成用インクの乾燥を抑制する乾燥抑制剤が含まれることを特徴とする。 - 特許庁
The pole type antenna system includes a cylinder formed by cylindrically rolling up a flexible insulating film member (20); an antenna pattern, comprising four conductors (21 to 24), formed on an inner circumferential face (20-1) of the cylinder; and a phase shifter pattern (25), formed on the inner circumferential face (20-1) of the cylinder and electrically connected to the antenna pattern.例文帳に追加
ポール型アンテナ装置は、可撓性の絶縁フィルム部材(20)を筒状に丸めて形成された筒体と、この筒体の内周面(20−1)に形成された4本の導体(21〜24)から成るアンテナパターンと、筒体の内周面(20−1)に、アンテナパターンと電気的に接続されて形成されたフェーズシフタパターン(25)とを有する。 - 特許庁
Thus, on condition that the variable display control of the special pattern is in a holding state, a long time lag is not generated before starting the next special pattern variable display at the special pattern display device 121a after the lapse of the auxiliary game execution time, and the decline of the savor of the game is suppressed.例文帳に追加
従って、特別図柄の変動表示制御が保留の状態にあることを条件に、補助遊技実行時間の経過後、特別図柄表示装置121aにて次回の特別図柄の変動表示を開始するまでに長いタイムラグが発生することがなく、遊技の興趣の低下を抑制することができる。 - 特許庁
In accordance with a difference between the size of an actual pattern obtained by processing under an exposure condition reduced in the change of the pattern size even when the focus of light in exposure is changed or a pivotal point, and a mask pattern size or a pivotal shift, a switching picture for switching whether a substrate processing condition is set or not is indicated to operate the processing device.例文帳に追加
露光での光の焦点が変化してもパターン寸法の変化が少ない露光条件であるピボタルポイントで処理されて得られた実際のパターン寸法と、マスクパターン寸法との差分であるピボタルシフトに応じて、基板処理条件を設定するか否かを切り換える切換画面を表示して操作する。 - 特許庁
In this method, the step to create pattern presence data for every nozzle width of the powder spray 33 correspondingly with a position for the movement of the printed matter 40 based on plate cylinder pattern information and the step to control injection timing for each nozzle 33a based on the pattern presence data and the position for the movement of the printed matter 40 per each nozzle 33a, are provided.例文帳に追加
刷版絵柄情報に基づいて、パウダースプレー33の各ノズル幅毎の絵柄有無データを印刷物40の移動位置に対応して作成するステップと、各ノズル33aについての絵柄有無データと印刷物40の移動位置とに基づいて、各ノズル33aの噴射タイミングを制御するステップと、を含む。 - 特許庁
For a game state in this game machine, a prize ball number per winning game ball is decided by a prize ball number determining device 44 based on display patterns in a pattern display device 42 such as a special pattern display device 30 or a normal pattern display device 32, and prize balls are put out from a prize ball put-out device 46.例文帳に追加
遊技機の遊技状態を特別図柄表示装置30または普通図柄表示装置32などの図柄表示装置42の表示図柄に基づいて、賞球個数決定装置44により1個の遊技球入賞当りの賞球個数を異なる個数に決定して賞球払出装置46から遊技者に払い出す。 - 特許庁
In the case that a start storage number displayed in a special pattern start storage number display device 8 is the prescribed one, the pattern reproduction process of stopping and holding a part of patterns and varying, establishing and displaying only the other patterns is executed in the pattern variation process of the next time at all times or in the case that an additional condition is satisfied.例文帳に追加
特別図柄始動記憶数表示装置8で表示される始動記憶数が所定の場合に、常に又は付加条件が具備した場合に、次回の図柄変動行程で、一部の図柄を停止保持し、それ以外の図柄のみを変動して確定表示する図柄再生行程を実行するようにした。 - 特許庁
The authentication device includes a reconfiguration means for reconfiguring the pattern that is characteristic of a living body on the basis of position information representing a plurality of points and coupling information representing the coupled state of the points to be registered in a storing means, and a collating means for collating the pattern to be reconfigured by the reconfiguration means with a pattern to be collated with.例文帳に追加
記憶手段に登録される、複数の点を表す位置情報及び当該点の連結状態を表す連結情報に基づいて、生体固有のパターンを再構成する再構成手段と、上記再構成手段により再構成されるパターンと、照合すべきパターンとを照合する照合手段とを有する。 - 特許庁
An electrode pattern 3b containing a barcode pattern 3b is formed on a surface of the semiconductor laser chip 1, and at the same time the barcode pattern 3b is formed in a region, where wire bond at the time of mounting the semiconductor laser chip 1 is not affected thereby, and is formed at a position nearer to the face 21 opposite to the main emission face 20 of the laser.例文帳に追加
半導体レーザチップ1の表面にバーコードパターン3bを含む電極パターン3bが形成されるとともに、このバーコードパターン3bは、半導体レーザチップ1を実装する際のワイヤーボンドに影響を与えない領域で、かつ、レーザの主出射面20とは反対側の面21寄りに形成される。 - 特許庁
Responding to the number of reserved balls related to a first start pocket 13 and the number of reserved balls related to a second start pocket 14 memorized in a special symbol reservation memorizing means 42, one variable pattern table is selected from variable pattern tables 43 for a special symbol by a variable pattern table selection means 37.例文帳に追加
特別図柄保留記憶手段42に記憶されている第1始動口13に係る保留球の個数と、第2始動口14に係る保留球の個数に応じて、変動パターンテーブル選択手段37により特別図柄用変動パターンテーブル43の中から何れか一つの変動パターンテーブルを選択する。 - 特許庁
When detecting the pattern, a first photographic video image A resulting from superimposing the test pattern on an input video image, a second photographic video image B resulting from inverting black and white luminance levels of only the test pattern in the video image A and a third photographic video image B' resulting from inverting black and white luminance levels of the video image B are stored in a storage part.例文帳に追加
そのパターンの検出にあたっては、入力映像にテストパターンを重畳した第1の撮影映像Aと、その映像Aにおいてテストパターンのみの輝度レベルを白黒反転させた第2の撮影映像Bと、この映像Bの輝度レベルを白黒反転させた第3の撮影映像B´とを記憶部に記憶させる。 - 特許庁
A performance pattern selection part 310 of a performance control part 202 increases a ratio to select a high expectation-degree performance pattern when a prescribed condition that the number of held balls is equal to or smaller than a fixed number is set, in comparison with a case that the prescribed condition is not set, and selects a performance pattern.例文帳に追加
演出制御部202の演出パターン選択部310は、保留球数が一定数以下であるといった予め定めた所定の条件が設定されている場合、所定の条件が設定されていない場合に比べて、高期待度演出パターンを選択する割合を高くして、演出パターンを選択する。 - 特許庁
This machining apparatus comprises a restricting positioning unit 27 capable of clamping, moving and positioning the board 11 with the pattern, a positioning controller for positioning the board 11 based on a mark M, a unit for fixing the positioned board 1 with the pattern, and cutters 45, 46 for cutting two vertically-intersecting sides of the fixed board 11 along with the pattern.例文帳に追加
柄付きボード11をクランプして移動しかつ位置決め可能な拘束位置決め装置27と、柄付きボード11をマークMに基づいて位置決めする位置決め制御器と、位置決めした柄付きボード11の固定装置と、固定した柄付きボード11の直交する二辺を柄に沿って切断する切断装置45,46とを備える。 - 特許庁
A non-contact IC card reader is added to the intravenous pattern authenticating device, the registered number of the intravenous pattern is input by using a non-contact IC card, and intravenous pattern data is stored in the non-contact IC card, to construct an off-line system without using the host computer.例文帳に追加
静脈パタ−ン認証装置に非接触ICカ−ド読取り装置を付設し、静脈パタ−ンの登録番号の入力を非接触ICカ−ドを用いて行い、さらに静脈パタ−ンデ−タを非接触ICカ−ドにメモリ−させることによりホストコンピュ−タ−を用いることなく、オフラインシステムの構築が可能となる。 - 特許庁
A GND layer 14 nearest a forming layer of a wiring pattern 16 is cut off along with the formation route lower portion of the wiring pattern B (a cut-off portion extends the layer of a prepreg 15), a signal layer 12 left one more away is cut off along with the formation route lower portion of the wiring pattern 16, and a GND layer 17 is formed in this portion.例文帳に追加
配線パターン16の形成層に一番近いGND層14を、配線パターンBの形成経路下部に沿って切り取り(切り取った部分はプリプレグ15の層を拡張する)、もう一つ離れた信号層12を、配線パターン16の形成経路下部に沿って切り取り、この部分にGND層17を設ける。 - 特許庁
The winning flag formation of a winning pattern (61) is informed to a player when two conditions of a stop of the specified pattern (61) of a rotary reel (40) at a specified stop position by a stop pattern information control means (170) and the generation of a special direction by a special direction informing means (120) are satisfied.例文帳に追加
停止図柄報知制御手段(170)による回転リール(40)の特定図柄(61)の特定の停止位置での停止と、特殊演出報知手段(120)による特殊演出の発生との二つの条件を満足することにより、入賞図柄(61)の入賞フラグ成立を遊技者に向かって報知することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a pattern forming material effective in manufacture of a printed wiring board, capable of realizing high resolution by thinning of a layer, and capable of forming a tent film less liable to tear, and to provide a pattern forming apparatus and a pattern forming method by which a printed wiring board having a hole part such as a through hole or a via hole can be efficiently manufactured.例文帳に追加
プリント配線板の製造に有効で、薄層化により高解像度化が可能であり、破れにくいテント膜を形成できるパターン形成材料と、スルーホールやビアホールなどのホール部を有するプリント配線板を効率的に製造することができるパターン形成装置及びパターン形成方法とを提供。 - 特許庁
When it is discriminated by the pattern discrimination means that the specified pattern combination is displayed by the pattern display means in a specified state, the display control information selection means selects the display control information for an advantageous state to be used in the advantageous state on the basis of the kind of the switched selection information.例文帳に追加
表示制御情報選択手段は、特定の状態において、特定の図柄組合せが図柄表示手段により表示されたと図柄判別手段により判別されると、切り換えられた選択情報の種別に基づいて有利状態において用いる有利状態用表示制御情報を選択する。 - 特許庁
To provide a pattern roller unit mechanism which is comprised of two working units in the intaglio printing part and in the intaglio inker pat of an intaglio printing machine and especially has two forms of separating means, in one form of which separation is executed conventionally between pattern roller and duct rollers, while in the other form of which separation is executed between a plate cylinder and the pattern rollers.例文帳に追加
凹版印刷機の凹版印刷部及び凹版インカー部における二つの稼動ユニットから成るパターンローラユニット機構であり、特に、一方では、従来のパターンローラとダクトローラとの間で離反し、他方では、版胴とパターンローラとの間で離反する、2形態の分離手段を有するパターンローラユニット機構。 - 特許庁
Thus, variation patterns to be selected can be made to differ between a case where a ball enters a pattern operation port by operation of the player himself/herself and a case where the ball enters the pattern operation port without making releasing operation, thereby the feeling expectation for the variation pattern to be selected to be given to the player can be varied.例文帳に追加
よって、遊技者自らの操作によって図柄作動口へ球が入賞したときと放出操作を行わないで図柄作動口へ球が入賞したときとでは、選定される変動パターンを異ならせることができ、選定される変動パターンに対して遊技者に抱かせる期待感に変化を持たせることができる。 - 特許庁
When a secrecy scramble pattern generating circuit 42 generates a PN pattern (PNSEC) for descrambling, its PN pattern (PNSEC) output is converted into 160-bit parallel data (P_PNSEC), which are fed to the parallel exclusive OR (EXOR) circuit 40, wherein 160 sets of exclusive OR arithmetic circuits calculate the received data in accordance with the bits to carry out descramble processing in parallel.例文帳に追加
スクランブル解除用のPNパターン(PNSEC)が秘話スクランブルパターン発生回路42にて生成されると、そのPNパターン(PNSEC)出力が160ビットパラレルのデータ(P_PNSEC)に変換されて並列排他論理和(EXOR)回路40に供給され、160個の排他的論理和演算回路にて各入力データがビット対応に演算されてデスクランブル処理がパラレルにて行われる。 - 特許庁
A light-shielding film 3 is formed on the photomask to surround, without leaving a space, the region where the light-absorbing layer is disposed by drawing a pattern 2 which generates a three-dimensional distribution of the light intensity and by converting the pattern into black, or the region where the light-absorbing layer having the pattern 2 drawn and converted into black is to be disposed.例文帳に追加
そのフォトマスクの面上に、光遮光膜3が、3次元の光強度分布をもたらすパターン2に描画、黒化された光吸収層が配置されている領域、またはパターン2に描画、黒化された光吸収層が配置されるべき領域を隙間無く取り囲んで設けられている。 - 特許庁
This sot machine A has s start switch 3, a stop switch 4a to 4c, and a pattern display window 10 on the front 2 of the box body and rotary members with pattern lines 17a to 17c comprising the plural patterns which are drawn on the face of the outer perimeter of the box body so as to be seen through the pattern display window.例文帳に追加
スロットマシンAは、筐体の前面2に始動スイッチ3、停止スイッチ4a〜4c及び図柄表示窓10が設けられ、筐体内に外周面に複数の図柄を描いてなる図柄列回転部材17a〜17cが上記図柄表示窓を通して一部見えるように配置されている。 - 特許庁
A character recognition processing means 5 extracts a feature amount from the character image, selects one of the pattern dictionaries 11 and 12 corresponding to the judged printing quality, obtains the distance value of the standard pattern registered in the selected pattern dictionary 11 or 12 and the feature amount and thus selects the candidate character of the character image.例文帳に追加
文字認識処理手段5は、文字画像から特徴量を抽出し、また、判定された印字品質に応じパターン辞書11,12からひとつを選択して、選択したパターン辞書11又は12に登録されている標準パターンと特徴量との距離値を求めることで文字画像の候補文字を選択する。 - 特許庁
When determining a variation pattern in which a first start holding ball is not stored in the prescribed area of a RAM and a second start holding ball is stored in a probability variable state and in a time shortening state, a main CPU determines a specified variation pattern wherein variation time is set long during regular pattern variation.例文帳に追加
メインCPUは、確変状態時及び時短状態時において、RAMの所定領域に第1始動保留球が記憶されていない一方で、第2始動保留球が記憶されている場合に変動パターンを決定する際、普図変動中の場合には、変動時間が長く設定された特定の変動パターンを決定する。 - 特許庁
At a color filter part 24 of the substrate 15, ink drops 23R, 23G, and 23B discharged from the discharge head wet only a pattern area 24a formed of an ink-philic layer 21a and spread to form colored layers 22R, 22G, and 22B in striped pattern corresponding to the shape of the pattern area 24a.例文帳に追加
基板15のうちカラーフィルター部24においては、吐出ヘッド12から吐出されたインク滴23R,23G,23Bが、親インク性層21aからなるパターン領域24a上でのみ濡れ拡がり、パターン領域24aの形状に対応するストライプ状のパターンで各色の着色層22R,22G,22Bが形成される。 - 特許庁
In addition, it is manufactured through a step for forming a photo resist in plane-symmetrical manner to the glass cloth on both surface of the glass cloth, evenly exposing both surface thereof by means of a mask with a specified pattern, developing the photo resist and forming a specified photo resist pattern on both surfaces thereof, and applying electrolytic plating to form a conductor pattern.例文帳に追加
この電子部品は、ガラスクロスの両面にガラスクロス面対称にフォトレジストを形成する工程、所定のパターンのマスクを介してガラスクロスの両面を同じに露光し、現像してガラスクロスの両面に所定のフォトレジストパターンを形成する工程、及電解メッキを施して導体パターンを形成する工程を用いて製造される。 - 特許庁
The mold apparatus comprises molds 10A and 10B, an embossing plate 20 on which an embossing pattern 21 with a specified pattern is formed and an adhesive member 30 for exchangeably sticking the embossing plate 20 on a cavity 11 of the mold 10A and the embossing pattern 21 is formed on the opposite side of the side stuck with the adhesive member 30 of the embossing plate 20.例文帳に追加
金型10A,10Bと、所定模様のシボパターン21が形成されるシボプレート20と、シボプレート20を金型10Aのキャビティ11に取り替え可能に貼着する接着部材30と、から構成し、シボプレート20の接着部材30で貼着する側と反対側にシボパターン21を形成する。 - 特許庁
The inspection pattern 13 is constituted by an aggregate in which each of multiple pieces of a flaw inspection pattern 13a including the length corresponding to a flaw inspection standard, and each of multiple pieces of a flaw inspection pattern 13b including the length corresponding to a dent inspection standard are alternately provided along the edge of the inspection target area.例文帳に追加
検査用パターン13は、傷の検査規格に応じた長さを有する個片状の傷検査用パターン13aと、打痕の検査規格に応じた長さを有する個片状の傷検査用パターン13bとが、検査対象エリアの縁に沿って複数個交互に配置された集合体で構成されている。 - 特許庁
To provide an irregular decorative pattern (embossing) giving technique to a surface of a decorative sheet such as building material and furniture, a method for retouch an embossing size and an aim in tuning an emboss pattern and a design in an emboss hologram pattern giving technique high in designability for preventing forgery, and a continuous embossing machine that can achieve the above.例文帳に追加
建材や家具などの化粧シートの表面への凹凸装飾パターン(エンボス)付与技術、および偽造防止向けの意匠性の高いエンボスホログラムパターン付与技術における、エンボスパターンと絵柄の同調におけるエンボス寸法・見当の修整方法およびそれを実現できる連続エンボス機を提供する。 - 特許庁
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