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processing patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3997件
To provide a game machine capable of preventing a game from becoming monotonous without reducing player's desire to play while suppressing the increase of the processing loads of a main control means in the game machine wherein a display control means controls the display of a pattern display device on the basis of a command from the main control means.例文帳に追加
主制御手段からの指令に基づいて表示制御手段が絵柄表示装置の表示制御を行う遊技機において、主制御手段の処理負荷が増大化することを抑制しつつ、遊技者の遊技意欲を減退させることなく遊技の単調化を抑制することが可能な遊技機を提供する。 - 特許庁
The method for obtaining the stencil mask 100 comprises steps of forming an indium oxide thin film 11 on the supporting substrate 1 comprising a silicon wafer to manufacture the substrate 10 for the stencil mask, forming an opening 31 in the supporting substrate 1 by pattern-processing the supporting substrate 1 and the indium oxide thin film 11, and forming a charged beam transmitting hole 12 in the indium oxide thin film 11.例文帳に追加
シリコンウェハーからなる支持基板1上に酸化インジウム薄膜11を形成してステンシルマスク用基板10を作製し、支持基板1及び酸化インジウム薄膜11をパターニング処理して支持基板1に開口部31、酸化インジウム薄膜11に荷電ビーム透過孔12を形成してステンシルマスク100を得る。 - 特許庁
The signal processing device includes a memory storing therein luminance distribution data of transmission light on the mask substrate prior to forming a mask pattern, and correction means which corrects the luminance signal outputted from the photodetection means or the intensity of illumination light emitted from the light source on the basis of the luminance distribution data.例文帳に追加
信号処理装置は、マスクパターンが形成される前のマスク基板の透過光の輝度分布データを記憶したメモリと、前記輝度分布データに基づいて前記光検出手段から出力される輝度信号又は光源装置から放出される照明光の強度を補正する補正手段を有する。 - 特許庁
To provide a process release material given by using an acrylic resin as a material for a release layer, improved in releasability of the release layer from artificial leather, capable of being prevented from adhesion of a resin of the release layer to an embossing roll in case of emboss processing, and having the release layer furnished with an embossed pattern of a clear profile.例文帳に追加
本件は、離型層の材料としてアクリル系樹脂を用い、離型層の合成皮革との剥離性を向上させた工程離型材であり、エンボス加工時に離型層の樹脂がエンボスロールに付着することもなく、輪郭のはっきりしたエンボスパターンを離型層に付与することができるものである。 - 特許庁
To provide an electronically controlled sewing machine capable of embroidery sewing and a recording medium recording a display data preparation and storage control program for preparing subtractive color display data by executing a subtractive color processing to the color display data of an embroidery pattern and rewritably storing the subtractive color display data in a nonvolatile storage medium.例文帳に追加
刺繍模様のカラー表示データに減色処理を施して減色表示データを作成し、その減色表示データを不揮発性記憶媒体に書換え可能に記憶させるようにしてた刺繍縫製可能な電子制御ミシン及び表示データ作成記憶制御プログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁
In the synchronization processing method for synchronizing the running key generated from a common key in common key cipher communication using multi-valued signals and used for ciphering and deciphering, the transmission side transmits prescribed fixed pattern signals composed of the multi-valued signals before transmitting a common key cipher.例文帳に追加
多値信号を用いた共通鍵暗号通信における共通鍵から生成され暗号化及び復号化に用いられるRunning鍵を同期させるための同期処理方法において、送信側は、共通鍵暗号を送信する前に多値信号からなる所定の固定パターン信号を送信する。 - 特許庁
Accordingly, compared with conventional game specifications of carrying out big win processing of the same pattern if the win/lose lottery is won, and then changing the game specifications of the normal game only by the presence/absence of probability variation, the game variation can be remarkably increased, and the amusement of the game can be enhanced.例文帳に追加
このため、従来のように、当/外抽選に当選したら同じパターンの大当たり処理を実行し、その後、確変の有無によってのみ通常遊技の遊技仕様に変化をもたらしていた遊技仕様に比べ、格段に遊技のバリエーションを増大させることができ、遊技の趣向性を高めることができる。 - 特許庁
To provide a monomer polymer and an organic composition containing the same for forming an organic anti-reflection film which absorbs a light-exposing origin between a layer to be etched and a photoresist film in order to prevent a pattern disintegration under the influence of a standing wave generated at the lower part of a photoresist film at the time of a photolithographic processing.例文帳に追加
本発明は、フォトリソグラフィ工程時にフォトレジスト膜の下部で発生した定在波の影響によるパターンの崩壊を防止するために、被エッチング層とフォトレジスト膜との間で露光源を吸収する有機反射防止膜形成用単量体、重合体及びこれを含む有機組成物が開示される。 - 特許庁
To relieve the burden on an operator when rejection is caused and to attain a high speed and highly precise character recognition processing in a character recognizing device for performing feature extraction from a character pattern of a document image having an area where handwritten characters and typed characters are entered mixedly and performing character recognition by being collated with a recognition dictionary.例文帳に追加
手書き文字と活字文字が混在して記入される領域を有する文書画像の文字パターンから特徴抽出を行ない、認識辞書との照合によって文字認識を行なう文字認識装置で、リジェクトが発生したときのオペレータの負担を軽減し、高速で高精度な文字認識処理を可能とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor sensor provided with a cover plate, which does not require detailed positioning of the cover wafer upon exposing an electrode pad by processing the cover wafer after mounting the cover wafer in a wafer state, and preventing damage to a wiring pattern and the electrode pad and occurrence of residues of the cover wafer.例文帳に追加
カバー板を備えた半導体センサの製造方法において、ウェハ状態でカバーウェハを搭載した後にカバーウェハを加工して電極パッドを露出させる際にカバーウェハの詳細な位置合わせを必要とせず、かつ、配線パターン及び電極パッドの損傷及びカバーウェハの残渣物の発生を防止する。 - 特許庁
When a packet received in a deep sleep mode matches a packet stored in a WOL pattern storage area 406, a network part 310 executes response processing according to the matching packet after a power supply mode of a power supply device 40 is returned from the deep sleep mode to an ordinary mode.例文帳に追加
ネットワーク部310は、ディープスリープモードにおいて受信したパケットがWOLパターン記憶領域406に記憶されたパケットと一致した場合は、電源装置40による電力供給モードをディープスリープモードから通常モードに復帰させた後に一致したパケットに応じた応答処理を実行する。 - 特許庁
The image processing part 12 determines the dirt on the printed matter when the number of colored pixels of the inspection image is over the maximum value, and determines the deficiency of the pattern 2 when the number is below the minimum value, based on the maximum value and the minimum value of the number of colored pixels of each row of pixels in the standard image information.例文帳に追加
画像処理部12は、基準画像情報における画素の列毎の着色画素数の最大値と最小値に基づいて、被検査画像の着色画素数がこの最大値を上回った場合に、印刷物の汚れを判定し、最小値を下回った場合に、絵柄2の欠損と判定する。 - 特許庁
A substrate processing apparatus includes a lithographic apparatus which comprises an illumination system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements serving to impart the projection beam with a pattern in its cross-section, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of a substrate.例文帳に追加
基板処理装置は、放射の投影ビームを供給するための照明システム、投影ビームの断面にパターンを付与するべく機能する個々に制御可能な複数のエレメントのアレイ、及びパターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムを備えたリソグラフィ装置を備えている。 - 特許庁
To improve position detection precision of a scanning part of an image reader, which detects a reference position in a sub-scanning direction by detecting an image pattern for position detection irradiated with light by a light source, while reducing an increase in processing time.例文帳に追加
光源によって光が照射された位置検出用画像パターンを検出することにより副走査方向の基準位置を検出する画像読取装置において、処理時間の増大を低減しつつ走査部の位置検出精度を向上することができる画像読取装置、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁
In wirings having a structure that consists of a first layer metal film wiring, a second metal film wiring having a constant side etching portion and an insulating film pattern, a field plating processing is performed to the concave region corresponding to a side etching portion of the second layer metal film wiring and low resistance metal such as Cu and Ag is made to electrodeposit thereon.例文帳に追加
第1層金属膜配線と、一定のサイドエッチング部を有する第2層金属膜配線と、絶縁膜パターンの3層膜から成る構造の配線に於いて、電界メッキ処理により前記第2層金属膜配線のサイドエッチング部に相当する凹形領域に、銅や銀の低抵抗金属を電着させる。 - 特許庁
To provide an image processing program, device and method, capable of easily controlling the smoothing strength or emphasizing strength without determining complicated parameter in the adaptive filtering process, and obtaining a stable and high-quality medical image by reducing the image noise while inhibiting generation of mosaic pattern noise.例文帳に追加
適応型フィルタ処理において複雑なパラメータを決定することなく、平滑化強度または強調化強度を容易にコントロールでき、モザイク状のパターンノイズの発生を抑制しながら画像ノイズを低減し、安定した高画質の医用画像を得ることができる画像処理プログラム、装置及び方法を提供する。 - 特許庁
On the other hand, the substrate W on which pattern exposure processing is carried out by the exposure unit EXP is received by a return transfer robot RBR to be placed on a return substrate placement part RPASS, and then is transferred by a transfer robot TR4 to any one of PHP 7 through PHP 12 that perform post-exposure baking process.例文帳に追加
一方、露光ユニットEXPにてパターン露光の施された基板Wは戻り搬送ロボットRBRによって受け取られて戻り基板載置部RPASSに載置された後、搬送ロボットTR4によって露光後加熱処理を行う加熱部PHP7〜PHP12のいずれかに搬送される。 - 特許庁
To provide a development device used for manufacturing a color filter capable of performing development processing which resolves fluctuation of a developing time exposed to a developing solution due to location of the substrate, hardly causes fluctuation of in-plane dimensions of the substrate, gives uniform thickness and stable pattern shape, and is excellent in reproducibility; and to provide a method of manufacturing color filter using the development device.例文帳に追加
基板の場所による現像液に曝される現像時間の変動を解消し、基板の面内の寸法バラツキの少ない、均一な厚さ、パターン形状が安定した再現性の優れた現像処理するカラーフィルタの製造に用いる現像装置及びこれを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することである。 - 特許庁
To select and determine the best measurement result, this device 1 includes two stripe pattern projection sections 2a, 2b for projecting stripe patterns to a measurement region 10 of an object to be measured, an imaging section 3, and a three-dimensional measurement processing section 4 for finding a three-dimensional shape of the measurement region 10 based on data from the imaging section 3.例文帳に追加
本装置1は、最良の計測結果を選択して決定するため、被計測物体の計測領域10に縞パターンを投影する2つの縞パターン投影部2a,2bと、撮像部3と、撮像部3からのデータを基に計測領域10の3次元形状を求める3次元計測処理部4とを備える。 - 特許庁
The subject game machine is so constituted that a CPU (central processing unit) mounted on a display control board, when no new starting conditions of a special pattern game are formed after special patterns and character patterns are stationarily displayed on respective display positions, selectively determines character image data corresponding to the display patterns stationarily displayed on the respective display positions and predetermined random number values.例文帳に追加
表示制御基板に搭載されたCPUは、各表示位置に特別図柄やキャラクタ図柄が停止表示された後、新たに特図ゲームの開始条件が成立しないときに、各表示位置に停止表示されている表示図柄と所定の乱数値とに対応するキャラクタ画像データを選択決定する。 - 特許庁
When receiving a winning time display result specifying command, a CPU (central processing unit) 112 stores information indicating a display result specified by the winning time display result specifying command corresponding to a storage number matched with a holding number specified by a winning time special pattern storage information command in the display result storage area of a RAM 114.例文帳に追加
CPU112は、入賞時表示結果指定コマンドを受信したときに、RAM114の表示結果記憶エリアにて、入賞時特図記憶情報コマンドで指定された保留番号に合致する記憶番号と対応付けて、入賞時表示結果指定コマンドで指定された表示結果を示す情報を格納する。 - 特許庁
Color filters of a plurality of colors are arranged basically under a first repetitive pattern in both row and column directions of a photoelectric conversion element array and a color filter is disposed separately from the first repetitive pattern such that color filters of the same color are disposed, respectively, above at least four photoelectric conversion elements which can be handled as one pixel in signal processing by performing vertical addition and horizontal addition of charges.例文帳に追加
光電変換素子列方向および光電変換素子行方向のいずれの方向についても基本的に第1の繰返しパターンの下に複数色の色フィルタを配列する一方で、電荷の垂直加算および水平加算を行って信号処理上1つの画素として扱うことのできる少なくとも4個の光電変換素子それぞれの上方に同色の色フィルタが配置されるように、前記第1の繰返しパターンから外れて配置されたパターン外色フィルタを配置する。 - 特許庁
The upper electrode 105 for a parallel-plate plasma processing apparatus includes a substrate 105a formed of a desired dielectric, and a dielectric layer 110 formed at least partially on the lower electrode 210 side surface of the plasma processing apparatus out of the surface of the substrate 105a, the dielectric layer 110 having a sparse and dense pattern where the outside of the lower electrode 210 side surface is denser than the inside.例文帳に追加
平行平板型のプラズマ処理装置用の上部電極105であって、所望の誘電体から形成された基材105aと、前記基材105aの表面のうち、少なくとも前記プラズマ処理装置の下部電極210側の表面の一部に形成された導電体層110と、を含み、前記導電体層110は、前記下部電極210側の表面の外側が内側より密になるように疎密のパターンを有する上部電極105が提供される。 - 特許庁
When a recessed part formation area for shifter part formation is patterned, photoresist is applied on one surface of a substrate directly or via a metal film, the recessed part formation area of the photoresist is selectively exposed by a photorepeater, and further development processing is carried out to form a resist pattern having the recessed part formation area opened.例文帳に追加
シフター部形成用の掘り込み部形成領域のパタンニングの際、フォトレジストを、基板の一面上に、直接あるいは金属膜を介して塗布形成し、フォトリピータで、前記フォトレジストの掘り込み部形成領域を選択的に露光し、更に現像処理を施し、掘り込み部形成領域を開口したレジストパタンを形成するレジストパタン形成工程を有す。 - 特許庁
In each of the processing, each braille pin of a braille display section 1100 equipped with the mobile phone 10 is suitably raised by driving control of a braille driving section 1000, and for example, a content of the unread mail, a content of an electronic mail during preparing and a telephone number under telephone call etc. are displayed as a braille pattern.例文帳に追加
これらの各処理において、携帯型電話機10に備わる点字表示部1100の各点字ピンは点字駆動部1000による駆動制御によって適宜隆起し、携帯型電話機10における、例えば未読メールの内容や作成中の電子メールの内容や、通話時の電話番号等が点字パターンとして表示される。 - 特許庁
The plurality of nodes 1 to 4 monitor the operations of the respective nodes, and when the generation of any failure is detected, the respective nodes 1 to 4 in the cluster 100 excluding the node of failure read the takeover information from the shared storage device 6, and take over the processing of the node where any failure is generated based on the pattern of the failure and the takeover information.例文帳に追加
複数のノード1〜4は相互に稼動状態を監視し、障害の発生を検知したときには、障害が発生したノードを除くクラスタ100内の各ノード1〜4が、共有ストレージ装置6から引き継ぎ情報を読み込んで、障害のパターンと引き継ぎ情報に基づいて障害が発生したノードの処理を引き継ぐ。 - 特許庁
The inspection program can sufficiently be verified since the inspection program is verified by reproducing all the processing flows, which can not be conventionally confirmed, in advance by inverting an expectation value of a test pattern (S10) and adding a mode (S101) to perform the inspection when the semiconductor integrated circuit inspection program is verified.例文帳に追加
半導体集積回路検査プログラムを検証する際に、試験パターンの期待値を反転させて(S102)検査を行うモード(S101)を追加することにより、従来では確認できなかった全ての処理フローについて事前に再現して検査プログラムの検証を行うことができるため、検査プログラムの検証を不足なく行うことができる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a transparent conductive laminate which improves pattern alignment accuracy of a plurality of transparent conductive films by suppressing a dimensional change due to heat applied during a post process by conducting crystallization of a transparent conductive layer in a short time and a heat contraction processing of a substrate prior to patterning and joining of the conductive layer.例文帳に追加
短時間で透明導電層を結晶化させること、及び、基板の熱収縮処理を行い、導電層のパターニング、貼り合せの前に、後工程で加えられる熱による寸法変化を抑制することで、複数の透明導電性フィルムのパターン位置合わせ精度を向上させる透明導電性積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁
To reliably detect an original file margin, the edge of an original and the tilt angle of the original even if a thin book original of which outer shape is difficult to discriminate or a tilted book original by accurately detecting the original file margin and the original edge independently of the luminance of an original background pattern in a position detector and an image processing device having it.例文帳に追加
位置検出装置とそれを有した画像処理装置において、原稿下地模様の輝度値に関わらず、原稿綴じ部や原稿エッジを正確に検出し、しかも、原稿外形が判定しにくい薄手のブック原稿や、傾いたブック原稿の画像であっても、原稿綴じ部、原稿エッジ及び原稿傾斜角を確実に検出する。 - 特許庁
A texture expression processing part 14 receives selection of an irradiation angle and an observation angle to the three-dimensional structure and selection of material quality of the three-dimensional structure to specify the three-dimensional structure expressed by synthesis information and the spectral reflectance of each part of the pattern from the color sample information stored in a color sample database 18 according to the received information.例文帳に追加
質感表現処理部14が立体構造物への照射角度と観測角度の選択と、立体構造物の材質の選択とを受付けて、その受付けた情報に基づいて合成情報で表す立体構造物と図柄の各部分の分光反射率を色見本データベース18で記憶する色見本情報から特定する。 - 特許庁
Second, when a rear end part 12B is formed, the part (covered part) covered by the buffer layer among the precursor main magnetic pole layers is doubly covered by a precursor nonmagnetic layer pattern (the prearrangement layer of the nonmagnetic layer 13) and the buffer layer 15, and accordingly the position of the flare point FP preliminarily fixed is prevented to deviate when the precursor main magnetic pole layer receives etching processing.例文帳に追加
第2に、後端部12Bを形成する際、前駆主磁極層のうち、バッファ層により覆われている部分(被覆部)は、前駆非磁性層パターン(非磁性層13の前準備層)およびバッファ層15により二重に覆われているため、前駆主磁極層にエッチング処理を施した際、あらかじめ設定されたフレアポイントFPの位置ずれが防止される。 - 特許庁
In interruption processing by a reset signal, when a game ball enters a normal electric accessory and a first-kind starting port switch guides out a starting signal, a numerical value is extracted from a propriety random number H1 and a probability fluctuation random number L to be used in common for preparing a left pattern at the time of starting of the starting signal and this is stored in a memory.例文帳に追加
リセット信号による割込み処理において、普通電動役物36に遊技球が入賞し第1種始動口スイッチ36aが始動信号を導出すると、その始動信号の立ち上がり時に、当否乱数HIT及び左図柄作成兼用確率変動乱数Lから数値を抽出してこれをメモリに格納する。 - 特許庁
For example, when an ON/OFF switch 9 is turned on to read a dot pattern from a character area "English 1" of an English study book, a voice recorder 1 executes analysis processing of a read image, outputs code information, performs reference by use of the input code information, and outputs, from a speaker 3, voice of a teacher of English as a content corresponding to a mode 1.例文帳に追加
本発明のボイスレコーダ1は、たとえば、オンオフスイッチ9がオンされて英語学習帳の文字領域「英語1」からドットパターンを読み取った際、読み込んだ画像の解析処理を実行してコード情報を出力し、入力されたコード情報を用いて参照し、モード1に対応するコンテンツとして英語の先生の音声をスピーカ3から出力する。 - 特許庁
An F side line memory controlling part 121F exchanges F side input image data and data from an F side line memory 120F, also receives ambient pixel data necessary to pattern matching from an L side line memory controlling part 121L, forms a matrix of a processing object pixel and its ambient pixels and gives the matrix to an isolated point detecting part 122F and a ruggedness detecting part 123H.例文帳に追加
F側ラインメモリ制御部121FはF側の入力画像データとF側ラインメモリ120Fからのデータ授受の他に、パターンマッチングに必要な周辺画素データをL側ラインメモリ制御部121Lから受け取って処理対象画素およびその周辺画素のマトリクスを形成し、孤立点検出部122Fおよび凹凸検出部123Hへ渡す。 - 特許庁
An image processing unit for outputting image data comprises a position detection means for determining the current position of unit, a position information generating means for generating a dot pattern based on position information, an addition means for adding the position information to the image data, and an output means for outputting a result added by the addition means.例文帳に追加
画像データを出力する画像処理装置において、装置の現在位置を知る位置検出手段と、位置情報に基づくドットパターンを発生する位置情報発生手段と、前記画像データに前記位置情報を付加する付加手段と、前記付加手段で付加した結果を出力する出力手段とを備えることを特徴とする画像処理装置。 - 特許庁
In this method for processing the seam between the composed images of the present invention, an image pattern 22 extended along the seam 3 is superposed to eliminate the strange feeling in the seam between an image 1 image-picked up using one camera 12 mounted on a vehicle 10 and an image 2 image-picked up using the other camera 13 mounted on the vehicle 10.例文帳に追加
本発明の合成画像間のつなぎ目部処理方法は、車両10に搭載されている一のカメラ12を用いて撮像された画像1と車両に搭載されている他のカメラ13を用いて撮像された画像2との間のつなぎ目部3の違和感を解消するためにつなぎ目部3に沿って延びる画像パターン22を重畳させる。 - 特許庁
A plurality of kinds of correction patterns stored in a brain wave processing part 71 in advance is compared with a correction pattern of a brain wave signal, whether the correction patterns agreed with each other exist or not, is determined, and whether the instruction of correction is appropriate or not is determined on the basis of the detected present position and the displayed present position when the agreed correction patterns exist.例文帳に追加
脳波処理部71にあらかじめ記憶されている複数種類の補正パターンと、脳波信号の補正パターンとを比較して、一致する補正パターンが存在するか否かを判定し、一致する補正パターンが存在する場合には、検出された現在位置と表示された現在位置とに基づいて、補正の指示が適切であるか否かを判定する。 - 特許庁
In the high voltage connection part 13-11 of an ion beam processing observation pattern producing device 1 as the high voltage appliance, a filling material for preventing dew concentration and humidity absorption is filled in the gap 13-113 between a connection bushing 13-111 on the transmitting side and a flange 13-112 on the receiving side, so that the increase of leak currents is inhibited and the dielectric strength is increased.例文帳に追加
高電圧機器としてイオンビーム加工観察パターン生成装置1の高電圧接続部13−11では、送電側の接続ブッシング13−111と受電側フランジ13−112間の間隙部13−113に結露吸湿防止用の充填材を充填することにより、リーク電流の増大を抑制して絶縁耐力を高める。 - 特許庁
When the determination results in steps SC13 and SC15 in special symbol start processing are negative, a CPU for main control determines whether a losing symbol is a second losing symbol between first and second losing symbols in step SC17, and determines the second losing symbol and a variation pattern P5 for specified losing variation when the determination result is affirmative.例文帳に追加
特別図柄開始処理におけるステップSC13,SC15の判定結果が否定の場合、主制御用CPUは、ステップSC17においてはずれ図柄を第1,第2はずれ図柄のうち第2はずれ図柄とするか否かを判定するとともに、この判定結果が肯定の場合に第2はずれ図柄、及び特定はずれ変動用の変動パターンP5を決定する。 - 特許庁
In the data format in which a unit being one unit of signal processing for reproducing data is constituted of a plurality of tracks, the preamble, such as, gain control pattern and synchronizing which are added to data to control reproduction of data is arranged so that the positions in the direction of progress of a track does not overlap the preamble of the other track in the same unit.例文帳に追加
データ再生のための信号処理の一単位であるユニットが複数のトラックで構成されたデータフォーマットにおいて、データ再生制御のためにデータに付加されるゲイン制御パターン及び同期パターンなどのプリアンブルを、同一ユニット内の他のトラックのプリアンブルに対してトラックの進行する方向での位置が重ならないように配置する。 - 特許庁
There is provided a music processing method including the steps of: determining code values according to a volume transition in every certain period starting from a coding start position on a time axis in music data; and generating a characteristic pattern indicating a characteristic of a volume transition of the music data using a series of the code values determined over a plurality of periods.例文帳に追加
楽曲データ内の時間軸上の所定の符号化開始位置から一定の区間ごとに、音量の変化に応じて符合値を決定するステップと、複数の区間にわたって決定された一連の前記符号値を用いて、前記楽曲データの音量変化の特徴を表す特徴パターンを生成するステップと、を含む楽曲処理方法を提供する。 - 特許庁
The compatibility between the measures against dielectric breakdown of the display device and the circuit inspection on the processing substrate can be realized by facilitating switching between the short-circuiting state and opening state across the signal input terminals of the display device by the contact and non-contact between this wiring pattern 0901 and detachable conductive tool 0902.例文帳に追加
この配線パターン0901と脱着可能な導電性器具0902との接触と非接触によって、表示装置の信号入力端子同士をショートする状態とオープンにする状態との切り替えを容易にすることにより、加工基板上の表示装置の静電破壊防止対策と回路検査との両立を実現する。 - 特許庁
In a method of forming a marker MX for double-gate SOI processing on an SOI wafer, at least one marker has a diffracting structure in a first direction, and the diffracting structure is positioned so as to generate an asymmetrical diffraction pattern during use in an alignment and overlay detection system for detection in the first direction.例文帳に追加
SOIウエハ上でのダブルゲートSOI処理のためのマーカーMXの作成方法においては、少なくとも1つのマーカーは第1方向への回折構造を有し、回折構造は、第1方向における検出のために、配列及びオーバレイ検出システムで用いている間に、非対称的回折パターンを生成するよう配置される。 - 特許庁
A clipping prevention device quickly performs gain control, without giving the user a sense of incongruity, by performing signal level compression processing to a digital sound signal S2 on the basis of a compression pattern, corresponding to a set clip amount (α-β), after subtracting a maximum amplification factor β when performing 0 dB reproduction from a user variable amplification factor α.例文帳に追加
本発明は、ユーザ可変増幅率αから0dB再生時最大増幅率βを減算した設定クリップ量(α−β)に応じた圧縮パターンに基づいてディジタル音声信号S2に対して信号レベル圧縮処理を施すようにしたことにより、素早くかつユーザに違和感を与えることなくゲイン制御を行うことができる。 - 特許庁
By such a specified game processing, in the case that a replay pattern is stopped without being able to stop a specified small role on a valid line at the time of stopping a first reel aiming at the specified small role by spot pressing in one game during the CT, when replay is not internally won in the game, the replay role is established by the stoppage of the remaining reels.例文帳に追加
このような特定遊技処理によれば、CT中の1ゲームにおいて、目押しにより特定の小役を狙って第1リールを停止させた際に、特定の小役を有効ライン上に停止できずにリプレイ図柄が停止した場合、当該ゲームでリプレイに内部当選していなければ、残りのリールの停止によりリプレイ役を成立させることができる。 - 特許庁
In a game machine provided with a display controller 50 for controlling the variable display of a plurality of patterns on a display part, the display controller 50 has multiple display processing means (53, 55. 60, 54, ...) dividing at least one pattern among the plurality of patterns displayed by the part 59 into plurality and displaying them in parallel.例文帳に追加
この発明は、表示部59での複数図柄の可変表示の制御を行う表示制御装置50を備えた遊技機において、表示制御装置50は、表示部59に表示された複数図柄のうちの少なくとも一つの図柄を複数化し複数に表示する複数化表示処理手段(53,55.60,54,…)を有する、ことを特徴としている。 - 特許庁
Information padding in arbitrary images is enabled by preparing an area having a fixed scanning configuration irrespective of change, in a modulus of scanning area in a screen shape used in a screen processing to reproduce a gradation image on a printed matter, to make the scanning configuration of the area a suitable graphic for pattern matching or frequency characteristic.例文帳に追加
印刷物上で階調画像を再現する処理であるスクリーン処理の際に用いるスクリーン形状に、画線面積率の増減にかかわらず、一定の画線構成を有する領域を設け、その領域の画線構成がパターンマッチングや周波数特性に適した図形とすることによって、任意の画像に情報の埋め込みを可能とする。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus which can display an image which can be easily recognized by a person on a drawing region and of exhibiting excellent advertising/promoting functions, especially when the image is an advertisement, such as a commercial or promotion video, by changing the image processing pattern of the image displayed on the drawing region according to the distance between the drawing region and the person.例文帳に追加
描画領域と人間との距離に応じて、描画領域に表示される画像の画像処理パターンを変更することにより、前記人間に認識され易い画像を描画領域に表示し、特に画像がコマーシャル、プロモーションビデオ等の宣伝である場合に、優れた宣伝広告機能を発揮することのできる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
Thereby, damping operation in which recording quality is preferred can be achieved, while a processing system is not largely changed from the conventional system, and increment of device manufacturing cost can be suppressed, by performing that setting instruction of recording speed of preferential recording quality for a drive side from a host side is performed depending on existence of the prescribed data pattern in the speed instruction information.例文帳に追加
これにより記録品質を優先したダビング動作を実現できると共に、ホスト側からドライブ側への記録品質優先の記録速度の設定指示を上記速度指示情報における上記所定データパターンの有無により行うようにしたことで、処理体系を従来から大幅に変更せずに済むものとでき、装置製造コスト増加を抑制できる。 - 特許庁
To provide an optical imprint method that measures a remaining film thickness of a dummy pattern so as to recognize a remaining film amount after imprint without cutting an effective region, to allow the same substrate, whose remaining film thickness is actually measured, to advance to etching being the next process, to feedback the remaining film amount to the etching conditions, and consequently, to reliably achieve stable processing.例文帳に追加
本発明は、ダミーパターンの残膜厚さを測定することで、有効領域を切断することなくインプリント後の残膜量を把握することができ、残膜厚さを実際に測定した同一基板を次工程であるエッチングに進めることができ、残膜量をエッチング条件にフィードバックさせることが可能であり、確実に安定した加工を実現できる。 - 特許庁
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