「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

Here, the diamond coating film 17 is formed on the rake surface 14 and an outer peripheral surface 16 for forming a blade surface among the processing blade part 16, and the diamond coating film 17 is not formed on a thinning surface 11, a flank 12 and a third surface 13.例文帳に追加

ただし、加工刃部１６のうち刃面を構成するすくい面１４や、外周面１６にはダイヤモンド皮膜１７が形成されているが、シンニング面１１や逃げ面１２や３番面１３にはダイヤモンド皮膜１７が形成されていない。 - 特許庁

A first print surface P1 and a second print surface P2 are formed on one same surface of a base material 30 in the two unit regions, a parallax image printed on the first print surface while an address printed on the second print surface in one print processing simultaneously.例文帳に追加

この２個の単位領域に、それぞれ第１の印刷面Ｐ１と第２の印刷面Ｐ２とを、基材３０の一方の同じ面に形成し、第１の印刷面に視差画像を、第２の印刷面に宛名を、一回の印刷処理で同時に印刷する。 - 特許庁

The method of processing the glass substrate has a first step S1 for polishing the processing surface of the glass substrate, a third step S3 and a forth step S4 for forming an etching mask on the processing surface and a fifth step S5 for pattern-forming a micro-processed uneven structure on the processing surface of the glass substrate by wet-etching.例文帳に追加

本発明のガラス基板の加工方法は、ガラス基板の被加工面を研磨する第１工程Ｓ１と、前記被加工面にエッチングマスクを形成する第３工程Ｓ３及び第４工程Ｓ４と、湿式エッチング処理により前記ガラス基板の被加工面に前記微細凹凸構造をパターン形成する第５工程Ｓ５と、を有する。 - 特許庁

To provide an easily operated and handled mobile data processing handset 1 for processing a rule breach, etc., detected by an operator 2 with a casing 3 which has a front surface 4/a back surface including a data processing unit and provided with a data inputting apparatus 6 and an instructing apparatus 5 for outputting image/processing/control information on the front surface.例文帳に追加

前面４／裏面を持ち、データ処理ユニットを含んでいるケーシング３を備え、前面にデータ入力装置６並びに画像／処理／制御情報を出力するための指示装置５が設けられている、操作員２によって検出された規則違反等を処理するためのモバイルデータ処理ハンドセット１を簡便に操作取り扱いできるようにする。 - 特許庁

To provide a rear surface cleaning apparatus capable of well cleaning the rear surface of a substrate without turning the substrate up side down, and to provide a substrate processing apparatus equipped with the rear surface cleaning apparatus and a rear surface cleaning method.例文帳に追加

基板の表裏を反転させることなく基板の裏面を良好に洗浄することができる裏面洗浄装置、該裏面洗浄装置を備えた基板処理装置および裏面洗浄方法を提供する。 - 特許庁

Surface processing is applied to the stamper attaching surface 56S and a modified part AR having hardness higher than that of the matrix of the second mirror surface plate is formed over a predetermined range from the stamper attaching surface 56S.例文帳に追加

そして、前記スタンパ取付面５６Ｓには表面加工が施され、スタンパ取付面５６Ｓから所定の範囲にわたって、硬度が第２の鏡面板の母材より高い改質部ＡＲが形成される。 - 特許庁

By projecting the obtained gel-formed polishing agent in an inclined angle towards the surface of the workpiece in the blast-processing, the surface of the workpiece is processed into the mirror surface, etc., without forming a satin-finished surface.例文帳に追加

このようにして得られたゲル状研磨材を，被加工物の表面に対して傾斜した角度で投射するブラスト加工に使用すると，被加工物表面を梨地化することなく，鏡面等に加工することができる。 - 特許庁

To provide a decorative sheet having inside unevenness which has a production aptitude, a processing aptitude, processability into a curved surface, etc., has surface hardness and surface scratch resistance and is excellent in surface smoothness and designedness with depth.例文帳に追加

製造適性、加工適性、曲面への施工性などを有し、表面硬度、表面の耐傷付き性を有し、表面の平滑性や奥行きのある意匠性に優れた内部凹凸を有する化粧シートを提供する。 - 特許庁

Finish processing such as turning is performed to the rotating-side mounting surface 14 or both side surfaces in the axial direction of the disk which is connected and fixed to the rotating-side mounting surface 14 by using the stationary-side mounting surface 15 as a reference surface.例文帳に追加

そして、この静止側取付面１５を基準面として、この回転側取付面１４、或いはこの回転側取付面１４に結合固定したディスクの軸方向両側面に、旋削等の仕上加工を施す。 - 特許庁

The processing part 8 acquires the aspherical surface eccentricity quantity and the aspherical surface eccentricity direction of the test surface 1b from the position of the surface top 1tb and the eccentricity quantity and the eccentricity direction of paraxial curvature centers 1oa, 1ob.例文帳に追加

処理部８は面頂１ｔｂの位置と近軸曲率中心１ｏａ，１ｏｂの偏心量及び偏心方向から被検面１ｂの非球面偏心量及び非球面偏心方向を取得する。 - 特許庁

To provide a surface treated copper foil enhancing adhesiveness when gluing together by hot press processing of the surface treated copper foil having a silane coupling agent treated layer and a resin base material, a manufacturing method of the surface treated copper foil, and a copper clad laminate using the surface treated copper foil.例文帳に追加

シランカップリング剤処理層を備える表面処理銅箔と樹脂基材との熱間プレス加工し張り合わせたときの密着性を向上させる表面処理銅箔の提供を目的とする。 - 特許庁

To solve the problem that when an etchant such as hydrofluoric acid etc. is continuously supplied to and sucked from between a glass board and the surface of a workpiece such as a semiconductor substrate etc. by a processing head, the shape of the tip surface of the processing head affects the high flatness processing.例文帳に追加

加工ヘッドによりフッ酸等のエッチャントをガラス基板、半導体基板等の被加工物の表面との間に連続的に供給し吸引する際に、加工ヘッド側の先端面の形状が高平坦度の加工に影響を及ぼす。 - 特許庁

The surface processing method of the ALC panel is characterized by bringing a rotary processing device 10 into contact with the surface of the non-aged ALC panel P to apply emboss processing thereto and ageing the panel with steam to cure the same.例文帳に追加

本発明によるＡＬＣパネルの表面加工方法は、未養生のＡＬＣパネルＰの表面に、回転する加工具１０を接触させて凹凸加工を施した後、上記パネルを蒸気養生して硬化させることを特徴とする。 - 特許庁

Rolling processing of the dynamic pressure generating groove 2v is performed on a bearing sleeve 2 by using a processing tool 1 for forming a diamond-like carbon (DLC) coating film 12 on a surface (a surface of a ball 10) of a projecting part projecting from a columnar processing part 1b.例文帳に追加

円柱状の加工部１ｂから突出する凸部の表面（ボール１０の表面）に、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）被膜１２が形成された加工用治具１を用いて、軸受スリーブ２に動圧発生溝２ｖの転造加工を行なう。 - 特許庁

Immediately before and after the cleaning operation or the alignment operation of the substrate stage, rear surface cleaning processing of the cleaning substrate CW or the dummy substrate DW is executed in a rear surface cleaning processing unit SOAK2 of the substrate processing apparatus SP.例文帳に追加

また、基板ステージの洗浄作業またはアライメント作業の直前または直後に、基板処理装置ＳＰの裏面洗浄処理ユニットＳＯＡＫ２にてクリーニング基板ＣＷまたはダミー基板ＤＷの裏面洗浄処理を実行する。 - 特許庁

To provide a thermoplastic polyurethane (TPU) which has very good mechanical surface resistance and at the same time excellent technical processability, particularly a wide processing means in regard to processing temperature and does not exhibit surface faults, particularly delamination during processing.例文帳に追加

極めて良好な機械表面抵抗を有し、同時に優れた技術加工性、特に加工温度に関して広い加工手段を有し、並びに加工中に表面障害、特に層間剥離を有さない熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）を提供する。 - 特許庁

The member for the plasma processing apparatus is used for the plasma processing apparatus, and includes a base material 10, a metal coating layer 13 which is formed on a surface of the base material by plating processing, and a metallized coating layer 14 formed on the metal coating layer surface.例文帳に追加

プラズマ処理装置に用いられるプラズマ処理装置用部材であって、基材１０と、前記基材の表面にめっき処理により形成される金属被膜層１３と、前記金属被膜層表面に形成された溶射被膜層１４とを含む。 - 特許庁

To provide a processing method capable of eliminating reprocessing for removing a surface with surface oxidation discoloration by preventing surface oxidation discoloration which occurs during cutting processing of a massive object composed of copper or copper alloy, and further capable of preventing surface oxidation discoloration in the atmosphere in a workpiece after cutting processing over a long period of time.例文帳に追加

銅または銅合金からなる塊状体の切断加工中に発生する表面酸化変色を防止することで、表面酸化変色が発生した面を除去する再加工をなくすことができるとともに、切断加工後の加工物における大気中での表面酸化変色を長期間にわたって防止することができる加工方法を提供する。 - 特許庁

A substrate processing method includes: a step of holding and rotating a substrate W so as to turn the processing object surface to a lower surface; a step of supplying DIW (pure water) to the lower surface of the substrate and executing rinsing processing to the substrate; and a step of supplying mist containing IPA and an N_2 gas to the lower surface of the substrate and replacing the DIW with the IPA thereafter.例文帳に追加

基板処理方法は、処理対象面が下面となるように基板Ｗを保持して回転させる工程と、基板の下面にＤＩＷ（純水）を供給して基板にリンス処理を施す工程と、その後、基板の下面にＩＰＡ（イソプロピルアルコール）とＮ_２ガスとを含むミストを供給してＤＩＷをＩＰＡで置換する工程と、を備える。 - 特許庁

The pressurization processing equipment for transferring a pattern formed on the processing surface of a mold to the surface of a work by pressing the side of at least either of the mold and the work is constituted as follows.例文帳に追加

モールドまたは被加工部材の少なくともいずれか一方の側を加圧し、モールドの加工面に形成されたパターンを、前記被加工部材の表面に転写する加圧加工装置をつぎのように構成する。 - 特許庁

To provide a ceramic heater composed by enhancing heat equalization capability of a processing object holding surface of the ceramic heater having a surface for holding a processing object; and to provide a semiconductor or liquid crystal manufacturing device composed by mounting it.例文帳に追加

被処理物を保持する面を有するセラミックスヒータの被処理物保持面の均熱性を高めたセラミックスヒータおよびそれを搭載した半導体あるいは液晶製造装置を提供する。 - 特許庁

A traveling lane detection device includes: an imaging part loaded on a vehicle for acquiring the image of a road surface; and an image processing part for detecting a lane mark on a road surface by processing the image.例文帳に追加

本発明の走行レーン検出装置は、路面の画像を取得するために車両に搭載された撮像部と、前記画像を処理して路面上のレーンマークを検出する画像処理部とを備える。 - 特許庁

The semiconductor sensor chip 1 is mounted in the IC tip 2 for the signal processing in form, where the main surface in which the padding 15 is formed, is made to counter the main surface of the IC tip 2 for the signal processing.例文帳に追加

半導体センサチップ１がパッド１５の形成された主表面を信号処理用ＩＣチップ２の主表面に対向させた形で信号処理用ＩＣチップ２に実装されている。 - 特許庁

Grounding processing wherein the tire model grounds on the road surface model is applied such that a state that the tire grounds on a road surface and rolls is reproduced, and rolling processing is applied to the tire model to create the tire model during the rolling.例文帳に追加

タイヤが路面に接地し転動する状態を再現するように、タイヤモデルが路面モデルへ接地する接地処理を施し、前記タイヤモデルに転動処理を施して、転動中のタイヤモデルを作成する。 - 特許庁

To provide a combine harvester which can smoothly lift and escape a reaping front processing portion from the surface of a field against upward pressures, thereby preventing the thrusting of the reaping front processing portion into the surface of the field to smoothly perform reaping works.例文帳に追加

刈取前処理部を圃場面からの突き上げに対して円滑に上昇退避させることができるものとし、圃場面への突っ込みを防止して刈取作業を円滑に行なえるものとする。 - 特許庁

The deposition shield 14 improved for surrounding a processing space 12 of the plasma processing system includes a cylindrical body having: an inner surface 82; an outer surface 84; an upper end face 86; and a lower end face 88.例文帳に追加

プラズマ処理システムの処理空間１２を包囲するための改良された堆積シールド１４は、内面８２、外面８４、上端面８６、及び下端面８８を有する円筒体を具備する。 - 特許庁

To provide a surface-coated end mill and a surface-coated drill having superior lubricity and abrasion resistance, and having a long use life, even in a use environment such as dry processing and deep hole boring processing.例文帳に追加

ドライ加工、深穴あけ加工などといった使用環境下であっても、優れた潤滑性と耐摩耗性とを有して使用寿命が長い表面被覆エンドミル、表面被覆ドリルを提供する。 - 特許庁

To provide: a shaping mold for anti-reflection processing easily maintaining a surface state of a processing surface pressed against a thermoplastic resin material; a method of manufacturing the shaping mold; and a method of manufacturing an anti-reflection article.例文帳に追加

熱可塑性樹脂材に加圧される加圧面の表面状態を維持することの容易な反射防止加工用賦形型、その製造方法、及び反射防止物品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate surface-processing apparatus that etches even substrates different in substrate thickness under the same conditions to uniformly perform surface processing on the substrate, and to provide an apparatus for manufacturing a solar cell.例文帳に追加

基板厚が異なる基板に対しても同一条件でのエッチングを行い、均一に基板の表面処理を行うことができる基板表面処理装置、太陽電池セルの製造装置を得ること。 - 特許庁

Direct current discharge processing is performed by contacting a first discharge electrode with the first surface of the insulating sheet, and then direct current discharge processing of reversed polarity is performed by contacting a second discharge electrode with the same surface.例文帳に追加

絶縁シートの第１の面に第１の放電電極を接触させて直流放電処理した後、同じ面に第２の放電電極を接触させて逆極性の直流放電処理を行う。 - 特許庁

Alternatively, the temperature of the sample 6 surface is monitored and when the temperature of the sample 6 surface has become nearly the same as the temperature in a vacuum chamber, focused charged particle beam etching processing or deposition processing is started.例文帳に追加

あるいはサンプル6表面の温度をモニターし、サンプル6表面の温度が真空内の温度とほぼ同じになってから集束荷電粒子ビームエッチング加工またはデポジション加工を開始する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus for uniformly performing processing using a treatment liquid to the entire region of one surface and the other surface of a substrate by removing gas staying in the liquid-tight space of the treatment liquid.例文帳に追加

処理液の液密空間内に滞留する気体を除去し、これにより、基板の一方面および他方面の全域に処理液を用いた処理を均一に施す基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus applying uniform etching processing to the main surface of a substrate by preventing or suppressing a residual etching liquid on the circumferential portion of the main surface of the substrate.例文帳に追加

基板の主面の周縁部におけるエッチング液の滞留を防止または抑制して、基板の主面に対して均一なエッチング処理を施すことができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

This transfer apparatus 7 is used in a surface processing apparatus 6 for performing surface processing while transferring the substrate material A, wherein transfer rollers 9, 10 are arranged with a step, and the substrate material A is transferred in a curvature manner.例文帳に追加

この搬送装置７は、基板材Ａを搬送しつつ表面処理する表面処理装置６において使用され、搬送ローラー９，１０が段差配設され、基板材Ａが湾曲状に搬送される。 - 特許庁

The conveying order is decided in advance, and a surface washing processing of a substrate W with SC2 (hydrochloric hydrogen preoxide mixed water solution) is conducted before a surface processing with hydrofluoric acid.例文帳に追加

搬送の順序は予め定められており、フッ酸による表面処理の前に、ＳＣ２（塩酸過酸化水素水混合水溶液）による基板Ｗの表面洗浄処理を行うようにする。 - 特許庁

To provide a planarization processing apparatus for processing the surface of a large-sized workpiece to be flat with a less man-hour, and a method for supporting the workpiece so that the processed surface of the workpiece becomes flat.例文帳に追加

比較的少ない工数で大型のワークの表面を平坦に加工する平面加工装置を提供するとともに、加工されたワークを表面が平面になるように支持する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing method and a device capable of realizing a high accuracy of form and roughness of a processed surface in processing of an optical component or a die of a complicated shape such as a free-form surface.例文帳に追加

自由曲面のような複雑形状の光学部品や金型の加工などにおいて、高精度の形状精度、加工面粗さを実現できるプラズマ加工方法及び装置を提供する。 - 特許庁

On the outer wall of the base 7 and the outer wall 14 of the lip 8 are given crimp processing in the satin finished state as a surface irregularity processing in advance to be brought close to glaze and color of the surface processed layer 12.例文帳に追加

基部７の外壁及びリップ８の外壁１４には、表面処理層１２の光沢及び色彩に近づけるための表面凹凸加工たる梨地状のシボ加工が予め施されている。 - 特許庁

A semiconductor device is constituted in a structure that an electrical wiring circuit is provided on a processing substrate 1 consisting of a metal film, and recessed parts 10 are provided in the surface on the opposite side to the surface of the processing substrate 1 bonded with solder balls 8, for considering the heat dissipation property of the circuit.例文帳に追加

電気的配線回路を施し、かつ放熱性を考慮するために金属からなる加工基板１に、半田ボール８が接着される反対側の面に凹部１０を設ける。 - 特許庁

Since the processing liquid is prevented from crystallizing on the guide surface 150A or adhering to it, the surface of the cut recording paper is not damaged while reducing the processing liquid adhering to and spoiling it.例文帳に追加

このため、ガイド面１５０Ａで処理液が結晶化したり固着したりすることが防げるので、カット記録紙の表面を傷つけたり、汚れとして処理液が付着するのが低減できる。 - 特許庁

The image recording apparatus comprises an image recording means for recording the image on the sheet body, and the surface processing means for performing the surface processing on the sheet body on which the image is recorded by the image recording means.例文帳に追加

シート体に画像を記録する画像記録手段と、該画像記録手段により画像が記録されたシート体に表面処理を行う、前記表面処理手段とを有する画像記録装置である。 - 特許庁

A plurality of sets of ion generation electrodes facing each other are arranged near the front surface and the rear surface of a running processing object, and ions which are generated by applying AC voltage to the electrodes are irradiated on the processing object.例文帳に追加

走行する処理対象物の表面および裏面に、複数のイオン生成用電極を対向して配置して、該電極に交流電圧を印加して、生成イオンを処理対象物に照射する。 - 特許庁

To uniformly apply a processing liquid on the surface of a photographic film in a photographic film developing device in which a processing liquid such as a developer liquid is directly applied on the emulsion surface of a photographic film.例文帳に追加

現像液などの処理液を写真フィルムの乳剤面に直接塗布して現像するタイプの写真フィルム現像処理装置において、写真フィルムの表面に処理液をむらなく均一に塗布する。 - 特許庁

A crossover rack 36 which sends photographic paper P lifted from the liquid surface of stabilization processing liquid (STB) in a stabilization processing tank 23A among a plurality of stabilization processing tanks to a next stabilization processing tank 23B is equipped with a roller unit R which rotates in contact with the photographic paper P.例文帳に追加

先の安定処理槽２３Ａの安定処理液（ＳＴＢ）の液面から引き上げられた印画紙Ｐを次の安定処理槽２３Ｂに送り込むクロスオーバラック３６に対して印画紙Ｐに接触するローラユニットＲを備える。 - 特許庁

To prevent unevenness in processing of a film to be processed and the generation of damage to a processed surface due to air pooled below the film to be processed in a processing tank when a specified processing is carried out by carrying the roll state film to be processed while having it immersed in processing liquid.例文帳に追加

ロール状の被処理フィルムを処理液に浸漬しつつ搬送して所定の処理をする際、処理槽内の被処理フィルムの下面に溜まった空気により被処理フィルムの処理むらや処理面の損傷の発生を防止する。 - 特許庁