「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(74ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a data transmission system that adds a flag (bit pattern) denoting a start and an end of transmission data being data of optional bit streams to the transmission data, assembles the data into frames, transmits the frames and facilitates inserted bit retrieval processing by a receiver.例文帳に追加

任意のビット列のデータを伝送データとし、この伝送データの開始と終了とを示すフラグ（ビットパターン）を上記伝送データに付加し、フレーム化して伝送する方式において、受信装置における挿入ビット検索処理が容易となるデータ伝送方式を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

When speaker units SP are disposed in mirror symmetry, a DSP 10 has the ability of generating a parameter for signal processing only for a directivity pattern belonging to one of respective sectors obtained by bisecting a space that the speaker array 40 faces by a mirror symmetry plane.例文帳に追加

スピーカユニットＳＰの配置が鏡面対称の場合、ＤＳＰ１０は、スピーカアレイ４０が対面する空間を鏡面対称面により二等分した各セクタのうち一方のセクタに属する指向性パターンのみについて信号処理用のパラメータを発生する能力を持つ。 - 特許庁

A binarizing part 2 binarizes a video signal VD1 to be inputted from an A/D converter 12 and a video signal VD2 to be outputted from a line memory 1, by using a mean luminance value LU to be applied from an in- detecting window video signal processing part 5 as a threshold value, and outputs a binary pattern BI.例文帳に追加

２値化部２はＡ／Ｄコンバータ１２より入力される映像信号ＶＤ１およびラインメモリ１から出力される映像信号ＶＤ２を検出ウィンドウ内映像信号処理部５から与えられる平均輝度値ＬＵをしきい値として２値化し、２値化パターンＢＩを出力する。 - 特許庁

A bit plane coding pass generation section reads data on whether it is a predetermined area or is significant (S) or non-significant (N) at the periphery from a memory when processing quantization coefficients for each coding block that is divided by a bit plane by the SP passes, which is compared with an S/N matching pattern.例文帳に追加

ビットプレーン符号化パス生成部は、ビットプレーンに分割された符号ブロック毎の量子化係数をＳＰパスで処理する際に、予め定めたエリア及びその周囲における有意（ｓｉｇｎｉｆｉｃａｎｔ：Ｓ）か否か（ｎｏｎ−ｓｉｇｎｉｆｉｃａｎｔ：Ｎ）のデータをメモリから読み出し、これをＳ／Ｎマッチングパターンと比較する。 - 特許庁

To provide a halftone-type EUV mask produced by selecting the material of a halftone film that has no only wide selectivity (flexibility) of reflectivity and high cleaning liquid-resistance, but also high processing accuracy of etching, a halftone-type EUV mask blank, a production method of the halftone-type EUV mask and a pattern transfer method.例文帳に追加

反射率の選択性の広さ（自由度）と洗浄液耐性の高さを持つと同時に、エッチングの加工精度が高くなるハーフトーン膜の材料を選定したハーフトーン型ＥＵＶマスク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクブランク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクの製造方法及びパターン転写方法を提供すること。 - 特許庁

With respect to the basic edge pattern, when adjacent blocks are in the same inclination direction as that of a target block, the CPU 160 executes edge connection processing of cumulatively adding burr widths (widths of a gradient of a change in a pixel value) of the blocks with each other, calculates a blur width of the target block and determines block burr.例文帳に追加

そして、この基本エッジパターンについて、注目ブロックと隣接するブロックが同じ傾き方向であれば、これらのブロック同士のぼやけ幅（画素値の変化の勾配の幅）を累積加算するエッジ連結処理を実行して、注目ブロックのぼやけ幅を算出し、ブロックぼやけ判定を行う。 - 特許庁

This signboard for the countermeasure against the disaster is a signboard for a countermeasure against a disaster composed of a base material formed of metal and a pattern formed on the base material; and is characterized in that a recessed part is formed by processing a surface of the base material by etching, and a luminous agent is applied to such a recessed part.例文帳に追加

本発明の災害対策用標示板は、金属で形成された基材と、基材に形成された図柄とで構成される災害対策用標示板であって、前記基材の表面をエッチング加工により凹部を形成すると共に、かかる凹部に蓄光剤を塗布したことを特徴とする。 - 特許庁

A substrate of this invention is a substrate for thin film pattern formation in which banks are provided on its substrate and liquid thin film material is filled between the banks by the ink jet method or the like, and the bank is a one on which ruggedness processing is applied to at least a part of the surface of a side wall face or the like.例文帳に追加

基板上にバンクが設けられ、バンク間にインクジェット法等により液状の薄膜材料が充填される薄膜パターン形成用基板であって、上記バンクは、側壁面等の表面の少なくとも一部に凹凸加工が施されたものである薄膜パターン形成用基板である。 - 特許庁

When the drawing instruction does not consider the resolution (S225: NO), the printer driver executes a drawing processing by increasing the width of a line used as a drawing object or the size of a unit pattern used for fill at magnification equivalent to a ratio of the resolution of a drawing area for display to that of a drawing area for print (S235).例文帳に追加

解像度を考慮していない場合は（Ｓ２２５：ＮＯ）、表示用描画領域と印刷用描画領域との解像度比に相当する倍率で、描画対象となる線の太さないし塗りつぶしに使う単位パターンの大きさを拡大して、描画処理を実行する（Ｓ２３５）。 - 特許庁

To provide a preprocessing method capable of executing preprocessing in an iterative solution with preprocessing to a coefficient matrix with an irregular and sparse non-zero pattern on a parallel computer having vector computing function at high speed by reducing the frequency of synchronization processing, and a matrix reordering method used therefor.例文帳に追加

同期処理の回数を削減し、ベクトル演算機能を有する並列計算機上で非ゼロパターンが不規則でスパースな係数行列に対する前処理付き反復解法における前処理を高速に実行できる前処理方法およびそれに用いる行列リオーダリング方法を提供する。 - 特許庁

This mask for reflection type exposure includes: a first layer formed on a support substrate 100 and having a low-reflection processing pattern absorbing exposure light and a reflective multilayer film 101 reflecting exposure light; and a second layer formed on the reflective multilayer film 101 and having an absorber layer 120 absorbing exposure light.例文帳に追加

支持基板１００上に形成され、露光光を吸収する低反射加工パターンと露光光を反射する反射多層膜１０１とを有する第１の層と、反射多層膜１０１上に形成され、露光光を吸収する吸収体層１２０を有する第２の層とを備える。 - 特許庁

The base-reactive, surface-modifying agent is reactive to hydroxide and increases the surface hydrophobicity of a pattern formed in a layer of the radiation-sensitive composition upon treatment with a basic developing solution during lithographic processing of a substrate.例文帳に追加

塩基に反応性の表面を改質する薬剤は、水酸化物に対して反応性のものであると共に基体のリソグラフィーの加工をする間に塩基性の現像する溶液での処理の際に放射に敏感な組成物の層に形成されたパターンの表面の疎水性を増加させる。 - 特許庁

The photoresist is exposed to actinic radiation in a pattern such that when the photoresist is subsequently developed, a perimeter region of the photoresist remains over the perimeter region of the carrier and extending inward over the periphery of the thin film sufficiently to secure the thin film during conveyorized chemical processing.例文帳に追加

フォトレジストがその後に現像されるときに、フォトレジストの辺縁領域がキャリアの上に残り、さらにコンベアを有する化学的加工の間に薄膜を固定するのに充分となるように、薄膜の辺縁上で内側方向に延びるようなパターンの化学線で、フォトレジストが露光される。 - 特許庁

To provide a wiring layout device for a semiconductor integrated circuit for reducing fluctuation in a wiring pattern dimension due to processing, improving accuracy of delay analysis in a layout design step, and facilitating attainment of a target operation frequency of a circuit.例文帳に追加

ダミー配線を極力付加することなく、加工による配線パターン寸法変動を抑制し、レイアウト設計段階で遅延解析をより正確にし、回路の目標動作周波数達成を容易化する半導体集積回路の配線レイアウト装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a piezoelectric vibrator that enables collective processing in a wafer state while ensuring the flexibility in designing a wiring pattern provided inside a multilayer structure, thereby improving the efficiency of manufacture, to provide a method of manufacturing the piezoelectric vibrator, and to provide an oscillator.例文帳に追加

本発明は、多層構造の内部に設けられる配線パターンの設計の自由度を確保しつつ、ウエーハ状態での一括処理を行うことができ、従って製造効率を向上させることができる圧電振動子及びその製造方法並びに発振器を提供することを目的とする。 - 特許庁

A CPU 50 performs control for making the speaker array 40 perform acoustic playback by a designated directivity pattern in mirror-surface symmetry with respect to a virtual plane including an axis going perpendicularly through the center of the speaker array 40 according to a signal processing control program 61.例文帳に追加

ＣＰＵ５０は、信号処理制御プログラム６１に従い、指定された指向性パターンであって、スピーカアレイ４０の中心を垂直に貫く軸を含む仮想平面について鏡面対称な指向性パターンでの音響再生をスピーカアレイ４０に行わせる制御を行う。 - 特許庁

After a mask pattern is formed by making the layout of a cell library subjected to the OPC processing, the correction amount of the OPC is adjusted by taking into consideration the influences of patterns of other cell libraries laid around the cell library on the peripheral region of the cell library.例文帳に追加

あらかじめＯＰＣ処理が施されたセルライブラリをレイアウトしてマスクパターンを形成した後、セルライブラリの周囲に配置された他のセルライブラリのパターンがセルライブラリの周辺領域に及ぼす影響を考慮することによって、上記ＯＰＣ補正の補正量を調整する。 - 特許庁

While a channel part ch of the thin film transistor Tr is prevented from being irradiated with light of a shorter wavelength than a wavelength 260 nm, the resist pattern 24 after dry processing is irradiated thereafter at least either ultraviolet rays or visible light under a dry environment.例文帳に追加

その後、薄膜トランジスタＴｒのチャネル部ｃｈに対して波長２６０ｎｍよりも短波長の光が照射されることを防止した状態で、乾燥雰囲気下において乾燥処理後のレジストパターン２４に対して紫外線または可視光の少なくとも一方を照射する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of improving coverage property and shorten the time of data processing of a wiring pattern even when a via hole whose aspect ratio exceeds 1 is formed in an insulating film and a film for flattening on an insulating film in a multilayer film wiring structure.例文帳に追加

多層膜配線構造において絶縁層および絶縁層上の平坦化用の膜にアスペクト比が１を超えるビアホールを形成する場合であってもカバレッジ性の向上を図ることができ、配線パターンのデータ処理の時間を短縮化することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

The pattern inspection device further includes a means for converting the gradation of image signals between the compared images in a plurality of different processing units.例文帳に追加

上記課題を解決するために、本発明では、同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、複数の検出系とそれに対応する複数の画像比較処理方式を備えて構成した。 - 特許庁

To provide a new trimming die for a false nail for accurately performing a process of forming a rupturing cutoff in a film or a sheet so as to be rupturable along a pattern for the false nail and a process of curvedly processing an take nail shape in a single process.例文帳に追加

フィルムまたはシートに、付け爪用表示に沿って破断できるように破断用切り込みを形成する工程と、付け爪形状として湾曲成形するための工程とを一工程で、しかも高精度で行うことができる、新規な付け爪用抜き型を提供する。 - 特許庁

At the time of interruption processing of the next reset signal (4 ms later from the first reset signal), the fluctuation of all of the left, intermediate and right patterns is started with a prescribed fluctuation pattern and the random number HIT and the random number L are read and judged.例文帳に追加

その次のリセット信号の割込み処理の際（最初のリセット信号から４ｍｓ後）、左・中・右の全図柄を所定の変動パターン（図１１参照）にて変動を開始させるとともに、当否乱数ＨＩＴ、左図柄作成兼用確率変動乱数Ｌの読出及び判定を行う。 - 特許庁

When the printer 20 receives the image data subjected to CMY conversion transmitted from the PC 10 and the Anoto pattern data, a printing processing part 203 synthesizes the data in accordance with control information of toner amounts of color input from a layer thickness control part 202 and forms a color image.例文帳に追加

プリンタ２０がＰＣ１０から送信されてきたＣＭＹ変換された画像データと、アノトパターンデータとを受信すると、印刷処理部２０３は、層厚制御部２０２から入力される色のトナー量の制御情報に従い、それぞれのデータを合成してカラー画像を形成する。 - 特許庁

The silicon processing method includes: forming a mask pattern on a single-crystal silicon substrate 100 of which principal surface is (100) an equivalent face 103 or (110) an equivalent face; and applying crystal anisotropic etching to form a structure comprising (111) an equivalent face and having width W1 and length L1.例文帳に追加

シリコンの加工方法で、主面が（１００）等価面１０３或いは（１１０）等価面である単結晶シリコン基板１００上に、マスクパターンを形成し、結晶異方性エッチングを施して、（１１１）等価面で構成され幅Ｗ１と長さＬ１を有する構造体を形成する。 - 特許庁

Further, the electronic watermark information embedded to the video signal is subjected to inverse spread processing on the basis of the spread pattern comprising the spread codes set to each frame the same as the case with embedding of the electronic watermark information to the video image to detect the electronic watermark information embedded to the video image.例文帳に追加

また、映像に対する電子透かし情報の埋め込み時と同一の各フレーム毎に設定された拡散符号からなる拡散パターンに基き映像信号に埋め込まれた電子透かし情報の逆拡散を行い、映像に埋め込まれた電子透かし情報を検出するようにする - 特許庁

The forged bill detector 1 includes an LED 3 for emitting ultraviolet rays, a light receiving element 5, an ON/OFF switch 9, and a signal processing circuit 6 for judging the authenticity of a bill to be inspected by discriminating the ultraviolet emitting pattern of the bill based on an output from the element 5 in a case 2.例文帳に追加

偽札検出装置１は、ケース２の内部に、紫外線発光用のＬＥＤ３と、受光素子５と、オンオフ用のスイッチ９と、受光素子５の出力に基づき、検査対象の紙幣の紫外線発光パターンを識別して、真偽の判別を行う信号処理回路６とを備えている。 - 特許庁

To provide an antenna-measuring device capable of omitting operation processing at near-field to far-field conversion, and accurately measuring the state where an antenna to be measured is fixed, when measuring at a close distance, a radiation pattern in the distance from the antenna to be measured.例文帳に追加

本発明は、近傍界・遠方界変換についての演算処理を省略することができるとともに、被測定アンテナの遠方での放射パターンを近傍距離にて測定する際に、被測定アンテナを固定した状態で精度よく測定することができるアンテナ測定装置を提供する。 - 特許庁

The standard deviation and the mean value of brightness of a picture element in image data forming a device pattern of a semiconductor wafer picked up by an image pickup part 2 are calculated by a CPU 31 in an image correction processing part 3, and the standard deviation and the mean value of brightness of the image data is corrected.例文帳に追加

画像補正処理部３内のＣＰＵ３１により、画像撮像部２で撮像された半導体ウェハのデバイスパターンである画像データの画素の明るさの標準偏差及び平均値を計算し、画像データの明るさの標準偏差及び平均値を補正する。 - 特許庁

To provide a composite member, having high flexibility in the design of a conductive circuit, with no influence on selecting the material of an insulator or molding and processing the insulator at a low cost, having no abnormal deposition of a metal on the insulator and being capable of easily forming a conductive part that has a fine pattern.例文帳に追加

導電回路設計の自由度が高く、低コストで絶縁部の材料選択性や成形加工性に影響を及ぼさず、かつ絶縁体への金属の異常析出がなく微細なパターンを有する導電部を容易に形成することのできる複合部材を提供する。 - 特許庁

This device has an imaging device 11 for photographing an article image, a storage part for storing a model image, and a recognition processing part 14 for performing pattern matching by comparing the image of the character string included in the article image with the model image, and detecting the existence, the position, the angle, the direction or the inclination of the article.例文帳に追加

物品の画像を撮影する撮像装置１１と、モデル画像を格納する記憶部と、前記物品の画像に含まれる文字列の画像を前記モデル画像と比較してパターンマッチングを行い、前記物品の有無、位置、角度、向き、又は、傾きを検出する認識処理部１４とを有する。 - 特許庁

In the method for measuring the resistance of the coating film, which is covered with a cover material, by a fall-of-potential method, an interruptor turned ON/OFF by an M system code pattern is installed on a current-carrying cable and the obtained potential difference is subjected to cross-correlation processing.例文帳に追加

上記課題は、被覆材に被覆された塗膜抵抗を電位降下法で測定する方法において、通電ケーブルにＭ系列符号パターンによりオン／オフするインタラプタを設置し、得られた電位差を相互相関処理することを特徴とする塗膜抵抗の測定方法によって解決される。 - 特許庁

At the second stop of the reel, the slot machine sets the priority value for a stop table having a 21-piece area corresponding to the reel stop position and then selects a control method from among the control-processing control, which stops the reel according to the priority value, and the table control, according to the first stop reel appearing pattern.例文帳に追加

リールの第二停止の際には、リールの停止位置に対応する２１コマの領域を有する停止テーブルに対して優先値を設定した上で、優先値に従いリールを停止させるコントロール制御と、テーブル制御とのうちから制御方式を第一停止リールの出目に応じて選択する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a shadow mask which is capable of preventing the occurrence of variations in the pattern dimensions of a resist film after development processing in consequence of the differences in the degrees of progression of the dark reaction and residual reaction in the resist film along the longitudinal direction of a long-sized metallic thin film which is a shadow mask blank.例文帳に追加

シャドウマスク素材である長尺の金属薄板の長手方向に沿ったレジスト膜中の暗反応及び残反応の進行度合いの差に起因して、現像処理後のレジスト膜のパターン寸法にばらつきが発生することを防止できるシャドウマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

Also, the control part 16 fetches road surface irradiation by the stand-by vehicle at the junction through an image sensor SEN and an image processing MPU 11, and when recognizing a road surface irradiation pattern from the fetched image, the control part 16 returns a vehicle ID signal transmitted from the stand-by vehicle.例文帳に追加

また、制御部１６は、交差路での待機車両による路面照射を画像センサＳＥＮおよび画像処理ＭＰＵ１１を通じて取り込み、この取り込まれた画像から路面照射パターンを認識すると、待機車両から送信された車両ＩＤ信号を返信する。 - 特許庁

The machine is provided with a judgment part (ST13 and ST14) for acquiring the value of the counter 51 and performing the drawing processing on the basis of the value in the case that an entry to a pattern start port is detected and an initialization part (ST33) for initializing the value of the counter 51 for each game.例文帳に追加

図柄始動口への入賞が検出された場合には、カウンタ５１の値を取得してその値に基づいて抽選処理を行う当否判定部（ＳＴ１３，ＳＴ１４）と、カウンタ５１の値を１ゲーム毎に初期設定する初期設定部（ＳＴ３３）とを備える。 - 特許庁

When permitting transition to the travelling environment, the after-processing means determines the permission of the transition in the case that the new travelling environment continues for a predetermined time or the vehicle is in a predetermined travelling condition, e.g. Then, the shift pattern is changed corresponding to the estimated new travelling environment.例文帳に追加

後処理手段によって走行環境の移行が許可されたとき、例えば新たな走行環境が所定時間継続したときや車両が所定の走行状態のときに移行許可の判定が行われ、推定された新たな走行環境に応じた変速パターンに変更される。 - 特許庁

In a CMOS image sensor in which an image pickup part 10A has a valid pixel part 1 and invalid pixel parts 2-5 and signal processing is performed by reading signals of respective pixels for the unit of a pixel stream, a part of the invalid pixel parts 2-4 is equipped with an optical black part (OB part) 2 for fixed pattern noise correction.例文帳に追加

撮像部１０Ａに有効画素部１と無効画素部２〜５を有し、各画素の信号を画素列単位で読み出して信号処理を行うＣＭＯＳイメージセンサにおいて、無効画素部２〜４の一部に固定パターン雑音補正用のオプティカルブラック部（ＯＢ部）２を設ける。 - 特許庁

A link processing part 6 discriminates whether or not the character data converted from the ID image and character data read in the past and stored in a storage part 8 can be connected according to a connection pattern embedded in each ID image showing the combination of ID images to be connected.例文帳に追加

リンク処理部６は、ＩＤ画像から変換された文字データと、過去に読み取られ、記憶部８に記憶されている文字データとを、各ＩＤ画像に埋め込まれている、結合すべきＩＤ画像の組み合わせを示す結合パターンに従って結合可能か否かを判別する。 - 特許庁

Furthermore, an error storage memory 65 requires storage of the binary processing error E by several lines to generate the code component pattern, and since the error storage memory 65 is so far provided to calculate a weight average error Eav, it is not required to provide a new memory.例文帳に追加

また、符号成分パターンを作成するために、誤差格納メモリ６５に数ライン分の２値化誤差Ｅを格納する必要があるが、誤差格納メモリ６５は重み付け平均誤差Ｅａｖを算出するために従来から設けらているものであり、新たなメモリを設ける必要はない。 - 特許庁

To provide a light guide plate, and a method of manufacturing the same, having a perfect uniform-brightness fine pattern formed on a reflecting face in comparatively short time (shortening of processing time) through prevention of printing omission at an edge part of the light guide plate that is a problem in screen printing.例文帳に追加

本発明は、スクリーン印刷の問題点である導光板の縁部の印刷漏れを防止し、比較的短時間（加工時間の短縮化）で反射面に完全な輝度均斉化微細パターンを形成した導光板及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The generated plurality of voice signals are processed and synthesized in a voice processing section 24, based on an assignment pattern set by a frequency band assignment section 20, localization set by a localization assignment section 22, and a time difference of reading start time set by a time assignment section 23.例文帳に追加

生成された複数の音声信号は、周波数帯域割り当て部２０が設定した割り当てパターン、定位割り当て部２２が設定した定位、時間割り当て部２３が設定した読み始めの時間差に基づき、音声処理部２４でそれぞれ処理され合成される。 - 特許庁

The pile fabric provided with a color pattern on the pile surface is obtained by sewing a pile using a dyed acrylic fiber and by using the color change of a pile part dyed at a low temperature by operations of heating temperature conditions and a heating method of pile processing such as a tenter process and a polishing process of pile sewing.例文帳に追加

アクリル系繊維を、染色した繊維を用いてパイルを縫製し、パイル縫製のテンター工程やポリッシング工程等のパイル加工の加熱温度の条件及び加熱方法の操作にて、低温で染色したパイル部が色変化する事を用いて、パイル表面に色模様を付与したパイル布帛。 - 特許庁

Besides, photographing other than the subject photographing is performed by using the correction subject 101 with a regular pattern formed on the surface part, and a coefficient necessary for an affine transformation processing and the correction coefficient of color and brightness are obtained based on the image data obtained by the photographing, and the photographed subject image is corrected.例文帳に追加

また、表面部に規則的な模様を設けた補正用被写体101 を用いて、被写体の撮影とは別個に撮影を行い、その撮影で得られた画像データに基づいてアフィン変換処理に必要な係数や、色や輝度の補正係数を求めて撮影被写体像を補正する。 - 特許庁

This moisture-permeable waterproof camouflage fabric is printed by a camouflage pattern showing ≥5% reflectance of fabric surface and ≤60% multistage reflectance in an infrared wavelength range from 1,000 nm to 1,400 nm and is subjected to moisture permeable waterproof processing having ≥2 kg/cm2 waterproof pressure and ≥5,000 g/m2.24 hours moisture permeability.例文帳に追加

１０００ｎｍから１４００ｎｍの赤外線波長領域において、布帛表面反射率が５％以上、６０％以下の多段階反射率を示す迷彩模様を捺染し、２kg/cm^2以上の耐水圧と５０００g/m^2・24hrs以上の透湿性を有する透湿防水加工を施す。 - 特許庁

A display control processing part 32 makes a display pattern based on the management data outputted from a game control micro-computer 21, flashing the matrix LEDs 11 in plural display devices 10 disposed in juxtaposition, controlling the flash so that it looks as if the flashing light were flowing like a stream above plural pachinko machines 20.例文帳に追加

また、表示制御処理部３２はゲーム用マイコン２１から出力される管理情報に基づいて流れ表示パターンを作成し、並設した複数の表示器１０におけるマトリクスＬＥＤ１１を明滅せしめて複数のパチンコ機２０の上方にて明滅状態が流れるように制御する。 - 特許庁