「rate process」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an oxidation treatment process for an organic liquid to be treated, by which the reaction rate of oxidative decomposition of the organic liquid can be maintained at a high level through the recovery of waste heat of the treated liquid after the oxidation reaction and concentration of the feed organic liquid with the recovered heat energy, and also to provide an equipment for the process.例文帳に追加

酸化反応後の処理液の廃熱を回収し、この熱エネルギーによって供給する有機性被処理液を濃縮することで、酸化分解の反応速度を高く維持できる有機性被処理液の酸化処理方法及び装置の提供を目的とするものである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a trench-gate silicon carbide semiconductor device for restricting decrease in non-defective article rate caused by silicon carbide dust adhered on a wafer, in a manufacturing process of the silicon carbide semiconductor device, when a process is included as being unavoidable to generate the silicon carbide dust.例文帳に追加

炭化珪素半導体装置の製造工程において、ＳｉＣ粉塵の発生が不可避な工程が含まれる場合に、ウェハ上に付着したＳｉＣ粉塵によって良品率が低下するのを抑制するトレンチゲート型炭化珪素半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

One or more cool stream flow control valves of the heat exchanger network and one or more process stream flow control valves of the heat exchanger network are controlled based on the flow rate target values to effect equalization of the cool process stream outlet temperatures.例文帳に追加

熱交換器ネットワークの１つ又はそれ以上の低温ストリーム流量制御バルブ及び熱交換器ネットワークの１つ又はそれ以上のプロセスストリーム流量制御バルブが、低温プロセスストリーム出口温度の等化をもたらすように流量目標値に基づいて制御される。 - 特許庁

The conductive polymer is prepared by a melt blending process of the polymer with sharing rate of 100 s^-1 at 600 Pa s or less in viscosity and the carbon fiber prepared by the vapor phase process at 1-15 mass% under mixing energy of 1,000 mJ/m^3 or less.例文帳に追加

溶融粘度がせん断速度１００ｓ^−１で６００Ｐａ・ｓ以下の状態にあるポリマーに、気相法炭素繊維１〜１５質量％を１０００ｍＪ／ｍ^３以下の混合エネルギーで溶融混合する工程を含む導電性ポリマーの製造方法及びその方法で得られた導電性ポリマー。 - 特許庁

A definition information production means 101 constituting this work progress management system 100 stores definition information including a process (a milestone) constituting each work and achievement level calculation information in each the process for calculating the completion rate of each the work, into a definition information database 106.例文帳に追加

作業進捗管理システム１００を構成する定義情報作成手段１０１は、各作業を構成する工程（マイルストン）と、各作業の完成率を算出するための各工程毎の達成度算出情報を含む定義情報を定義情報データベース１０６に格納する。 - 特許庁

To provide a process for preparing a solvent-free type, pressure- sensitive adhesive composition which process is a polymerization by an ultraviolet ray irradiation, at a fast rate of the polymerization, with little vaporization of a monomer when polymerizing and with little limitation on the monomer constitution and gives a polymer having a high molecular weight.例文帳に追加

紫外線照射による重合方式で、重合速度が速く、かつ高分子量のポリマ—を生成でき、また重合時の単量体の揮発が少なく、さらに単量体組成などの制限も少ない、無溶剤型の感圧性接着剤組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

Process annealing in the process of a cold rolling stage and stabilization annealing after final cold rolling are performed in the temperature range of 250 to 850°C for 5 sec to 1 min in a continuous furnace, and the temperature increasing and cooling rate at this time is controlled to ≥10°C/sec.例文帳に追加

冷間圧延工程の途中での中間焼鈍及び最終冷間圧延後の安定化焼鈍を、連続炉において２５０〜８５０℃の温度範囲で５秒以上１分以下の条件で実施し、その際の昇温及び冷却速度を１０℃／秒以上とする。 - 特許庁

Herein a pattern of a change in the moving speed of the scraper in the coating process is set in accordance with "the rate of the thickness of the film printed before the start of the coating process at a position in the substrate H corresponding to the plate opening part, to the thickness of the plate opening part 21a etc.".例文帳に追加

ここで、コート工程におけるスクレッパ移動速度の変化パターンが、「製版開口部２１ａ等の厚さに対する、基板Ｈにおける同製版開口部に対応する位置にて同コート工程開始前に既に印刷されている膜の厚さの割合」に応じて設定される。 - 特許庁

The outlet of a desulfurization device 6 for each gasification process 36 is connected with the gas turbine inlet of each composite power generation process by a gas header, the gas header of each gas turbine inlet is provided with a fuel flow rate control valve 8, and the gas header of the outlet of the desuflurization device 6 is provided with each pressure adjusting valve 50.例文帳に追加

ガス化プロセス３６の脱硫装置６出口と複合発電プロセス３７のガスタービン入口とはガスヘッダーで接続され、ガスタービン入口のガスヘッダーにはそれぞれ燃料流量制御弁８を設け、脱硫装置６出口のガスヘッダーには圧力調節弁５０をそれぞれ設ける。 - 特許庁

A liquid phase growing device 1 has a reaction pipe 3, a gas supply part 2 for making a process gas containing an impurity flow out into a growth reaction chamber 9 and a buffle 4 formed with a hole 10 for regulating the flow rate of the process gas G in the growth reaction chamber 9.例文帳に追加

本発明の液相成長装置１は、反応管３と、不純物を含むプロセスガスＧを成長反応室９内に流出させるガス供給部２と、プロセスガスＧの成長反応室９内における流量を規制する通口１０が形成されているバッフル４とを有する。 - 特許庁

The method for enhancing a transfer rate using a DLP and multiple channels is composed of a step 1 of carrying out an improved 4-handshake process, and a step 2 of executing the relevant mode using the DLP channel mode and the channel number which are determined in the process.例文帳に追加

本発明によるＤＬＰとマルチ-チャンネルを使用して転送効率を高める方法は、改善された４ハンドシェイク過程を実行するステップ１と、前記過程で決定されたＤＬＰチャンネルモードとチャンネル番号によって該当モードを実行するステップ２とで構成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a device of a semiconductor device capable of suppressing the variation of a reaching temperature in a wafer surface caused by a variation in the wafer surface of a radiation rate and suppressing the variation and deterioration of characteristics, in a heating treatment process of a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

半導体製造工程の加熱処理プロセスにおいて、輻射率のウェーハ面内のばらつきに起因するウェーハ面内の到達温度のばらつきを抑え、特性のばらつき、劣化を抑えることが可能な半導体装置の製造方法と半導体装置の製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescence element, which can reduce manufacture cost, by forming an insulated layer, which can perform all function of the existing insulated layer and a partition wall with the one layer, by reducing process time by simplifying its manufacturing process, and increasing the rate of the opening, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

一層で既存の絶縁層と隔壁の機能が全部可能な絶縁層を形成することによって、製造工程を単純化して工程時間を減らし、開口率を増加させ、製造コストを低減できる有機エレクトロルミネセンス素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The reference magnification process part 76 achieves its function using a software, and applies the electronic magnification process to raster data at a reference magnification rate that is set based on the average value of deviation amount from the reference size of the drawn object 14, as an external setup operation which is done before exposure of the drawn object 14.例文帳に追加

基準変倍処理部７６は、ソフトウエアでその機能が実現され、被描画体１４に露光を行う前の外段取りの作業として、被描画体１４の基準サイズからのずれ量の平均値を元に設定される基準変倍率で、ラスターデータに電子変倍処理を施す。 - 特許庁

Thus, the first plunger and the second plunger alter timing of an absorption process and a compression process, and a necessary discharge rate is only absorbed to the first pump room 13 and the second pump room 14 to be pressurized, so that power of the first drive cam 51 and the second drive cam 52 can be kept to a minimum.例文帳に追加

このため、第１、第２プランジャは、吸入工程および加圧工程のタイミングを変更し、必要な吐出量のみを第１ポンプ室１３、第２ポンプ室１４に吸引し加圧するので、第１、第２駆動カム５１、５２の動力を最小限に抑えることができる。 - 特許庁

To provide a designing system and an apparatus for a process of cogging, wherein working conditions such as press-down rate and targeted shape, can be decided with a simple calculation, in spite of the experience difference between press-operators, in the cogging process for forming into a shaft material such as round bar, from a blank with a free-forging.例文帳に追加

素材から自由鍛造により丸棒などの軸材に成形する鍛伸加工工程で、プレス操作者の経験差にかかわらず簡単な計算により圧下量、目標形状などの加工条件を決定できる鍛伸加工の工程設計システムと装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a manufacturing process and an image formation device of a recorded matter which can be transferred at a high transfer rate by forming a good image on an intermediate transfer matter having an inking surface layer.例文帳に追加

撥インク性の表面層を持つ中間転写体上に、良好な画像を形成し、高い転写率で転写可能な記録物の製造方法および画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The second etching process can be performed continuously, by only changing the flow rate ratio between etching gases and the etching can be performed stably under the condition that the silicon surface is not damaged.例文帳に追加

第２のエッチング処理工程は、エッチング用のガスの流量比を変えるだけで連続して行なえ、安定した条件で、シリコン面にダメージを与えない条件でエッチング処理を行なえるようになる。 - 特許庁

That is, the process from the boosting to pressure reduction in the fuel pressure control can be controlled with the control flow rate characteristics for one driving amperage, so that the pressure controllability of the ECU can be enhanced.例文帳に追加

すなわち、燃料圧力制御の昇圧から減圧までを、１つの駆動電流値に対する制御流量特性で制御できるので、ＥＣＵの圧力制御性を向上することができる。 - 特許庁

The control device reduces, by a first speed reduction rate in a first speed reduction process, the relative speed from the second speed Vw3 to a third speed Vw2 which is greater than the first speed Vw1.例文帳に追加

その際、制御装置は、第１の減速過程において、第２の速度Ｖｗ３から第１の速度Ｖｗ１よりも速い第３の速度Ｖｗ２まで所定の第１の減速度で減速する。 - 特許庁

That is, a control portion 160 calculates a mass reduction rate by dividing the difference between the mass of workpiece before drying and that after drying in the last drying process, by a mass before drying.例文帳に追加

すなわち、制御部１６０は、まず、前回の乾燥工程における乾燥前及び乾燥後のワークの質量の差を乾燥前の質量で除算することにより、質量減少率を算出する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of acquiring an excellent product with certainty by suppressing the rate of occurrence of defective products in the manufacturing process for forming a semiconductor package wherein ceramic terminals are soldered to the package body.例文帳に追加

パッケージ本体にセラミック端子をろう付けして形成される半導体パッケージの製造工程における不良発生率を抑え、確実に良品を得ることができる製造方法を提供する。 - 特許庁

The quantity of the hydrogen to be filled is calculated by multiplying the fluctuating flow rate of reactor water in a core or the process values correlated with the core flow rates such as the loss of core pressure by an effective hydrogen concentration.例文帳に追加

前記水素の注入量は、変動する炉心内の炉水の流量又は炉心圧力損失などの炉心流量と相関のあるプロセス値と実効水素濃度とを乗じて算出する。 - 特許庁

To provide a pressure swing adsorption(PSA) process using such an adsorbent particle as to have a rapid adsorption rate while gas is separated from air at temperature except for low temperature and have intrinsic strength enough to be allowable from the industrial standpoint.例文帳に追加

空気からガスを非低温で分離する間に速度が速く固有強度が工業的見地から許容できる程十分である吸着剤粒子を用いるＰＳＡプロセスを提案する。 - 特許庁

Based on luminance-by-luminance data LD2, the thinning-out process is done by a weighting changer 260 with a thinning-out rate MR changed between a luminance domain KRT and a luminance domain KR excluding the luminance domain KRT.例文帳に追加

重み付け変更部２６０は、輝度毎データＬＤ２に基づき、輝度領域ＫＲＴと当該輝度領域ＫＲＴを除く輝度領域ＫＲとで、間引き率ＭＲを変更して間引き処理を行う。 - 特許庁

To provide a selective oxidation process capable of selectively oxidizing a silicon surface at a high oxidation rate while suppressing oxidation of a metal material exposed on a surface of a workpiece as much as possible.例文帳に追加

被処理体の表面に露出したメタル材料の酸化を極力抑制しながら、高い酸化レートでシリコン表面を選択的に酸化することが可能な選択酸化プロセスを提供する。 - 特許庁

Also, the number of core wires is increased in accordance with the desired n value, and a rolling reduction rate in a rolling process after the primary sintering is adjusted in accordance with a single phase degree after the primary sintering.例文帳に追加

また、所望のｎ値に対応して、芯線の数を増加させると共に、一次焼結後における単相度に対応して、一次焼結後の圧延工程における圧延圧下率を調整する。 - 特許庁

When a memory shortage occurs after the picture drawing process of PDL data, and the printing mode has priority in the speed, the printing data is compressed again by changing a compression rate, and the housing into the memory is tried.例文帳に追加

ＰＤＬデータを描画処理後メモリ不足が発生した場合で、印刷モードが速度優先の場合は圧縮率を変更して印刷データを再度圧縮しメモリへの格納を試みる。 - 特許庁

To provide a process for producing a conductive master batch which can prevent the increase in temperature of the resin upon extrusion, the formation of eye-discharge and the strand-breakage and can also significantly increase the discharge rate.例文帳に追加

押出し時の樹脂温度の上昇、目やに発生及びストランド切れを抑制し、更に吐出量を大幅に向上させることができる導電性マスターバッチの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a calculation method for estimating a tablet breaking rate when executing a tablet coating process under certain production conditions by inputting setting data according to the production conditions.例文帳に追加

製造条件に応じた設定データを入力することにより、該製造条件で錠剤コーティング工程を実行したときの錠剤破損の発生度合の想定値を算出する方法を提供する。 - 特許庁

To reduce cost by remarkably improving a success rate of automatic paper tube replacement during winding and reducing deterioration of operability due to oil agent scatter in a winding or working process.例文帳に追加

巻取り時の自動紙管交換成功率を著しく改善し、巻取りおよび加工工程での油剤飛散に起因する操業性の低下を改善し、コストダウンを可能にすることを目的とする。 - 特許庁

Therefore, plasma with overall uniformity is formed in the process chamber 40, so that the occurrence of failures for etching rate, linewidth, uniformity, etc., of the wafer to be processed can be prevented.例文帳に追加

従って、工程チャンバ４０の内部に全体的に均一なプラズマを形成することで、工程対象ウェハのエッチング率、線幅及び均一度等の要素に不良が発生することを防止することができる。 - 特許庁

To provide a sludge treatment process which involves an ozone treatment of concentrated sludge to, enables solubilization of the sludge to enhance the decomposition rate of anaerobic digestion of the sludge, increases of the amount of a digestion gas generated in the anaerobic digestion and accordingly reduces the volume the sludge.例文帳に追加

濃縮汚泥に対してオゾン処理することによって、汚泥を可溶化させ、嫌気性消化の分解率を高め、消化ガスの発生量の増加を図り、もって汚泥の減容化率を高める。 - 特許庁

To polish the conductor used for a barrier layer at a high rate, by using the polishing fluid having a low abrasive grain concentration and a low metal anticorrosive concentration, in a wiring process for semiconductor devices.例文帳に追加

低砥粒濃度、低金属防食剤濃度の研磨液を用いることにより、半導体デバイスの配線形成工程において、バリア層に用いられる導体を高い研磨速度で研磨できる。 - 特許庁

To provide a production process of acrylonitrile or methacrylonitrile, which offers an excellent production rate and an excellent quality of the obtained product without increasing the size of a column used in recovery and purification sections.例文帳に追加

回収および精製セクションに用いるカラムのサイズを増大させることなく、製造速度および得られる生成物の品質に優れたアクリロニトリルまたはメタクリロニトリルの製造プロセスを提供すること。 - 特許庁

Through the configuration above, applying main image processing including the smoothing process to the image before signal compression can enhance the compression rate because no dot data are included at the compression.例文帳に追加

上述の構成のように、信号圧縮の前に平滑化処理を含んだ主画像処理を行うことで、圧縮時において網点データが含まれていないために圧縮率の向上を図ることができる。 - 特許庁

To provide a method for effectively washing a microfiltration (MF) or ultrafiltration (UF) membrane module in a water treatment process in a manner capable of enhancing a water recovery rate and of preventing the chemical deterioration of a reverse osmosis membrane and to provide a fresh water generator.例文帳に追加

水処理プロセスにおいて、水回収率が高く、逆浸透膜の化学的劣化を防止し、効果的にＭＦ膜またはＵＦ膜モジュールを洗浄する方法、および造水装置を提供する。 - 特許庁

To provide a freeness-improving method by which the yield rate on a wire part is improved and the freeness, water drainage, and productivity are improved in a process for making paper or cardboard.例文帳に追加

紙及び板紙の製紙工程において、ワイヤーでの歩留率を向上し、尚且つ、濾水性、搾水性の改善及び生産性の向上を図る濾水性向上方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

In manufacturing the honeycomb structure 1, talc in which a specific surface area is 3.5 m^2/g or more is adopted, and a rate of temperature increase at temperatures of 1,250-1,400°C in a calcination process is to be 150°C/h or less.例文帳に追加

ハニカム構造体１の製造にあたっては、比表面積３．５ｍ^2／ｇ以上のタルクを採用し、焼成工程における温度１２５０〜１４００℃における昇温速度を１５０℃／ｈ以下にする。 - 特許庁

The imaging conditions at imaging such as gain, frame rate, and blurring amount are detected, and according to the detected imaging condition, switching is made between the tracking process using brightness information and that using color information.例文帳に追加

即ち、ゲインやフレームレート、ブレ量といった撮影時の撮影条件を検出し、検出された撮影条件に応じて、輝度情報を用いた追尾処理と色情報を用いた追尾処理を切り替える。 - 特許庁

The rotation rate of an inner cylinder is changed repeatedly under control to bring bubbles (a gas) and the material to be processed which is a liquid or a solid into a moderately agitated/mixed state, and the desired process efficiency can be improved.例文帳に追加

内筒回転レートを繰り返し変える制御にて、泡（気体）と他の液体または固体の被プロセス前材とが穏和な撹拌混合状態となり所望のプロセス効率が向上する。 - 特許庁

To provide a developing device capable of developing an excellent image by restraining the increase of the rate of un-electrified toner due to long-term operation, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the developing device.例文帳に追加

長時間の稼動による未帯電トナーの割合増加を抑制して良好な画像を現像可能な現像装置及びこれを用いたプロセスカートリッジ並びに画像形成装置の提供。 - 特許庁

To provide a reversible recording medium adapted so that the objective reflected light may be fixed simply by merely controlling the rate of cooling from an isotropic phase and to provide a process for reversibly recording therewith.例文帳に追加

等方相からの冷却速度をコントロールするのみで、簡便に目的の反射光を固定できる可逆記録媒体、および可逆記録媒体を使用した可逆的記録方法の提供。 - 特許庁

The waste as a raw material is impregnated with an alkali metal compound, then is heated up to 500 to 900°C at a heat-up rate of 200°C/h in an inert gas flow, and carbonized and activated in a single stage process.例文帳に追加

廃棄物を原料とし、アルカリ金属化合物を含浸させた後、不活性ガス流中で、昇温速度２００℃／ｈにて５００〜９００℃まで昇温し、一段階で炭化及び賦活化させる。 - 特許庁

To improve breakage rate of a device or a photomask itself during a manufacturing process by preventing a resist from contacting with other devices or the like and reducing generation of foreign matters.例文帳に追加

レジストを遮光体として用いるレジストマスクでは、他の装置等との接触により異物が発生し、パターン転写の欠陥となり、製造するデバイスの歩留まりが低下するという問題が生じる。 - 特許庁