「process-flow」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

Upon occurrence of an error during execution of a job flow including a plurality of processes, a multifunction device 1001 adds an electronic signature to image data processed in an executed process and stores the image data with electronic signature in a box.例文帳に追加

複数の工程を含むジョブフローを実行している最中にエラーが発生すると、複合機１００１は、実行済みの工程で処理された画像データに電子署名を付加し、電子署名を付加した画像データをボックスに保存する。 - 特許庁

In an ionizing process (steps S5 to S7), when a second voltage higher than the first voltage is applied as a cleaning solution is kept flowing, the metal at the electrode is oxidized to turn to metal ions again, so that the metal released from the electrode can be made to flow out.例文帳に追加

イオン化過程（ステップＳ５〜Ｓ７）では、洗浄液を流通させつつ第１電圧より高い第２電圧を印加すると、電極の金属が酸化され再びイオンとなり、電極から離脱した金属を流し去ることができる。 - 特許庁

In a rapid cooling process after injecting the molten resin, the heat insulating plates 40a and 40b in the mold are displaced to the flow path forming position and a temperature conditioning medium in a piping 30 for temperature conditioning of the mold is switched to low temperature from high temperature.例文帳に追加

溶融樹脂注入後の急速冷却工程では、金型内断熱板４０ａ、４０ｂを流路形成位置に変位させると共に金型温調配管３０内の温調媒体を高温から低温に切り換える。 - 特許庁

To provide an apparatus for supporting plant operation which can flexibly deal with steady operation and monitoring work for process abnormality, equipment failures or the like, by enabling, addition to a flow chart format description, a logic chart format description.例文帳に追加

フローチャート形式の記述に加えてロジックチャート形式の記述を可能とすることにより、定常運転並びにプロセス異常、機器故障などの監視作業に柔軟に対応しできるプラント運転支援装置を提供する。 - 特許庁

To provide a program execution method and programming environment for an inspection device, allowing intelligible expression of a flow of processing in an inspection process and contents of inspection to an individual inspection target, and allowing easy execution and editing.例文帳に追加

検査工程の処理の流れと、個々の検査対象に対する検査の内容をわかりやすく表現し、容易に実行及び編集することが可能な検査装置のプログラム実行方式及びプログラミング環境を提供する。 - 特許庁

To provide a porous immersion nozzle by which a high speed casting process can be performed and the defects due to bubbles and inclusions are suppressed by making the flow of molten steel in a casting mold slow and uniform, and further to provide a continuous casting method using the same.例文帳に追加

鋳型内の溶鋼の流れを緩慢にし、かつ均一な流れを形成して、気泡や介在物による欠陥を防止して高速鋳造を可能にする多孔浸漬ノズル及びこれを用いた連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional memory architecture that may be fabricated using a process flow that is modified relatively a little from the one used to fabricate more familiar two-dimensional memory architecture and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

より良く知られている２次元メモリ構造の製造のために用いられる処理フローから比較的小さく修正された処理フローを用いて製造され得る３次元メモリ構造およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus that can accurately detect the fluctuation of minute amount of gas flow and the fluctuation of pressure by a relatively low-cost method and without being dependent upon the process conditions, and to provide a method for plasma processing.例文帳に追加

比較的安価な方法で且つプロセス条件に依存せずに微小なガス流量の変動や圧力変動を確実に検出することができるプラズマ処理装置、その異常検出方法及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To prevent degradation of a heat exchanging capacity caused by the presence of an area of low heat flow rate in a heat exchanger disposed in an air conditioner, in the air conditioner where a refrigerant, of which a temperature is changed in a radiating process, flows.例文帳に追加

放熱行程で温度変化をする冷媒が流れる空気調和装置において、空気調和装置に設けられた熱交換器に熱流束の低い領域が構成されることによる熱交換能力の低下を抑制する。 - 特許庁

To provide a foaming/filling tool for a hollow structure constituted so as to smooth the flow of a foaming fluid material in a process wherein a foamable base material is foamed to become a foam to prevent the cut-off failure of the hollow structure.例文帳に追加

発泡性基材が発泡し発泡体となる過程において、その発泡流動体の流れを円滑化して、中空構造物の遮断不良を防止することができる中空構造物の発泡充填具を提供する。 - 特許庁

A part of blow water being discharged to the outside of a system is recirculated to the inlet of an economizer by starting a boiler recirculation pump 23 in the way of a blowing process thus increasing the flow rate of blow water passing through the economizer and a furnace path.例文帳に追加

ブロー工程途中でボイラ再循環ポンプ２３を起動することにより、系外へ排出するブロー水の一部を節炭器入口へ再循環させ、ブロー水の節炭器及び火炉パス通過流量を増加させる。 - 特許庁

After a connector (11) as an electronic component is screwed to a printed circuit board (10) with a part of screws (12b) among three screws (12a, 12b, 12c), the connector (11) and screw (12b) are soldered with the flow-soldering process (processes (a) to (b)) to the printed circuit board (10).例文帳に追加

３本のねじ（１２ａ，１２ｂ，１２ｃ）のうち、一部のねじ（１２ｂ）で電子部品たるコネクタ（１１）をプリント基板（１０）にねじ止めした後、プリント基板（１０）にコネクタ（１１）とねじ（１２ｂ）をフロー半田付けする（工程（ａ）から（ｂ））。 - 特許庁

The pressure in the processing chamber is reduced, the flow of a process gas is started in the processing chamber, the impedance of an RF system including an electrode is controlled to match desired impedance, and uniformly dense plasma of ions is provided.例文帳に追加

処理チャンバ内の圧力は低減され、処理ガスのフローが処理チャンバに開始され、電極を含むＲＦシステムのインピーダンスを所望のインピーダンスに整合するよう制御され、イオンの均一な密度のプラズマが提供される。 - 特許庁

To fully supply a solder material to a through-hole formed in a substrate by a spray-type flux applying method in a flow soldering process for mounting electronic components on the substrate, using the solder material.例文帳に追加

はんだ材料を用いて電子部品を基板に実装するためのフローはんだ付けプロセスにおけるスプレー式フラックス塗布方法において、基板に形成されたスルーホールにはんだ材料が十分に供給されることを可能にする。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device including a process for dry etching a silicon nitride film, a mixed gas obtained by doping methanol gas with a prescribed density for a total gas flow rate to fluorocarbon gas is used for the dry etching of a silicon nitride film 15.例文帳に追加

シリコン窒化膜をドライエッチングする工程を含む半導体装置の製造方法において、シリコン窒化膜１５のドライエッチングに、フロロカーボンガスと、総ガス流量に対し所定の濃度のメタノールガスとを添加した混合ガスを用いる。 - 特許庁

The future predicted amount of revenue/expenditure is calculated through a predictive calculating process 4 by multiplying a "revenue amount/expenditure amount" in an actual result record read out of a cash flow information database 2 by a "scheduled increase rate".例文帳に追加

予測算出処理４の実行によって資金繰り情報データベース２から読み出された実績レコード内の「収入金額／支出金額」に「予定伸び率」を乗じることによって将来の予測収入／支出金額が算出される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element which can planarize a device region, without the further addition of processes to a conventional STI formation process flow, and to provide a photomask which is used for the manufacturing method.例文帳に追加

従来のＳＴＩ形成工程フローに対して新たな工程を追加することなく、デバイス領域の平坦化を図ることが可能な半導体素子の製造方法、およびその製造方法に用いられるフォトマスクを提供する。 - 特許庁

The method includes a stage of processing each of the secondary management data packets through one or more queues in the scheduler used to process a user service flow in an Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)802.16 system.例文帳に追加

当該方法は、電気電子技術者協会（ＩＥＥＥ）８０２．１６システムでユーザー・サービス・フローを処理するために使用されるスケジューラー内の１つ以上のキューを通じて各２次管理データ・パケットを処理する段階、を有する。 - 特許庁

To provide a job shop type production line sharing the same manufacturing device in a plurality of processes and capable of controlling a flow rate between the processes, a process management method of the job shop type production line and a manufacturing method of products.例文帳に追加

複数の工程で同一の製造装置を共有するジョブショップ型製造ラインであって、工程間の流量比率を制御可能なジョブショップ型製造ライン、その工程管理方法、及び製品の製造方法を提供する。 - 特許庁

A transfer policy is disposed at every flow label of a capsule conversion IP frame which is received as transfer propriety information and forwarding information is obtained from the first forwarding DB 55 in a forwarding process 57 concerning the first one frame of the capsule conversion IP frame 57.例文帳に追加

転送ポリシーを、転送可否情報として受信するカプセル化ＩＰフレームのフローラベルごとに設け、カプセル化ＩＰフレームの１フレーム目について、フォワーディングプロセス５７で第１のフォワーディングＤＢ５５からフォワーディング情報を得る。 - 特許庁

In a process of forming the electrode layer 120, by the contact of a closed face 242A of the shutoff member 242 with the upper wall face 222A of the ejecting hole 222 in the retaining groove 241, shut off is made between the flow passage 221 and the ejecting hole 222.例文帳に追加

電極層１２０を形成する工程では、保持溝２４１内で遮断部材２４２の閉鎖面２４２Ａを吐出孔２２２の上壁面２２２Ａに接触させて流路２２１と吐出孔２２２との間を遮断する。 - 特許庁

The generation amounts of hydrogen and oxygen can be controlled to be H_2:O_2=2:1 by positively utilizing the excess and deficiency of circulation substances, generated in a reaction device system, and mainly using the flow rate and the level of liquid which are easily treated as a chemical process.例文帳に追加

反応装置系内に生じる循環物質の過不足を積極的に利用し、化学プロセスとして扱いが容易な流量、液位を主として用いて水素と酸索の発生量をH_2:O_2=2:1に制御可能にした。 - 特許庁

Furthermore, a process model representing a conference flow for each conference type is generated and each of the individual terminals 3a-3c sets a job and a start time at each stage of the conference to generate a conference progress schedule.例文帳に追加

また、会議のタイプ毎に会議の流れを表わすプロセスモデルが形成されており、個別端末３でこれに会議の各段階での作業や開始時刻を設定することにより、会議の進行予定表を作成することができる。 - 特許庁

In this process, a minute electric current flowing between the electric charge generating part 13 and the ground is recorded by a recording meter 20, and from this electric current and a flow rate of the fluorine group insulative liquid 2a flowing through the electric charge generating part 13, an electrification degree is found.例文帳に追加

このとき電荷発生部１３と大地間に流れる微小な電流を、記録計２０にして記録し、この電流とフッ素系絶縁液体２ａが電荷発生部１３を通過する流速から帯電度を求める。 - 特許庁

Dust such as magnetic powder, and the like, generated during a process in which a magnetic tape 20 is rewinded from the tape reel 21 to the take-up reel 22 is suctioned and exhausted by an air flow leading from the air intake 45 to the air suction unit 46.例文帳に追加

テープリール２１から巻取リール２２へ磁気テープ２０を巻き直す工程の間に発生した磁性粉等のゴミは、空気導入口４５から空気吸引口４６に至る空気の流れにのって吸引排気される。 - 特許庁

Then, the F_2 source 202F_2 is introduced, and an F_2 flow is increased on the basis of the dimension of the process chamber 204.例文帳に追加

アルゴン源２０１、F_2源２０２、真空ポンプ２０５、バルブ２０６及び圧力トランスデューサー２０７を用いて制御されるプロセスチャンバ２０４に接続されている装置本体の圧力を、最初に約０．５〜３Ｔｏｒｒに設定し、アルゴンプラズマ放電を開始する。 - 特許庁

To provide a micro fluid feeder not necessitating flexible material in order to form a micro flow path, surely conveying micro fluid over a relatively long distance, and simplifying a manufacturing process therefor.例文帳に追加

マイクロ流路を形成するのに可撓性材料を必要とせず、比較的長い距離に渡りマイクロ流体を確実に搬送することが可能であり、製造工程の簡略化を可能とするマイクロ流体送液装置を提供する。 - 特許庁

Such an arrangement can adjust a flow rate of the process gas to be supplied to the whole surface on which a vapor phase deposited film of the wafer 105 is formed, improving the uniformity in film thickness and impurity concentration over the whole surface of the wafer 105.例文帳に追加

これにより、ウェハ１０５の気相成長膜が成膜される全面に供給するプロセスガスの流量を調整し、ウェハ１０５全面における膜厚や不純物濃度の均一性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal device for preventing degradation in performance of the device and facilitating an injection process of a liquid crystal by imparting mechanical strength to the device and durability against a flow of a liquid crystal material.例文帳に追加

装置に対する機械的強さ、及び液晶材料の流動に対する耐性を得ることにより、装置の性能の劣化を防止し、かつ液晶の注入処理を容易にする液晶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To enable a current to be stably applied to a work as an object to be polished with the stable distribution of current density up to the end of polishing, to use a conventional plating device, a cleaning device or the like as usual, and to enable a manufacturing process flow to be put into practice.例文帳に追加

研磨終点まで安定した電流密度分布で被研磨対象への通電を可能とするとともに、従来通りのメッキ装置や洗浄装置等他の装置の使用や製造プロセスフローの実施を可能とする。 - 特許庁

In the manufacturing method for the polyamide using a specific dicarboxylic acid and a diamine, the relation between the flow rate and temperature of a cooling medium and granulation speed in the granulation process is adjusted to a certain range in consideration of the crystallization behavior of the polyamide.例文帳に追加

特定のジカルボン酸とジアミンを用いたポリアミドの製造方法において、当該ポリアミドの結晶化挙動を考慮し、造粒工程における冷却用冷媒の流量と温度、造粒速度の関係をある範囲に調整する。 - 特許庁

Because discharge interference between adjacent picture elements is suppressed and at the same time gas flow paths are formed in vertical, horizontal and oblique directions through spaces between the pedestals 4a by the grid-shaped partition wall 9, exhaust/filling process time can be shortened.例文帳に追加

このグリッド状隔壁9によって、隣接画素間の放電干渉が抑制され、同時に台座４ａの間を通して縦、横、斜め方向にもガス流のパスが形成されるため、排気・封入工程時間を短縮できる。 - 特許庁

To provide a microfluid feed device not requiring a flexible member to configure a flow passage wall capable of conveying microfluid over a long distance and reducing the manufacturing process and the manufacturing cost.例文帳に追加

流路壁を構成するために可撓性部材を必要とすることなく、マイクロ流体を長い距離に渡って搬送することができ、製造工程及び製造コストを低減することができるマイクロ流体送液装置を提供する。 - 特許庁

The apparatus further includes flow restricting members that operate to partially obstruct a peripheral gap between each adjacent pair of electrodes, which restricts the escape of the source gas from the process chamber between each adjacent pair of electrodes.例文帳に追加

装置はさらに、流れ制限部材を具備し、これが動作して、それぞれの隣接する電極の対の間の周辺ギャップを部分的に塞ぎ、それぞれの隣接する電極の対の間にて処理チャンバからの源ガスの逃げを制限する。 - 特許庁

In the process of the increase, the power of the laser light source of the 1st microscope 21A is gradually decreased to make electrons (current) based upon internal photoelectron effect flow, thus obtaining an abnormal point based upon an actual crystal defect, etc.例文帳に追加

この上げていく過程で、同時に、第１マイクロスコープ２１Ａのレーザ光源のパワーをゆっくり下げていき、内部光電子効果に基づく電子（電流）が流れるようにして、実際の結晶欠陥等に基づく異常点を得る。 - 特許庁

Its manufacturing method makes an incident angle time-controlled evaporation and an energy time-controlled evaporation to the object to process in an ion evaporation machine by using the ion flow drawn out from the ion source through the duct to a film forming chamber.例文帳に追加

また、その製造方法は、イオン蒸着装置において、イオン源からダクトを介して成膜室に引き出されるイオン流の被処理基板への入射角時間制御蒸着、エネルギー時間制御蒸着を特徴とする。 - 特許庁

The company subsequently introduced this “one-piece flow” method of production developed at the Vietnam plant to Japan, which until then had carried out production by lot. By using this method, the company improved its domestic production division by, for example, substantially reducing its in-process inventory.例文帳に追加

ベトナム工場で蓄積した１個流しによる生産方法は、その後、ロットによる生産となっていた日本国内工場に導入され、仕掛在庫の大幅削減を実現するなど国内の生産部門の改善にいかされた。 - 経済産業省

A continuous casting process is divided into a plurality of stages in a flow direction of products; state transition models for properties of the products and state transition models for facilities are generated for each stage; and influence relation in each stage is defined to achieve discrete modeling.例文帳に追加

連続鋳造プロセスを製造物の流れ方向に複数のステージに分け、ステージ毎に製造物の属性の状態遷移モデルと設備の状態遷移モデルとを作成し、各ステージ内での影響関係を定義して離散モデリングする。 - 特許庁

To provide a method, which includes a process for subjecting an organic fine particle dispersion liquid containing a high molecular compound to heating treatment when the dispersion liquid flows through a flow passage, for producing an organic fine particle dispersion with a volume average particle size Mv of 10-100 nm.例文帳に追加

高分子化合物を含む有機微粒子分散液を、流路内流通時に加熱処理する工程を含む、体積平均粒径（Ｍｖ）が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の有機微粒子の分散物の製造方法。 - 特許庁

In the aluminizing process, the amount of unreactive aluminum in the coating chamber can be controlled by changing the flow velocity of the gas flowing through the coating chamber so that a part of unreacted aluminum can be swept away from the coating chamber by the gas.例文帳に追加

アルミナイジングプロセス中、コーティングチャンバ内の非反応アルミニウムの量は、未反応アルミニウムの一部が上記ガスによってコーティングチャンバから掃去されるようにコーティングチャンバ内を流れるガス流速を変えることによって制御される。 - 特許庁

The electrode section is formed of a pair of electrodes 46 and 48 which are arranged to face each other on both sides of a discharge tube 40 through which a process gas is made to flow, and a lead 30 which connects one electrode 46 to a high-frequency power source.例文帳に追加

処理用気体を流通させる放電管４０を挟むように対向配置された一対の電極４６，４８と、当該一方の電極４６を高周波電源に接続するリード３０とで電極部を形成する。 - 特許庁

To provide an image display device in which obstacles are not increased by reducing the number of exhaust pipes to be used and an air-flow sealing is made easy and a manufacturing process is simplified and a product value is upgraded.例文帳に追加

排気管の使用本数を低減することにより、障害物を増やすことなく、エアーフロー封着を容易にし、製造プロセスを簡易化させるとともに、商品価値を向上させることができる画像表示装置を提供する。 - 特許庁

The vapor-phase process device 1 includes a treatment chamber 4, gas-feeding openings 13-15 as two or more gas inlet units, and a gas-feeding unit (a gas-feeding member 38, a pipe 37, a flow rate control device 36, pipes 33-35, a buffer chambers 23-25).例文帳に追加

気相処理装置１は、処理室４と、複数のガス導入部としてのガス供給口１３〜１５と、ガス供給部（ガス供給部材３８、配管３７、流量制御装置３６、配管３３〜３５、バッファ室２３〜２５）とを備える。 - 特許庁

Manufacturing of the semiconductor device has at least a laminating process, wherein an insulating material having a half-curing state which has each escape airspace-region portion 23 for the resin flow-out in the case of the laminating press of the semiconductor device, is disposed on a base plate 8.例文帳に追加

本半導体装置の製造においては少なくとも、積層プレスの際に流れ出る樹脂の逃がし空域部２３を設けた半硬化状態の絶縁材をベースプレート８上に配置して積層する工程を有している。 - 特許庁

In a web conveying process in which a web W dried by a drying apparatus 14 is wound on a cooling cylinder 25 of a cooling apparatus 15 and is cooled while it is conveyed, an air feeding apparatus 31 is provided as an air flow accelerating means for accelerating the air flow near a winding starting position of the web W by the cooling cylinder 25.例文帳に追加

乾燥装置１４により乾燥されたウェブＷを冷却装置１５の冷却シリンダ２５に巻き付けて搬送しながら冷却するウェブ搬送工程にて、冷却シリンダ２５によるウェブＷの巻付け開始位置の近傍における気流の流れを促進する気流促進手段として、空気供給装置３１を設ける。 - 特許庁