「rate process」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

The method comprises a process for coating an uneven wafer surface with a photoresist layer, to cover the undesirable characteristics in the structure of the wafer for coating to a uniform height and for obtaining the substantially flat upper surface of the photoresist layer; and a process for etching the photoresist 40, having substantially the same rate and an insulating layer 30.例文帳に追加

第１に、凸凹なウェーハ表面上にフォトレジスト層を塗布してウェーハの望ましくない構造的特徴を覆って均一な高さにコーティングし、実質的に平坦なフォトレジスト層の上部表面を得る工程と、第２に、実質的に同率にフォトレジスト４０および絶縁層３０をエッチングする工程と、から成る。 - 特許庁

To provide a method of orienting obliquely a polymer film which shows a high score rate in a polarizing plate cutting process or in a phase difference film cutting process, to provide a polarizing plate and a phase difference film constituted of the obtained obliquely oriented polymer film, having a high performance and being inexpensive and to provide a liquid crystal display device using the polarizing plate.例文帳に追加

偏光板打ち抜き工程や位相差膜打ち抜き工程における得率が高いポリマーフィルムの斜め延伸方法を提供すること、得られた斜め延伸ポリマーフィルムからなる高性能で安価な偏光板、位相差膜を提供すること、及び上記偏光板を用いた液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

Actual alterations on the production line are properly reflected on the simulation without preparing any alteration model by performing the simulation by converting the plan for input to production lines by kinds into plans for production lines by passing process patterns by using the rate (use rate) of facilities used for the kinds and respective products to all kinds of products belonging to common passing process patterns.例文帳に追加

本発明は，品種と各工程での使用設備が共通する通過工程パターンに属する製品の品種全体に占める割合（使用比率）を用いて，品種別の生産ラインへの投入計画を，通過工程パターン別の生産ラインへの投入計画に変換して，シミュレーションを行うことにより，変更モデルを用意することなく，実際に生産ラインにみられる変更を適切にシミュレーションに反映することを図ったものである。 - 特許庁

This system is composed of a process for performing virus elimination by using a porous separation membrane filter, a process for washing the porous separation membrane filter by using washing liquid containing a surfactant and an alkaline substance, and a process for performing the integrity testing (gold colloid method and/or liquid forward flow rate method) for the porous separation membrane filter.例文帳に追加

本発明は、０〜１５度において、多孔性分離膜フィルターを用いてウイルス除去処理を行う工程及び界面活性剤とアルカリ性物質を含む洗浄液を用いて多孔性分離膜フィルターの洗浄を行う工程、多孔性分離膜フィルターの完全性試験（金コロイド法及び金コロイド法あるいはＬｉｑｕｉｄ Ｆｏｒｗａｒｄ Ｆｌｏｗ Ｒａｔｅ法）を行う工程からなるシステムに関するものである。 - 特許庁

The method for manufacturing the lithium tantalate substrate used for each kind of element as an element substrate comprises a first process for heat-treating the lithium tantalate substrate at 700°C for a prescribed amount of time in atmosphere, and a second process for cooling the lithium tantalate substrate heat-treated in the first process at a cooling rate that is faster than 2°C/minute and is slower than 5°C/minute.例文帳に追加

素子基板として各種素子に用いられるタンタル酸リチウム基板の製造方法であって、タンタル酸リチウム基板を、大気中において、７００℃で所定の時間加熱処理する第１の工程と、上記第１の工程で加熱処理された上記タンタル酸リチウム基板を、毎分２℃よりも速くかつ毎分５℃よりも遅い冷却速度で冷却する第２の工程とを有するようにしたものである。 - 特許庁

The invention provides a method of decreasing cycle time of the forming process, while ensuring acceptable product properties and avoiding failures, by modeling the process using finite element analysis to establish a pressure-time history that optimizes the forming operation and applies failure limits to selected variables such as minimum wall thickness or maximum strain rate, and transferring this pressure-time history to a computer 320 controlling the forming process.例文帳に追加

有限要素解析を利用して、成形操作を最適化し最小限壁厚や最大限歪み率などの選択された変数に欠陥限界を適用する圧力時間履歴を確立するプロセスをモデル化し、成形操作を制御するコンピュータ３２０にこの圧力時間履歴を伝送することによって、受け容れ可能な製品特性を保証して欠陥を回避しつつ、成形プロセスのサイクル時間を減少させる。 - 特許庁

To form a coating film having excellent surface smoothness by controlling the drying rate of the coating film obtained by applying a coating liquid to suppress the mottling ununiformity in a drying process for drying the coating film formed by applying the coating liquid having 0.5 to 100 Pa.s viscosity at 0.1 sec-1 shear rate at 25°C to have ≥50 μm wet film thickness.例文帳に追加

２５℃で剪断速度が０．１ｓｅｃ^-1において粘度が０．５ｍＰａ・ｓ〜１００Ｐａ・ｓの塗布液をウェット膜厚５０μｍ以上で塗布した塗膜を乾燥する乾燥工程にて、塗布液を塗布して得た塗膜の乾燥速度を制御することによりモトルムラを抑制し、優れた平滑性を有する塗膜表面を形成すること。 - 特許庁

To provide a methanol-producing device which is used for producing methanol from a gas containing carbon dioxide and hydrogen as a raw material gas, can sufficiently enhance a methanol conversion rate over an equilibrium conversion rate at the prescribed temperature and pressure, does not need a methanol distillation process for the separation of the methanol and the water which are reaction products, and can lower production cost.例文帳に追加

二酸化炭素と水素を含むガスを原料ガスとするメタノール合成であって、ある温度及び圧力下における平衡転化率を超えてメタノール転化率を十分に高めることができ、反応生成物であるメタノールと水を分離するためのメタノール蒸留工程が要らず、以てコストダウンを図ることができるメタノール製造装置を提供すること。 - 特許庁

This desulfurization process featuring that powdered desulfurizing agent 5 is blown into liquid steel 3 together with carrier gas and that both blown-in desulfurizing agent and liquid steel are mixed for desulfurization in a vacuum bath 6 of RH vacuum degasser 1 specifies that the rate of blowing desulfurizing agent is 100 kg/min or less and the flow rate of carrier gas used is 2,000 Nl/min or higher.例文帳に追加

粉状の脱硫剤５をキャリアガスと共に溶鋼３中に吹き込み、吹き込んだ脱硫剤と溶鋼とをＲＨ真空脱ガス装置１の真空槽６内で混合して脱硫する溶鋼の脱硫方法において、脱硫剤の吹き込み速度を１００ｋｇ／ｍｉｎ以下とし、且つ、キャリアガスの流量を２０００Ｎｌ／ｍｉｎ以上とする。 - 特許庁

To provide a method of deciding a tuning rate in a cold rolling process by which the tuning rate of every rolling stand for rolling a material to be rolled at a stable sheet thickness without being affected by the effect of tension vibration of a rolling stand when rolling the material to be rolled with a continuous cold rolling mill is surely determined by a simple calculating method.例文帳に追加

連続式冷間圧延機での被圧延材の圧延時に、圧延スタンドの張力振動の影響を受けることなく安定した板厚で被圧延材を圧延するための、圧延スタンドごとのチューニング率を、簡易な計算方法によって、確実に求めることができる冷間圧延工程におけるチューニング率の決定方法を提供する。 - 特許庁

A plurality of toner discharge modes for regulating the toner discharge amount discharged from a developing roller when performing the refreshing process at every level of printing rate are stored in a toner discharge amount setting table 61, and data relating the toner discharge mode stored in the toner discharge amount setting table 61 with an average printing rate is stored in a mode setting table 62.例文帳に追加

トナー吐出量設定テーブル６１には、リフレッシュ工程の実行時に現像ローラから吐出されるトナー吐出量を印字率レベル毎に規定するトナー吐出モードが複数格納されており、モード設定テーブル６２には、トナー吐出量設定テーブル６１に格納された各トナー吐出モードと平均印字率とを関連づけるデータが記憶されている。 - 特許庁

The process increases a leaching rate of zinc, by adjusting a particle size of the concentrate, reducing the concentrations of the pulp and an oxidizing agent, and instead reacting them in the steps divided into two or more, because when a reaction product (S) formed in a leaching step covers the surface of a mineral (ZnS), a leaching rate extremely decreases.例文帳に追加

浸出工程における反応生成物（Ｓ）が鉱物（ＺｎＳ）表面を覆うようになると浸出速度が極端に低下するため、精鉱の粒度を調整し、パルプ濃度及び酸化剤濃度を低く抑え、その代わりに反応を二段階若しくは多段階に分けて行うことにより亜鉛浸出率を高めることができる。 - 特許庁

To fully secure accuracy in flow rate detection, even when environmental temperature varies and to hold down the nonuniformity in sensitivity among products, without providing a process for sensitivity correction before shipment of the products, in a thermal flow sensor which detects the flow rate of a test fluid, using a heat resistor and a pair of thermometric resistors.例文帳に追加

発熱抵抗体および１対の測温抵抗体を用いて被検流体の流量検出を行う熱式流量センサにおいて、環境温度が変化した場合でも、流量検出の精度を十分に確保し、かつ、製品出荷前に感度補正のための工程を設けなくても、製品間における感度のバラツキを抑制可能とする。 - 特許庁

When charging of the lithium-ion secondary battery is performed at a charge rate of 5C or more, the electrical potential of the negative electrode is once raised by making temporary flash charging before starting the charging, and the electrical potential of the negative electrode in the process of charging at the charging rate is maintained in the state where it always exceeds the electrical potential for separating lithium.例文帳に追加

リチウムイオン二次電池の充電処理を５Ｃ以上の充電レートで行う際、該充電処理開始前に一時的なフラッシュ放電処理を行って該電池の負極電位を一旦上昇させておき、前記充電レートでの充電処理中の前記負極電位を、常にリチウムの析出する電位を上回った状態に維持する。 - 特許庁

To provide a process for producing a polyester which is excellent in long-term continuous moldability and can give a molded article, particularly a heat-resistant hollow molded article, excellent in transparency and high- temperature dimensional stability and undergoing little change in the rate of crystallization.例文帳に追加

長時間連続成形性に優れ、透明性および耐熱寸法安定性に優れ、結晶化速度変動が少ない成形体、特に耐熱性中空成形体を得ることができるポリエステルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Since the temperature increasing rate is set to a level as high as about 50°C/min in the present burning method, there is little formation of seed crystal from amorphous silica fiber contained in the green sheet 12 in the heating process and little growth of seed crystal if any.例文帳に追加

昇温速度が 50(℃／分) 程度と高い値に設定されていることから、昇温過程において未焼成シート１２に含まれる非晶質シリカ繊維からは種晶が生成し難く、且つ生成した種晶も成長し難い。 - 特許庁

The load rate of a person A in charge of each month from a prediction object start month (April) to a prediction object final month (December) is predicted based on a work schedule in which a person in charge is determined and assigned to the process management table of a project.例文帳に追加

プロジェクトの工程管理表に担当者を定めて割り当てられている作業予定に基づいて予測対象開始月（４月）から予測対象最終月（１２月）までの各月の担当者Ａの負荷率を予測する。 - 特許庁

The control circuit 30 actuates the suspension of the printing process when the increase of the pressure level beyond the rate predetermined to the pressure level under the stationary state, is detected according to the detection signal of the vacuum sensor 21.例文帳に追加

制御回路３０は、真空センサ２１の検出信号にもとづいて、圧力値が、定常状態の圧力値に対してあらかじめ決められている割合以上に上昇したことを検知すると、印刷処理を停止させる。 - 特許庁

To provide an effective insulation treatment process (manufacturing method of a metal barrier for a picture display device) of a metal barrier for a picture display device having high performance (high precision/high luminosity) since an aperture rate is high, and having high insulation reliability and low cost.例文帳に追加

開口率が高いため高性能（高精細・高輝度）で、絶縁信頼性が高くかつ安価な画像表示装置用金属隔壁の有効な絶縁処理プロセス（画像表示装置用金属隔壁の製造方法）を提供する。 - 特許庁

To suppress the cracking of a cell in the subsequent process due to the warp of a substrate which occurs after sintering because of difference in the heat-shrink rate between aluminium and silicon by a simple method with high reproducibility while sustaining the output characteristics of a solar cell element.例文帳に追加

太陽電池素子の出力特性を維持しつつ、アルミニウムとシリコンの熱収縮率の違いによって焼成後に発生する基板の反りによる後工程でのセル割れを簡易な方法で再現性よく抑制する。 - 特許庁

To provide an XY address type solid-state image pickup device manufactured by the CMOS process that has a wide aperture rate in spite of its small element size and can reduce the kTC noise (thermal noise).例文帳に追加

本発明は、ＣＭＯＳプロセスで製造されるＸＹアドレス型固体撮像装置に関し、小さな素子サイズで広い開口率を有し、ｋＴＣ雑音を低減できるＸＹアドレス型固体撮像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for processing voice commands, which increases a voice recognition rate without requiring a process of inputting separate voice commands by updating a voice command table based on interaction with a user.例文帳に追加

使用者との相互作用（Ｉｎｔｅｒａｃｔｉｏｎ）に基づき音声命令語テーブルを更新することにより、別の音声命令語を入力する過程を必要とせずに、音声認識率を高める音声命令語処理装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transmission rate control method, a mobile station, and a radio network controller, which can disperse an interference power and increase a capacity of radio network, by starting transmission of uplink user data at a designated portion of HARQ process, after receiving the Common AG, at the mobile station.例文帳に追加

移動局は、共通ＡＧを受信した後、指定されたＨＡＲＱプロセスを用いて、上りユーザデータの送信を開始することにより、干渉電力を分散させて無線回線容量の増大を実現する。 - 特許庁

As the result of the actual measurement, when variations of the film thickness are large, a layout of a circuit pattern, an area rate or layout of a dummy pattern, and a layout, a film forming amount and a polishing amount of a reverse pattern are optimized to materialize the flatness after the CMP process.例文帳に追加

実測の結果、膜厚のばらつきが大きい場合は、回路パターンの配置、ダミーパターンの面積率や配置、リバースパターンの配置及び成膜量、研磨量を最適化して、ＣＭＰ加工後の平坦化を実現する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device that makes the unevenness of electric field distribution on a surface of an electrode small so that etching rate distribution is uniform in a plasma process using a high density plasma that can correspond to further fining.例文帳に追加

より微細化に対応可能な高密度プラズマを用いたプラズマ処理において、電極表面における電界分布の不均一を小さくすることが可能であり、エッチングレート分布が均一なプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of producing a highly flat epitaxial wafer, by which the epitaxial wafer high in flatness can be obtained and the rate of inferior products can be reduced without adding a new process and causing lowering of flatness after epitaxially growing.例文帳に追加

新たな工程を増やしたり、エピタキシャル成長後の平坦度の劣化を招来することなく、高平坦度を確保でき、製品不良を大きく減少させることが可能な高平坦度エピタキシャルウェーハの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of preventing the hillock occurring in the noble metal lower electrode of a ferrodielectric capacitor and forming a ferrodielectric film having a high orientation rate on the lower electrode according to an MOCVD process.例文帳に追加

強誘電体キャパシタの貴金属下部電極に生じるヒロックを抑制し、ＭＯＣＶＤ法により配向率の高い強誘電体膜を前記下部電極上に形成できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a separator for capacitor having sufficient denseness, high electrolyte holding rate and excellent heat resistance as compared with a conventional separator in which heat shrinkage hardly takes place, and to provide its production process.例文帳に追加

十分な緻密性を有し、電解液保液率が高く、従来のセパレータと比較して優れた耐熱性を有するとともに、熱収縮をほとんどおこさないキャパシタ用セパレータおよび当該キャパシタ用セパレータの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a slurry composition which can improve polishing rate, prevent surface polishing flaw and make working environment for polishing process better, and an abrasive grain dispersion medium for the preparation of the slurry composition.例文帳に追加

研磨速度を向上させることができると共に、表面研磨傷を防止することができ、かつ、研磨加工の作業環境を良好にできる、スラリー組成物、および、該スラリー組成物を製造するための砥粒分散媒を提供する。 - 特許庁

To enable the system to select a proper treatment process in response to the containment level of a contaminant contained in the fine particles of a contaminated soil and recycle soil as much as possible from the contaminated soil by improving the recycling rate of the fine particles.例文帳に追加

汚染土壌の細粒に含まれる汚染物質の含有レベルに応じて適切な処理工程を選択でき、細粒の再利用率を向上して汚染土壌から多くの土壌を再利用することを可能にする。 - 特許庁

The method for manufacturing a silicon single crystal includes a process of forming an ingot by a Czochralski method (CZ method), in which a melt 12 of phosphorus-doped polycrystalline silicon is used as a raw material, and the crystal growth rate V is increased as pulling of the ingot 1 advances.例文帳に追加

チョクラルスキー法（ＣＺ法）により、リンを添加した多結晶シリコンの融液１２を原料として、インゴット１の引き上げが進むことに応じて結晶成長速度Ｖを増加させてインゴットを形成する工程を備える。 - 特許庁

To provide an electrophotographic toner which is less in the change rate of charging by environmental changes even in the process of manufacturing the toner by a chemical method such as an emulsion aggregation method, and is high in chargeable amount, and to provide a method of manufacturing the electrophotographic toner.例文帳に追加

乳化凝集法などのケミカル法によりトナーを製造する際においても環境変動による帯電変化率が少なく、帯電量の高い電子写真用トナー、及び該電子写真用トナーの製造方法、を提供する。 - 特許庁

To provide silica particles which have a sharp particle size distribution, and a low water absorption rate, and can be used suitably as a filler for a sealing resin composition; a process for producing the silica particles; and a resin composition comprising the silica particles and a resin.例文帳に追加

粒度分布がシャープで、かつ、吸水率が低く、封止用樹脂組成物の充填材として好適に使用することができるシリカ粒子、その製造方法、及び、このシリカ粒子と樹脂とからなる樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a silicon single crystal for improving a success rate of forming a neck portion and achieving higher efficiency of the process by appropriately controlling a melt temperature upon forming a neck to a temperature suitable for forming a neck portion.例文帳に追加

ネック形成時の融液温度を、ネック部形成に適した温度となるよう適切に制御することによって、ネック部形成の成功率を向上させ、プロセスの効率化を図ったシリコン単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁

To process encoded/decoded data only in a large-scale integrated circuit and to prevent lowering of performance due to a large difference in data transfer rate between the inside and the outside of the large-scale integrated circuit.例文帳に追加

暗号復号化データを大規模集積回路内だけで処理することができ、かつ大規模集積回路の内部と外部との間でデータの転送速度が大きく異なることにより発生する性能低下を引き起こさない。 - 特許庁

To provide a polishing method capable of providing a high polishing rate and high surface smoothness and preventing the occurrence of a scratch in a process for smoothing a surface of an optical member by chemical machinery polishing for removing a protruding part and an adhered foreign matter of the surface thereof.例文帳に追加

光学部材の表面の突出した部分や付着異物を化学機械研磨によって表面を滑らかにするプロセスにおいて、研磨レートが高く、表面平滑性が高く、スクラッチが入りにくい研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology capable of forming a silicon thin film having good crystallinity even when scanning rate is raised in the formation of the silicon thin film using a zone melting recrystallization process, and to provide a solar cell using the formed silicon thin film.例文帳に追加

帯域溶融再結晶化法を使用してシリコン薄膜を形成するにあたり、走査速度を上げても結晶性の良い膜を形成できる技術及び、形成されたシリコン薄膜を使用した太陽電池を提供する。 - 特許庁

To provide a process controller which can suppress the detection of transmission abnormality of an input/output device due to signals differing in the transmission rate without altering hardware itself having a mechanism for detecting the transmission abnormality.例文帳に追加

入出力装置における伝送異常を検出する機構を持つハードウェア装置そのものを変更することなく、伝送速度の異なる信号による伝送異常の検出を抑制できるプロセス制御装置を提供する。 - 特許庁

To synthesize good quality single crystal diamond at a high growth rate by suppressing an increase in substrate temperature even in the manufacture of single crystal diamond by a plasma CVD process under high pressure exceeding about 80 Torr.例文帳に追加

80torr程度を超えるような高圧下におけるプラズマＣＶＤ法による単結晶ダイヤモンドの製造においても、基板温度の上昇を抑制して、良質な単結晶ダイヤモンドを速い成長速度で合成することを可能とする。 - 特許庁

To contribute to improvement in productivity and non-defective rate of an actual cutting process by applying an energizing function to a vitrified whetstone very sharp as compared with a resinoid or metal bond cutting whetstone used heretofore.例文帳に追加

現在使用されているレジノイド、メタルボンド切断砥石等に比較して、切れ味のよいビトリファイド切断砥石に、通電機能を付与することにより、現実の切断加工工程の生産性や良品率の改善に寄与すること。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device including a process for dry etching a silicon nitride film, a mixed gas obtained by doping methanol gas with a prescribed density for a total gas flow rate to fluorocarbon gas is used for the dry etching of a silicon nitride film 15.例文帳に追加

シリコン窒化膜をドライエッチングする工程を含む半導体装置の製造方法において、シリコン窒化膜１５のドライエッチングに、フロロカーボンガスと、総ガス流量に対し所定の濃度のメタノールガスとを添加した混合ガスを用いる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a manufacturing system of semiconductor device, which actualize cost reduction of semiconductor device manufacturing and improvement of operating rate of a manufacturing apparatus by automatic generation of a process treatment condition and automation of maintenance.例文帳に追加

プロセス処理条件の自動生成およびメンテナンスの自動化により、半導体装置製造の低コスト化および製造装置の稼働率の向上を可能にする半導体装置の製造方法および製造システムを提供する。 - 特許庁

The future predicted amount of revenue/expenditure is calculated through a predictive calculating process 4 by multiplying a "revenue amount/expenditure amount" in an actual result record read out of a cash flow information database 2 by a "scheduled increase rate".例文帳に追加

予測算出処理４の実行によって資金繰り情報データベース２から読み出された実績レコード内の「収入金額／支出金額」に「予定伸び率」を乗じることによって将来の予測収入／支出金額が算出される。 - 特許庁

To provide a polyester fiber in whose production process a filtration pressure elevation rate is reduced and which give a fiber exhibiting improved color depth and clarity, when died.例文帳に追加

本発明の目的は、上記の課題を解決し、繊維製造工程での濾過圧上昇速度が低減され、且つ染色した際に改善された色の深みと鮮明性とを呈する繊維が得られるポリエステル繊維を提供することにある。 - 特許庁

By co-injecting or premixing the deposition or etch precursor gas and film purification compound prior to injection, the deposition or etch process may be optimized with respect to growth/etch rate and achievable material purity.例文帳に追加

付着前駆体ガスまたはエッチング前駆体ガスと膜純化化合物との同時注入または噴射前の予混合によって、成長／エッチング速度および達成可能な材料純度に関して、付着プロセスまたはエッチング・プロセスを最適化する。 - 特許庁