「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(76ページ目) - Weblio英語例文検索

As for image data, associated with a document containing handwritten characters or a pattern, an image processing unit, adjusts the hue, saturation, or lightness of a part (c) adjacent to the handwriting part (w), so as to make the handwriting part (w) and the part (c) adjacent to the handwriting area different in hue, saturation, or lightness.例文帳に追加

手書きによる文字又は図形が含まれた原稿に係る画像データに対し、画像処理部が手書き部ｗに隣接する隣接部ｃの色相、彩度又は明度を調整し、前記手書き部ｗと手書き領域に隣接する隣接部ｃの色相、彩度又は明度が異なるようにする。 - 特許庁

Further, if the surface of the sapphire substrate is terminated with a desired functional group by processing the sapphire substrate in a solution including a surface termination group, it causes a difference between the densities of the surface termination group in the two regions, thereby enabling domain patterns having different chemical properties to be pattern-formed in a self-organizing manner.例文帳に追加

さらに、表面終端基を含む溶液中で処理することによって所望の官能基で表面を終端すると、これら２つの領域における表面終端基密度に差が生じ、化学的性質の異なるドメインパターンが自己組織化的にパターン形成される。 - 特許庁

The pattern of transactions engaged in by the SMEs upon which Japanese manufacturing depends for its core technologies such as the production and processing of parts and materials is changing. 例文帳に追加

部品等の製造・加工など我が国のモノ作り基盤技術を担う中小企業の取引構造の変化は、これまで見てきたように、「下請構造の崩壊」という言葉からイメージされるような、単純に下請取引から脱却し、自立した中小企業へと転身を遂げるというようなものとは異なっていた。 - 経済産業省

The decorative sheet S comprising a polyolefinic resin and having an embossed pattern 4 formed by emoss processing is constituted by laminating an upper layer 2 comprising a crystalline polyolefinic resin and a surface protective layer 3 comprising cured matter of an ionizing radiation curable resin on a lower layer 1 comprising an olefinic thermoplastic elastomer.例文帳に追加

ポリオレフィン系樹脂からなりエンボス加工による凹凸模様４を有する化粧シートＳを、オレフィン系熱可塑性エラストマーの下層１上に、結晶性ポリオレフィン系樹脂の上層２、及び、電離放射線硬化性樹脂の硬化物の表面保護層３が積層された構成とする。 - 特許庁

This object detection device 30 performs scanning for detecting an obstacle by pattern matching processing about an image imaged by a camera 12 from a nearby place toward a distant place of the vehicle to detect the obstacle close to the vehicle having the strong possibility of the collision with the vehicle in a short time.例文帳に追加

対象物検知装置３０は、カメラ１２により撮像された画像について車両の近方から遠方に向かってパターンマッチング処理により障害物を検知する走査を行うため、車両との衝突の可能性が高い車両の近方の障害物を短時間で検知することができる。 - 特許庁

To provide a method for processing the surface of a quartz, capable of forming a highly precise electrode pattern by washing with an acid before etching a quartz wafer for preventing the etching unevenness from its generation, and a method for producing a quartz device.例文帳に追加

水晶ウェハをエッチングする前に、酸によって洗浄することによって、エッチングの際に生じるエッチングムラの発生を防止して、高精度な電極パターンの形成を行うことができる水晶の表面加工方法及び水晶デバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

About each of template candidates, actual position measurement processing is carried out to evaluate a processing time, a template analysis is done to evaluate an amount of positioning information associated with position measurement accuracy, robustness to a noise is evaluated based on a position measurement result for a pattern to which a random noise is added, and a weighted mean value of these evaluations is worked out to find an overall evaluated value.例文帳に追加

テンプレート候補の各々について、実際に位置計測処理を行うことにより処理時間の評価を行い、テンプレートを解析することにより位置計測精度に関わる位置決め情報量の評価を行い、ランダムノイズを加えたパターンに対する位置計測結果に基づいてノイズに対するロバスト性の評価を行い、これらの各評価の重み付け平均値を求めることにより総合評価値を求める。 - 特許庁

A horizontal processing unit 31 performs horizontal closing-up for horizontally closing up pixels of first and second thinned-out images which are obtained by thinning respective pixels of a first image and a second image different from the first image every other diagonal line and in which the pixels are arranged in a checkerboard pattern as horizontal processing for manipulating the horizontal arrangements of the respective pixels of the first and second thinned-out images.例文帳に追加

水平処理部３１は、第１の画像、及び、第１の画像とは異なる第２の画像それぞれの画素を、斜め方向の１ラインおきに間引くことにより得られる、チェック模様状に画素が配置された第１の間引き画像、及び、第２の間引き画像それぞれの画素の水平方向の配置を操作する水平処理として、第１及び第２の間引き画像の画素を、水平方向に詰める横詰めを行う。 - 特許庁

To provide an image processing system and an image processing method capable of permitting the print output of the duplicate original of high image quality by using the original electronic data of an original in which a tint block pattern or the like is embedded in order to prevent unauthorized duplication in the case that duplication is permitted and suppressing the unauthorized duplication for the one which is printed and outputted.例文帳に追加

無断複製を防止するために地紋模様等が埋め込まれている原稿に対して、複製許可がされている場合は当該原稿のオリジナルの電子データを用いて画像品位の高い複製原稿を印刷出力することを許可する一方、当該印刷出力されたものに対しては無断複製を抑止することができる画像処理システム及び画像処理方法を提供する。 - 特許庁

The image processing means generates added image data including information of wavelengths and signal intensity by additionally processing the signals of respective wavelengths correspondingly to the incident positions on the detection surface, determines whether or not a defect exists on the pattern to be inspected based on the added image data, and when determining the existence of a defect, detects the position of the defect in a direction vertical to the substrate.例文帳に追加

前記画像処理手段は、前記波長毎の信号を前記検出面の入射位置に対応付けて加算処理して波長および信号強度の情報を含む加算画像データを生成し、該加算画像データに基づいて検査対象のパターンにおける欠陥の有無を判定し、欠陥が有ると判定した場合に前記基体に垂直な方向における前記欠陥の位置を検出する。 - 特許庁

The metal pattern forming apparatus has a discharging device 200 which discharges a discharged body containing metal particulates to a substrate 700, a drying and burning device 300 which dries and burns the discharged body discharged to the substrate, and a metal plating processing device 500 which performs metal plating processing for the substrate having the discharged body formed in the dried and burnt state.例文帳に追加

基板７００に対して金属微粒子を含有する吐出物を吐出する吐出装置２００と、基板に吐出された吐出物を乾燥及び焼成するための乾燥・焼成装置３００と、乾燥及び焼成した状態で形成されている吐出物を有する基板に対して金属メッキ処理を行う金属メッキ処理装置５００と、を有することで金属パターン形成装置を構成する。 - 特許庁

A plasma processing device, which performs surface treatment for a workpiece sample by ionizing the raw gas inside a vacuum container with an evacuation means, a raw gas supply means, a processing sample installation means and a high frequency power application means to a workpiece sample, is constituted to control the temperature of a workpiece substrate to a temperature pattern which is preset according to proceeding of treatment.例文帳に追加

排気手段と、原料ガス供給手段と、被加工試料設置手段と、被加工試料への高周波電力印加手段を有する真空容器内で、前記原料ガスをプラズマ化し、被加工試料の表面処理を行うプラズマ処理装置において、被処理基板の温度を処理の進行に従って予め設定された温度パターンに制御するよう構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 特許庁

A pedestrian candidate region detecting section 19 detects a pedestrian candidate region from an input image that is photographed by a camera 31 and processed by a preprocessing section 11, a pedestrian recognizing section 18 recognizes a pedestrian, a learning processing section 12 creates a reference pattern from the region having no pedestrian of the input image and updates a reference pattern database 15, and it is used for detecting a next pedestrian candidate region.例文帳に追加

カメラ３１が撮影し、前処理部１１による処理が施された入力画像から歩行者候補領域検出部１９が歩行者候補領域を検出し、歩行者認識部１８が歩行者認識を行なうとともに、学習処理部１２が入力画像のうち歩行者の存在しない領域から基準パターンを作成して基準パターンデータベース１５を更新し、次回の歩行者候補領域の検出に使用する。 - 特許庁

This robot cleaner comprises a traveling drive unit, a cleaning area detection unit detecting an area of cleaning surface, and a central processing unit calculating a spiral cleaning traveling pattern corresponding to each shape of cleaning area based on information detected through the cleaning area detection unit, and outputting a cleaning traveling signal corresponding to the calculated cleaning traveling pattern to the traveling drive unit.例文帳に追加

上記の目的を達成するための本発明によるロボット掃除機は、走行駆動ユニットと、掃除面の領域を検出する掃除領域検出ユニット、及び掃除領域検出ユニットを介して検出した情報に基づいて各掃除領域の形状に対応する螺旋形掃除走行パターンを算出し、走行駆動ユニットに算出した掃除走行パターンに対応する掃除走行信号を出力する中央処理ユニットと、を含む。 - 特許庁

The inkjet recorder comprises a means for designating one or more arbitrary areas of image data, a means for designating an image pattern for thinning the image data in the arbitrary area and a means for processing the thinning of the image data according to the arbitrary area and the image pattern.例文帳に追加

本発明は、被記録物を搬送する搬送機構部と、インクを吐出するための複数ノズルを有する１つまたは複数のプリントヘッドで構成されるヘッドユニットを有するインクジェット記録装置において、イメージデータの任意領域をひとつまたは複数指定する手段と、前記任意領域のイメージデータ間引き用イメージパターンを指定する手段と、前記任意領域とイメージデータ間引き用イメージパターンに基づいてイメージデータを間引く処理とを有することを特徴とする。 - 特許庁

This communication device transferring data obtained by processing a received signal by an input capture circuit to a memory to store them and performing predetermined computing on the basis of the data stored in the memory, is provided with a detection means detecting a pattern of data outputted from the input capture circuit and a storage control means transferring the following data to the memory if a predetermined data pattern is detected by the detection means.例文帳に追加

受信した信号をインプットキャプチャ回路で処理して得られたデータをメモリに転送して記憶し、そのメモリに記憶されているデータを基に所定の演算処理を行う通信装置において、前記インプットキャプチャ回路から出力されるデータのパターンを検出する検出手段と、その検出手段で所定のデータのパターンが検出されたときに、それ以降のデータを前記メモリに転送させて記憶させる記憶制御手段とを有する。 - 特許庁

The wiring forming method includes: patterning a silver halide emulsion onto at least one surface side of a substrate in accordance with a wiring pattern to form a patterned emulsion layer made of the silver halide emulsion on at least the one surface side of the substrate; exposing the patterned emulsion layer; and performing development processing for the exposed patterned emulsion layer to form a patterned conductive silver layer as the wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンに応じて、ハロゲン化銀乳剤を基板の少なくとも片側表面上にパターニングして、前記基板の少なくとも片側表面上に前記ハロゲン化銀乳剤からなるパターン化された乳剤層を形成し、前記パターン化された乳剤層を露光した後、前記露光されたパターン化された乳剤層を現像処理して、パターン化された導電性銀層を前記配線パターンとして形成することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

Therefore, surreptitious use of various kinds of parameters in the sound processing, which utilizes the intentional input signals such as impulse being a signal for making the frequency characteristic flat or a regular pattern, a noncorrelation signal such as white noise and a signal with extremely large correlation such as a pulse waveform, can be prevented.例文帳に追加

これにより、周波数特性が平坦又は規則的パターンとなる信号であるインパルスやホワイトノイズのような無相関信号、またはパルス波形のように相関の極端に大きな信号のような作為的入力信号を利用した音響処理の各種パラメータの盗用を防止することが可能になる。 - 特許庁

In the controllers, a table processing unit 6 performs scheduling wherein a frequency Fn and a carrier frequency Fcn at a time Tn according to an operation pattern are set, the carrier frequency is decreased as needed in acceleration and deceleration of a speed command, and the carrier frequency is restored in acceleration, thereby obtaining torque responsiveness needed in acceleration and deceleration period.例文帳に追加

この装置において、テーブル処理部６は運転パターンに従った時刻Ｔｎにおける周波数Ｆｎとキャリア周波数Ｆｃｎが設定され、速度指令の減速時に必要に応じてキャリア周波数を下げ、加速時にキャリア周波数を元に戻し、加減速期間に必要なトルク応答を得るスケジューリングとする。 - 特許庁

To obtain an apparatus and the like of measuring eccentricity of a patterning disk capable of highly accurately measuring eccentricity of a fine recording pattern of the patterning disk and measuring eccentricity of the patterning disk by only small change of a measuring device utilizing a conventional image processing technique without using an expensive and complicated device.例文帳に追加

パターニングディスクの記録パターンが微細化しても高精度にその偏芯量の測定が可能であり、かつ高価で複雑な装置を用いなくても従来の画像処理の手法を利用した測定装置の小変更のみでパターニングディスクの偏芯量の測定が可能なパターニングディスクの偏芯測定装置等が得ること。 - 特許庁

To provide an image data creation method capable of solving a problem in association with projection transformation and creating an artificial image model to be used for pattern matching, especially, solving a problem in an image processing system which uses a stereo optical system for performing three-dimensional measurement and creating an image model with influences by projection distortion.例文帳に追加

投影変換に伴う問題点を解決して、パターンマッチングに使用する人工画像モデルを作成すること、特に、３次元測定をするためのステレオ光学系を用いた画像処理システムにおいて問題点が解消され、投影歪みの影響を取り入れた画像モデルを作成できる画像データ作成方法を提供する。 - 特許庁

Mounted electronic component information, head number information of mounting head to be used, and illumination unit number information are transferred from a control unit 30 to an image processing unit 35, which determines a luminance table number and a lighting pattern on the basis of those pieces of information and transfers them to a lighting control unit 43, so that they are stored in a memory 46.例文帳に追加

装着電子部品情報、使用する装着ヘッド番号情報、照明ユニット番号情報を制御部３０から画像処理部３５へ転送し、この画像処理部３５はこれらの情報をもとに輝度テーブル番号、点灯パターンを決定して、照明コントロール部４３へ転送され、メモリ４６に格納する。 - 特許庁

When using the photosensitive dry film resist, by light-shielding only the holes to be filled by a film mask or a straight drawing device and executing full exposure, the dry film resist of a hole part to be filled is removed in development processing, and only the holes desired to be filled are selectively exposed with high accuracy equivalent to a pattern forming technology.例文帳に追加

感光性ドライフィルムレジストを使用する場合には、フィルムマスクまたは直描装置にて埋める穴部のみを遮光し全面露光することで、現像処理にて埋める穴部のドライフィルムレジストが除去され、パターン形成技術と同等の高精度で埋めたい穴のみを選択的に露出させることができる。 - 特許庁

The portable telephone 90 chooses a location area identity of sharing pattern according to the mobile property of the portable telephone 90 predetermined established to the portable telephone 90 on the basis of exchange identity contained in a control signal received from a base station, and performs location registration processing using this location area ID.例文帳に追加

携帯電話機９０は、基地局から受信した制御信号に含まれる交換機ＩＤに基づいて、当該携帯電話機９０に対して予め設定された当該携帯電話機９０の移動機特性に応じた区分パターンのロケーションエリアＩＤを選択し、このロケーションエリアＩＤを用いて位置登録処理を行う。 - 特許庁

The biometrics authentication apparatus 1 includes a light source 10, a detection part 11a, a transmittance distribution filter 11, a microlens array 12, a near-infrared ray transmitting filter 13, an imaging device 14, an image processing part 15, a pattern holding part 16, an authentication part 17, a light source driving part 181, an imaging device driving part 182 and a control part 19.例文帳に追加

生体認証装置１は、光源１０と、検知部１１ａと、透過率分布フィルタ１１と、マイクロレンズアレイ１２と、近赤外光透過フィルタ１３と、撮像素子１４と、画像処理部１５と、パターン保持部１６と、認証部１７と、光源駆動部１８１と、撮像素子駆動部１８２と、制御部１９とを備える。 - 特許庁

Then, when drawing processing is completed and printing start request is made to an engine part 108, start of the image formation process of MYK of a plane of color where drawing point discrimination is performed and a plane of a color used by the stamp pattern is performed by the engine part 108, synchronized with the imaging process operation of the engine part 108, and the data are printed and outputted.例文帳に追加

そして、描画処理が完了し、エンジン部１０８に印刷起動を行う際、描画点判別された色のプレーンとスタンプパターンが使用する色のプレーンのＭＹＫの作像プロセス起動をエンジン部１０８で行い、エンジン部１０８の作像プロセス動作に同期させて印刷出力する。 - 特許庁

A measuring surface S1 is scanned by an electron beam B2 and the detection of an electron beam back scattering diffraction pattern by a detection part 6 and the analysis of data D1 by a data processing part 9 are performed in relation to the respective pixels in the measuring surface S1 to obtain the two-dimensional distribution data K1 of a crystal orientation related to the measuring surface S1.例文帳に追加

電子ビームＢ２によって測定面Ｓ１を走査し、測定面Ｓ１内の各ピクセルに関して、検出部６による電子線後方散乱回折パターンの検出、及び、データ処理部９によるデータＤ１の解析を行うことにより、測定面Ｓ１に関する結晶方位の二次元分布データＫ１が得られる。 - 特許庁

Namely, among tables to be used for selecting a ready-to-win pattern during the special period, a table selected with the suggestive performance of 'school of fish' is only a second big win table to be used for processing in S75, and the second big win table is selected only when the probability variation big win occurs (S73: Yes and S74: Yes).例文帳に追加

即ち、特別期間中のリーチパターンの選定に使用するテーブルのうち「魚群」の示唆演出が選定されるテーブルを、Ｓ７５の処理で使用する第２大当たりテーブルのみとし、第２大当たりテーブルは確率変動大当たりが発生する場合（Ｓ７３：Ｙｅｓ、Ｓ７４：Ｙｅｓ）にのみ選定する。 - 特許庁

A CPU 31 in an image processing section 3 calculates variation in the brightness of image data, i.e. the device pattern of a semiconductor wafer picked up at an image pickup section 2, finds the distribution width D and the central value M of brightness, and corrects them to have specified distribution width D2 and central value M2, thus correcting variation in the brightness of the image data.例文帳に追加

画像処理部３内のＣＰＵ３１により、画像撮像部２で撮像された半導体ウェハのデバイスパターンである画像データの明るさのばらつきを計算し、明るさの分布幅Ｄと中央値Ｍを求め、所定の分布幅Ｄ２と中央値Ｍ２となるように補正し、画像データの明るさのばらつきを補正する。 - 特許庁

Such a flexure blank for a magnetic head as equipped with the flying lead 8 is processed in a manner that, after a surface protective layer 9 is formed for a wiring pattern 7, a corrosion-resistant thin film layer like a thin film chrome layer 10 is formed at least on the outer face of the flying lead 8 as an etching pre-processing for a spring metallic layer 1.例文帳に追加

このようなフライングリ−ド８を備えた磁気ヘッド用フレクシャーブランクは、配線パタ−ン７に対する表面保護層９を形成した後に、バネ性金属層１に対するエッチング前処理として少なくともフライングリ−ド８外面に薄膜クロム層１０等の耐腐食性薄膜層を形成する。 - 特許庁

When the symbol collation is performed from the tail end symbol of the identical symbol string toward the head while assigning numbers 1-n to the head of the identical symbol string to the tail end thereof, the retrieval processing part 12 shifts, when it fails the k-th (2≤k≤n) symbol collation, the pattern by k pieces of symbols to perform the symbol collation again.例文帳に追加

また、検索処理部１２は、同一記号列の先頭から最後尾まで１〜ｎの番号を付けて、同一記号列の最後尾の記号から先頭に向かって記号照合を行う際に、ｋ（２≦ｋ≦ｎ）番目の記号照合に失敗したときは、パターンをｋ個分シフトして再度記号照合を行う。 - 特許庁

Therefore, processing can be performed using a rule checker such as DRC, LVS, ERC and the like, bugging is suppressed and the layout pattern can be obtained more accurately.例文帳に追加

第２パターンを含むマスクを用いた場合、第２の黒領域と白領域とを透過する光強度が平均化されて中間調の光強度を得る正常なパターンとして扱うことができるため、ＤＲＣや、ＬＶＳ、及びＥＲＣ等、ルールチェッカにより処理することが可能となり、バグ発生を抑え、より正確なレイアウトパターンを得ることができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer processing system for improving the manufacturing yield of a semiconductor by drastically making uniform the thickness distribution of a photoresist film on a wafer, for reducing the deviation of the line width of a pattern, and efficiently suppressing the contamination of the wafer in a housing by dust or the like.例文帳に追加

ウェハ上のフォトレジスト膜の厚さ分布が格段に均一になってパターンの線幅の偏差が減少し、しかも塵埃等によるハウジング内におけるウェハの汚染を効率よく抑制することによって、半導体の製造収率を向上させることができる半導体ウェハプロセッシングシステムを提供すること。 - 特許庁

A region A corresponding to the output from the first OSD plane 23A and a region B corresponding to the output from the second OSD plane 23B are set as a region for performing a CRC arithmetic operation in an image of one frame formed by a plurality of image processing circuits according to an input test pattern.例文帳に追加

入力されるテストパターンに応じて複数の画像処理回路が形成する１フレームの画像において、第１ＯＳＤプレーン２３Ａからの出力に対応する領域Ａと、第２ＯＳＤプレーン２３Ｂからの出力に対応する領域ＢとをＣＲＣ演算する領域として設定する。 - 特許庁

A determination threshold generating processing apparatus PS2 generates a determination threshold based on an average value and a dispersion value of the sensor data in each divided zone divided by the optimum division pattern, and determines whether the latest sensor data in each divided zone is normal or abnormal based on the generated determination threshold.例文帳に追加

また、判定閾値生成処理装置ＰＳ２において、上記最適な分割パターンにより分割された分割区間ごとに、そのセンサデータの平均値と分散値をもとに判定しきい値を生成し、この生成された判定閾値をもとに上記各分割区間における最新のセンサデータが平常であるか非平常であるかを判定する。 - 特許庁

To provide a method for producing a copolymer for semiconductor lithography, controlling a composition of a repeating unit containing a hydroxyl group in a low molecular weight region to improve shift pattern shape in a semiconductor lithography process which is a factor largely affecting a processing precision, an integration degree and yield.例文帳に追加

加工精度に大きく影響し、集積度やさらには歩留まりを左右する大きなファクターである、半導体リソグラフィー工程におけるレジストパターン形状を改善するために低分子領域における水酸基含有繰り返し単位の組成を制御した半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁

Classification sections 64 to 66 use data selected by a selection pattern corresponding to filter coefficients of an LPF 61, an HPF 62, and an HPF 63 to apply classification processing to a MUSE moving picture after interpolation whose frequency band is divided by the LPF 61, the HPF 62, and the HPF 63 and outputs class codes.例文帳に追加

クラス分類部６４〜６６は、ＬＰＦ６１、ＨＰＦ６２及びＨＰＦ６３で周波数帯域分割された補間後のＭＵＳＥ動画信号に対して、該ＬＰＦ６１、ＨＰＦ６２及びＨＰＦ６３のフィルタ係数に対応した選択パターンで選択されたデータを用いてクラス分類処理を施し、クラスコードを出力する。 - 特許庁

In the one line printing processing, the flushing printing is executed on a cloth while moving a cloth holding frame in the forward moving direction in a main scanning direction, and pattern printing is executed on the cloth so as to overlap on the flushing printing while moving the cloth holding frame in the backward moving direction in the main scanning direction.例文帳に追加

その１ライン印刷処理においては、主走査方向において、布保持枠を主走査方向における往動方向へ移動させながら布地にフラッシング印刷を行い、布保持枠を主走査方向における復動方向へ移動させながら、フラッシング印刷に重ねるように布地に模様印刷を行う。 - 特許庁

The pigment 20 is formed of inks discharged from a plurality of the nozzles 111a which are aligned in a scanning direction perpendicular to the transfer direction of the printing medium 10, and the drop-amount increase and decrease part performs the increase and decrease processing of the drop amount 21 at an increase and decrease pattern which is reverse to those of the inks discharged from the adjacent nozzles.例文帳に追加

画素２０は、印刷媒体１０の搬送方向と直交する走査方向に配列された複数のノズル１１１ａから吐出されるインクにより形成され、ドロップ量増減部は、隣接するノズルから吐出されるインクとは逆の増減パターンでドロップ量２１の増減処理を行う。 - 特許庁

Further, the exposure method includes acquiring second OPE error corresponding to the first and second transcriptional pattern portions transcribed with the exposure apparatus to which the first and second correction amounts are imparted, and performing exposure processing with the exposure apparatus by the exposure apparatus to which the first correction amount and the second correction amount are imparted, when the second OPE error is included in a predetermined range.例文帳に追加

第１補正量及び第２補正量が与えられた前記露光装置による第１及び第２の転写パターン部分に対応する第２のＯＰＥ誤差を取得し、第２のＯＰＥ誤差が所定範囲に含まれている場合に、第１補正量及び第２補正量を与えた露光装置により露光処理を行う。 - 特許庁

An image forming apparatus includes an automated pattern update section 274 that decides, based on a job log, a shift time in each time zone to shift the apparatus from a normal conductive state to a power saving state and a display processing section 286 that indicates the decision situation of the shift time in each time zone on a display apparatus by the time zone.例文帳に追加

画像形成装置は、ジョブログに基づいて各時間帯における通常の通電状態から節電状態へ移行するまでの移行時間を決定するオートパターン更新部２７４と、各時間帯における移行時間の決定状況を時間帯別に表示装置に表示させる表示処理部２８６とを含む。 - 特許庁

The image processing unit 220 includes a PSF determination unit which determines a point spread function defining the blur caused by the hand shake for each image on the basis of the hand shake information and a time encoding pattern, an image restoration unit which uses the point spread function to restore each image, and an image combination unit which combines the plurality of restored images.例文帳に追加

画像処理部２２０は、手振れ情報および時間符号化パターンに基づいて、各画像の手振れによるぼやけを規定する点広がり関数を決定するＰＳＦ決定部と、点広がり関数を用いて各画像を復元する画像復元部と、復元された複数の画像を合成する画像合成部とを有する。 - 特許庁

A plurality of domains having patterns similar in shapes (similar domains) are extracted from SEM images of low resolutions which are picked up while suppressing the irradiation energy of an electron beam, and an image of one pattern of a high resolution is formed from a plurality of image data on the domains by image restoration processing.例文帳に追加

電子線の照射エネルギーを抑えて撮像した低分解能なＳＥＭ画像から形状が類似するパターンを持つ領域（類似領域）を複数抽出し、複数の前記領域の画像データから画像復元処理により一枚の高分解能な前記パターンの画像を生成することを特徴とする。 - 特許庁

An information processing system 10 extracts the plurality of patterns of subtrees from an information group with a tree structure, and generates the feature information of each of those extracted patterns, and classifies the patterns on the basis of the generated feature information of each of those patterns, and generates display information for displaying each pattern according to the classification result.例文帳に追加

情報処理システム１０は、木構造の情報群から部分木の複数のパターンを抽出し、抽出された各パターンの特徴情報を生成し、生成された各パターンの特徴情報に基づいて、当該各パターンを分類し、その分類結果に応じて各パターンを表示する表示情報を生成する。 - 特許庁

The correction function creation step creates the optical condition correction function that corrects a lighting parameter other than an exposure amount to be used in exposure processing onto the first substrate based on exposure coordinates within the first substrate surface on the basis of a substrate in-surface size distribution of a pattern formed on a second substrate.例文帳に追加

補正関数作成ステップでは、第１の基板上への露光処理に用いる露光量以外の照明パラメータを前記第１の基板面内の露光座標に基づいて補正する光学条件補正関数を、第２の基板上に形成したパターンの基板面内寸法分布に基づいて作成する。 - 特許庁