「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(73ページ目) - Weblio英語例文検索

When the drawing instruction does not consider the resolution (S225: NO), the printer driver executes a drawing processing by increasing the width of a line used as a drawing object or the size of a unit pattern used for fill at magnification equivalent to a ratio of the resolution of a drawing area for display to that of a drawing area for print (S235).例文帳に追加

解像度を考慮していない場合は（Ｓ２２５：ＮＯ）、表示用描画領域と印刷用描画領域との解像度比に相当する倍率で、描画対象となる線の太さないし塗りつぶしに使う単位パターンの大きさを拡大して、描画処理を実行する（Ｓ２３５）。 - 特許庁

Nitrogen is newly introduced in the gate insulating film 3 nearby an end of the gate electrode 5 by carrying out nitriding processing in an atmosphere containing nitrogen after a polysilicon film 4 is bonded onto the gate insulating film 3 and the gate electrode 5 is patterned in a pattern and before the source-drain region 9 is formed.例文帳に追加

ゲート絶縁膜３上に、ポリシリコン膜４を被着してゲート電極５パターンにパターンニングした後、ソース・ドレイン領域９を形成する前に、窒素を含む雰囲気中で窒化処理を行って、ゲート電極５端部付近のゲート絶縁膜３中に新たに窒素を導入する。 - 特許庁

The resistance value parasitic on the wiring is reduced by expanding the wiring width in the layout to a designated wiring width within the range of a layout criterion by giving information on the maximum wiring width, and processing priority to the wiring in the design drawing of the circuit or the wiring pattern in layout data.例文帳に追加

回路設計図中の配線又はレイアウトデータ中の配線図形に対して最大配線幅及び処理優先度の情報を与えることでレイアウトルール違反を生じない範囲内でレイアウト中の配線幅を指定配線幅まで拡大し、配線に寄生する抵抗値を低減する。 - 特許庁

A virus check device 001 comprises a hardware circuit for checking virus from input data from a storage device to the information processing terminal, wherein the hardware circuit includes a control section for updating a virus pattern to be collated with the input data on the basis of the control data from the server.例文帳に追加

ウイルスチェック装置は、ストレージデバイスから上記情報処理端末への入力データから、ウイルスをチェックするハードウェア回路を備え、該ハードウェア回路は、上記サーバ装置からの制御データに基づいて、該入力データと照合されるウイルスパターンを更新する制御部を有する。 - 特許庁

The L side line memory controlling part 121L similarly receives ambient pixel data necessary to pattern matching from the part 121F, forms the matrix of the processing object pixel and its ambient pixels and gives the matrix to an isolated point detecting 122L and a ruggedness detecting part 123L.例文帳に追加

Ｌ側ラインメモリ制御部１２１Ｌも同様に、パターンマッチングに必要な周辺画素データをＦ側ラインメモリ制御部１２１Ｆからけ取って処理対象画素およびその周辺画素のマトリクスを形成し、孤立点検出部１２２Ｌおよび凹凸検出部１２３Ｌへ渡す。 - 特許庁

To provide a preprocessing method capable of executing preprocessing in an iterative solution with preprocessing to a coefficient matrix with an irregular and sparse non-zero pattern on a parallel computer having vector computing function at high speed by reducing the frequency of synchronization processing, and a matrix reordering method used therefor.例文帳に追加

同期処理の回数を削減し、ベクトル演算機能を有する並列計算機上で非ゼロパターンが不規則でスパースな係数行列に対する前処理付き反復解法における前処理を高速に実行できる前処理方法およびそれに用いる行列リオーダリング方法を提供する。 - 特許庁

This mask for reflection type exposure includes: a first layer formed on a support substrate 100 and having a low-reflection processing pattern absorbing exposure light and a reflective multilayer film 101 reflecting exposure light; and a second layer formed on the reflective multilayer film 101 and having an absorber layer 120 absorbing exposure light.例文帳に追加

支持基板１００上に形成され、露光光を吸収する低反射加工パターンと露光光を反射する反射多層膜１０１とを有する第１の層と、反射多層膜１０１上に形成され、露光光を吸収する吸収体層１２０を有する第２の層とを備える。 - 特許庁

The base-reactive, surface-modifying agent is reactive to hydroxide and increases the surface hydrophobicity of a pattern formed in a layer of the radiation-sensitive composition upon treatment with a basic developing solution during lithographic processing of a substrate.例文帳に追加

塩基に反応性の表面を改質する薬剤は、水酸化物に対して反応性のものであると共に基体のリソグラフィーの加工をする間に塩基性の現像する溶液での処理の際に放射に敏感な組成物の層に形成されたパターンの表面の疎水性を増加させる。 - 特許庁

The image forming apparatus comprises an image processing unit 103 for creating a converted image of input image data to be displayed on an operation panel 107 and converting colors of the input image data, according to a color conversion pattern created on the operation panel 107 with displayed color samples 200.例文帳に追加

表示されたカラーサンプル２００に対して操作パネル１０７上で作成された色変換パターンを基に、操作パネル１０７上に表示する入力画像データの変換イメージ作成及び入力画像データに対する色変換処理を行う画像処理ユニット１０３を備えた画像形成装置。 - 特許庁

A repetition processing means 24 checks whether or not the inspection pattern is included in the message trace to be inspected based on message repetition information inputted from the input device 1 or the information of the message correspondence confirming means 22 and the process correspondence confirming means 23, and outputs the result to a display device 4.例文帳に追加

繰り返し処理手段２４は、入力装置１から入力されるメッセージ繰り返し情報や、メッセージ対応確認手段２２、プロセス対応確認手段２３の情報を元にして、検査対象メッセージトレースに検査パターンが含まれるかチェックし、その結果を表示装置４に出力する。 - 特許庁

A curved line vector data substitution part 71 of the division drawing part 7 preferably replaces a curved line vector data existing outside the partial drawing area with a straight line vector data, out of the vector data constituting a pattern serving as an object of division drawing in every partial drawing area, and carries out paint-out processing.例文帳に追加

好ましくは、分割描画部７の曲線ベクターデータ置換部７１は、部分描画領域ごとに分割描画の対象となる図形を構成するベクターデータのうち、その部分描画領域の外にある曲線ベクターデータを直線ベクターデータに置き換えて、塗りつぶし処理を行う。 - 特許庁

The CRT operating screen selecting means 10 reads the object item and display pattern data out of a CRT operating item preservation table 11, and in the case of object item of CRT operation, a CRT operation screen is displayed on the display device 4 through the CRT display processing means 3.例文帳に追加

ＣＲＴオペ画面選択手段１０は、ＣＲＴオペ項目保存テーブル１１から対象項目及び表示パターンデータを読み出してＣＲＴオベレーションの対象項目の場合、ＣＲＴ表示処理手段３を介して表示装置１０へＣＲＴオペレーション画面を表示させる。 - 特許庁

A moving vector detecting part 24 detects moving vectors in the respective areas of the image on the basis of these frame image data and car speed data and a moving vector processing part 25 evaluates the pattern of the moving vector on a reference horizontal line and finds a distance and road width up to the wall surface of a road end.例文帳に追加

移動ベクトル検出部２４では、これらのフレーム画像データと車速データに基づき画像の各領域の移動ベクトルを検出し、移動ベクトル処理部２５では、基準水平ライン上の移動ベクトルのパターンを評価して、道路端の壁面までの距離と道幅を求める。 - 特許庁

The image processing means 7 captures the movement of a concentration pattern by the reflected light of the tracer material moving during the photographing time between a plurality of screens, determines the moving direction and moving quantity of the tracer material on the basis of a prescribed change of the movement, and displays it by a numerical or vector indication.例文帳に追加

画像処理手段７は、複数の画面間で撮影時間中に移動するトレーサ材の反射光による濃度パターンの動きを補足し、その動きを所定の変化に基づいて前記トレーサ材の移動方向および移動量を求め数値やベクトル表示により表示する。 - 特許庁

A theoretical dot-number calculation part 124 executes the half-tone processing of a noticed area set by an area setting part 122 by using a screen pattern of maximum density and calculates a theoretical dot number in the noticed area on the basis of density specification information set in the noticed area.例文帳に追加

理論ドット数算出部１２４は、領域設定部１２２により設定された注目領域を最高濃度のスクリーンパターンを用いてハーフトーン処理し、注目領域に対して設定された濃度指定情報を基に、注目領域の理論ドット数を算出する。 - 特許庁

The image processing apparatus is characterized in the provision of a generating means that generates 2nd dot patterns of a plurality of kinds equivalent to a 1st area smaller than a 1st dot pattern denoting prescribed information and of an imbedding means that selectively imbeds the 2nd dot patterns by each 1st area.例文帳に追加

所定の情報を示す第１のドットパターンよりも小さい第１の領域に相当する複数種類の第２のドットパターンを発生する発生手段と、前記複数種類の第２のドットパターンを前記第１の領域毎に切り替えて埋め込む埋め込み手段とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an image data analysis device with which image processing conditions (threshold value or the like) enabling desired pattern edges with good reproductivity can be easily obtained by using image data obtained by using a scanning type microscope (CD-SEM) even if the patterns change structures in a height direction.例文帳に追加

高さ方向で構造が変化するようなパターンであっても、走査型顕微鏡（ＣＤ−ＳＥＭ）を用いて取得した画像データを用いて所望のパターンエッジが再現性よく決定できる画像処理条件（閾値等）を、簡便に得ることのできる画像データ解析装置を提供する。 - 特許庁

An attitude stabilization processing part 1003 verifies whether the motion edited in the motion editing part 1002 can operate while stabilizing the attitude in the actual machine or not based on ZMP stability degree discrimination standard and corrects into a motion pattern in which attitude stabilization is possible.例文帳に追加

姿勢安定化処理部１００３は、モーション編集部１００２において編集されたモーションが実機上で姿勢を安定させながら動作可能であるか否かを、ＺＭＰ安定度判別規範に基づいて検証するとともに、姿勢安定化が可能な動作パターンへの修正を行なう。 - 特許庁

In the method for manufacturing the embossed sheet 60 by applying emboss processing to a thermoplastic resin sheet 50 on the metal endless belt 14 trained over a plurality of rolls 11,12, a heat-resistant easy peel resin layer having an uneven embossed pattern is applied to the surface of the metal endless belt 14.例文帳に追加

複数のロール１１、１２に巻装された金属製エンドレスベルト１４上で熱可塑性樹脂シート５０にエンボス加工を施すエンボスシート６０の製造方法において、金属製エンドレスベルト１４の表面に、凹凸のエンボスパターンを有する耐熱性、易剥離性樹脂層をコーティングする。 - 特許庁

To raise a controllability of a line width of a pattern, while reducing a developing defect, in case of forming a protective film of a water repellent property on a substrate an which a resist film is formed, and performing a development processing to the substrate after forming a liquid layer on a front surface of the protective film and carrying out an oil immersion exposure.例文帳に追加

レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。 - 特許庁

In the expression, W is wandering performance index calculated in an image analyzing process by the transfer of a tread pattern image and a rain groove image, p is pixel size (mm) used for image processing in calculating the wandering performance index, L is ground contacting length of the tire (mm) and "a" is a coefficient of 0.6 to 0.7.例文帳に追加

（式中、Ｗはトレッドパターン画像とレイングルーブ画像との転写による画像解析処理から算出されるワンダリング性能指数、ｐはワンダリング性能指数を算出する際の画像処理で用いた画素の大きさ（ｍｍ）、Ｌはタイヤの接地長（ｍｍ）、ａは係数で０．６〜０．７である。） - 特許庁

The photoresist is exposed to actinic radiation in a pattern such that when the photoresist is subsequently developed, a perimeter region of the photoresist remains over the perimeter region of the carrier and extending inward over the periphery of the thin film sufficiently to secure the thin film during conveyorized chemical processing.例文帳に追加

フォトレジストがその後に現像されるときに、フォトレジストの辺縁領域がキャリアの上に残り、さらにコンベアを有する化学的加工の間に薄膜を固定するのに充分となるように、薄膜の辺縁上で内側方向に延びるようなパターンの化学線で、フォトレジストが露光される。 - 特許庁

To provide a wiring layout device for a semiconductor integrated circuit for reducing fluctuation in a wiring pattern dimension due to processing, improving accuracy of delay analysis in a layout design step, and facilitating attainment of a target operation frequency of a circuit.例文帳に追加

ダミー配線を極力付加することなく、加工による配線パターン寸法変動を抑制し、レイアウト設計段階で遅延解析をより正確にし、回路の目標動作周波数達成を容易化する半導体集積回路の配線レイアウト装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a piezoelectric vibrator that enables collective processing in a wafer state while ensuring the flexibility in designing a wiring pattern provided inside a multilayer structure, thereby improving the efficiency of manufacture, to provide a method of manufacturing the piezoelectric vibrator, and to provide an oscillator.例文帳に追加

本発明は、多層構造の内部に設けられる配線パターンの設計の自由度を確保しつつ、ウエーハ状態での一括処理を行うことができ、従って製造効率を向上させることができる圧電振動子及びその製造方法並びに発振器を提供することを目的とする。 - 特許庁

A CPU 50 performs control for making the speaker array 40 perform acoustic playback by a designated directivity pattern in mirror-surface symmetry with respect to a virtual plane including an axis going perpendicularly through the center of the speaker array 40 according to a signal processing control program 61.例文帳に追加

ＣＰＵ５０は、信号処理制御プログラム６１に従い、指定された指向性パターンであって、スピーカアレイ４０の中心を垂直に貫く軸を含む仮想平面について鏡面対称な指向性パターンでの音響再生をスピーカアレイ４０に行わせる制御を行う。 - 特許庁

After a mask pattern is formed by making the layout of a cell library subjected to the OPC processing, the correction amount of the OPC is adjusted by taking into consideration the influences of patterns of other cell libraries laid around the cell library on the peripheral region of the cell library.例文帳に追加

あらかじめＯＰＣ処理が施されたセルライブラリをレイアウトしてマスクパターンを形成した後、セルライブラリの周囲に配置された他のセルライブラリのパターンがセルライブラリの周辺領域に及ぼす影響を考慮することによって、上記ＯＰＣ補正の補正量を調整する。 - 特許庁

While a channel part ch of the thin film transistor Tr is prevented from being irradiated with light of a shorter wavelength than a wavelength 260 nm, the resist pattern 24 after dry processing is irradiated thereafter at least either ultraviolet rays or visible light under a dry environment.例文帳に追加

その後、薄膜トランジスタＴｒのチャネル部ｃｈに対して波長２６０ｎｍよりも短波長の光が照射されることを防止した状態で、乾燥雰囲気下において乾燥処理後のレジストパターン２４に対して紫外線または可視光の少なくとも一方を照射する。 - 特許庁

To provide a synthetic quartz glass which can eliminate defects due to the fluorescence emission of an optical material used for a stepper exposure device used for the exposure and the transfer of a fine pattern of an exposure device, a laser processing device, an optical cleaning device, an integrated circuit or the like to reduce intensity of fluorescence emission, and which has excellent transmission performance.例文帳に追加

露光装置、レーザ加工装置、光洗浄装置等、集積回路等の微細パターンを露光・転写に用いるステッパ露光装置に用いられる光学系材の蛍光発光による欠陥をなくし、強度低減できるより優れた透過性能を備えた合成石英ガラスの提供。 - 特許庁

To provide a light beam scanning optical device which can restrain interference between the displacement of a beam and image processing means (screen pattern) even when magnification correction in a sub-scanning direction is carried out by fine adjustment of a rotational speed of a rotating polygon in interlace scanning by plural beams.例文帳に追加

複数のビームによる飛び越し走査において、副走査方向の倍率補正を回転多面鏡の回転速度を微調整して行う場合にあっても、ビームの位置ずれと画像処理手段（スクリーンパターン）との干渉を抑制できる光ビーム走査光学装置を得る。 - 特許庁

In cell layout design processing, a design device 11 calculates a signal access rate as a quantification of the number of signal access tracks to form signal lines connecting to the terminals included in a cell, depending on the design of a semiconductor device, and changes the pattern of terminals according to the signal access rate.例文帳に追加

設計装置１１は、セルのレイアウト設計処理において、半導体装置のデザインに応じて、セルに含まれる端子に接続する信号配線を形成するための信号アクセストラック数を定量化した信号アクセス率を算出し、信号アクセス率に従って対応する端子のパターンを変更する。 - 特許庁

Then processing time is shortened by outputting the difference between the differential signal read out to the first read-out circuit 11 and the differential signal read out to the second read-out circuit 12 as an output voltage Vo of a detection circuit 3 from a differential circuit 13 while removing pattern noises specific for the circuits.例文帳に追加

そして、第１読出回路１１に読み出した差分信号と、第２読出回路１２に読み出した差分信号との差分を、差分回路１３から検出回路３の出力電圧Ｖｏとして出力することにより、回路固有のパターンノイズを除去しながら、処理時間の短縮を図る。 - 特許庁

Besides, a display control processing part 32 prepares a flow display pattern on the basis of managing information outputted from a microcomputer 21 for game and a flickering state is controlled as flowing above the pachinko machines 20 by flickering the matrix LED 11 of displays 10 arranged in parallel.例文帳に追加

また、表示制御処理部３２はゲーム用マイコン２１から出力される管理情報に基づいて流れ表示パターンを作成し、並設した複数の表示器１０におけるマトリクスＬＥＤ１１を明滅せしめて複数のパチンコ機２０の上方にて明滅状態が流れるように制御する。 - 特許庁

In the sound field control system 100, a signal processing part 300 is equipped with a BPF 310 which divides a sound signal into a plurality of frequency bands and an APF 320 which corrects the sound signal by adding reflected sound pattern to the sound signal by the divided bands.例文帳に追加

音場制御システム１００において、信号処理部３００は、音響信号を複数の周波数帯域に分割するＢＰＦ３１０と、分割された帯域毎に、音響信号に反射音パターンを付加することによって音響信号を補正するＡＰＦ３２０を備える。 - 特許庁

The manufacturing method of the plasma display panel is provided, where the calcining treatment is carried out after a laminated layer of a non-photosensitive inorganic powder containing resin layer and of a photosensitive inorganic powder containing resin layer is formed on a substrate, and exposure/development processing of the photosensitive inorganic powder resin layer is carried out to form a pattern.例文帳に追加

基板上に非感光性の無機粉体含有樹脂層と感光性の無機粉体含有樹脂層との積層を形成し、感光性の無機粉体樹脂層を露光・現像処理して、パターンを形成したのち、焼成処理を行うプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

Once the raw data is represented numerically, mathematical processing like a correlative function, a pattern recognition method, or a similar numerical method is applied to determine how a specific vector conforms to the content of a refined or other vector in the referenced database.例文帳に追加

一旦生データが数値的に表されれば、特有のベクトルが「純化された」若しくは参照のデータベースにおける他のベクトルとどのように内容が一致するのかを決定するために、相関性機能、パターン認識方法、又は他の類似した数値的方法のような数学的処理が実行されることができる。 - 特許庁

Thus, collation processing is performed while altering the fingerprint identification information by area which shows features of the fingerprints of the user, it also becomes difficult to presume the fingerprint identification information by area from the registered ID pattern X, and specification of the fingerprint information on each individual is prevented.例文帳に追加

これによりユーザの指紋の特徴を示したエリア別指紋識別情報を改変させつつ照合処理を行うことができ、かつ登録ＩＤパターンＸからエリア別指紋識別情報が推測されることも困難となり、各個人の指紋情報が特定されることを防止し得る。 - 特許庁

The data processing apparatus is provided with a loading process means for loading a plurality of pieces of data in a batch to a register, by matching to a mask pattern for higher-order partial autocorrelation features from inputted image data and an addition process means for carrying out processings of the addition of a plurality of pieces of data in the register, in batch.例文帳に追加

データ処理装置は、入力された画像データから、高次局所自己相関特徴のマスクパターンに合わせて複数データを一括してレジスタにロードするロード処理手段と、レジスタの複数データを一括して積算の処理を行う積算処理手段とを備える。 - 特許庁

On a transmission side, transmission data 1a are divided so as to equalize radio frame lengths of respective carriers, and a synchronizing pattern known by both the transmission side and the reception side is inserted to only the radio frame 1e of one carrier out of a plurality of carriers, and radio frames are subjected to modulation processing for each carrier and are transmitted.例文帳に追加

送信側では、送信データ１ａを各キャリアの無線フレーム長が同じになるように分割し、送受双方で既知の同期パターンを複数のキャリアの内の一のキャリアの無線フレーム１ｅにのみ挿入し、キャリア毎に無線フレームを変調処理して送信する。 - 特許庁

An arithmetic processing unit (APU) 12 arithmetically processes flying pattern information, the ID numbers of the aircraft 3 to 5, and a command signal such as a photographing control signal, outputs the processed results to a transmitter/receiver 13 and arithmetically processes the flying information of respective aircraft and various status information of reconnaissance image information.例文帳に追加

演算処理装置１２は飛行パターン情報、偵察用無人機のＩＤ番号、撮影制御信号等の指令信号を演算処理して送受信装置１３へ出力し、各機体の飛行情報、偵察画像情報の各種ステータス情報を演算処理する。 - 特許庁

An image processing section 401 in a printer controller is provided with a nonvolatile memory 553, a pattern attachment section 402 in a printer engine is provided with a nonvolatile memory 556 and when attached data information items stored in both the memories are dissident, the image forming device forms no normal image.例文帳に追加

プリンタコントローラ内の画像処理部４０１及びプリンタエンジン内のパターン付加部４０２はそれぞれ、付加データ情報を保持する不揮発メモリ５５３，５５６を備え、これら両方のメモリに保持された付加データ情報が一致しない場合には正常な画像形成を行わない。 - 特許庁

To provide a resist surface modifying liquid and a method for forming a resist pattern using the resist surface modifying liquid used as a surface treatment liquid prior to the post exposure baking (PEB) processing of a resist film to reduce the water repellency of the resist film to thereby restrain the occurrence of a defect.例文帳に追加

レジスト膜の露光後加熱処理（ＰＥＢ）工程前の表面処理液として用いられるレジスト表面改質液であって、レジスト膜の撥水性を低下させ欠陥の発生を抑制できるレジスト表面改質液及びこれを利用したレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a plastic color filter manufacturing method capable of using many kinds of plastic materials as base materials in the case of manufacturing a color filter by a pigment dispersion method, reducing processing time and forming a colored pattern on a long film base material at high efficiency.例文帳に追加

顔料分散法によりカラーフィルターを製造するにあたり、多くの種類のプラスチックを基材として用いることが可能であり、かつ、処理時間が短く、長尺フィルム基材に対し高い効率で着色パターンを形成することが可能な、プラスチックカラーフィルターの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Otherwise, the gradient detection section 140 detects the gradient by detecting a vertical inclination of the head of a user or by determining whether or not a predetermined image pattern is detected from an image captured by the imaging processing section 130.例文帳に追加

あるいは、勾配検出部１４０は、利用者の頭部の上下方向に対する傾きを検出したり、撮像処理部１３０によって取得される撮影画像から所定の画像パターンが検出されるか否かを判定することにより、勾配を検出することができる。 - 特許庁

To provide a device and a method for forming a pattern image, a substrate on which an image is formed and a method for forming the image on the substrate capable of realizing the shortening of processing time and the reduction of production cost without using a photomask in lithographic technique or etching technique.例文帳に追加

リソグラフィー技術或いはエッチング技術において、フォトマスクを使用せずにプロセス時間の短縮化や生産コストの低減を図ることが可能なパターン画像形成装置及びその方法並びに画像形成された基板及びその基板への画像形成方法を提供する。 - 特許庁

The decorative sheet S comprising a polyolefinic resin and having an embossed pattern 4 formed by emboss processing is constituted by laminating an upper layer 2 comprising an olefinic thermoplastic elastomer and a surface protective layer 3 comprising cured matter of an ionizing radiation curable resin on a lower layer 1 comprising a crystalline polyolefinic resin.例文帳に追加

ポリオレフィン系樹脂からなりエンボス加工による凹凸模様４を有する化粧シートＳを、結晶性ポリオレフィン系樹脂の下層１上に、オレフィン系熱可塑性エラストマーの上層２、及び、電離放射線硬化性樹脂の硬化物の表面保護層３が積層された構成とする。 - 特許庁