「rate process」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

Particularly, by controlling the rate of heat transfer between the substrate and a thermal reservoir (e.g. water-cooled reflector plate assembly), the temperature response of the substrate can be controlled during the thermal process.例文帳に追加

特に、基板と熱貯蔵器（例えば水冷式の反射板組立体）の間の熱移動速度を制御することにより、基板の温度応答を熱プロセス中に制御することができる。 - 特許庁

In addition, the plastic optical element A is manufactured by performing a slow cooling process at a rate of 3°C or less per minute within the range of at least 5°C or higher of a specified temperature range below the glass transition point of a resin material used, in the resin cooling stage of a manufacturing process.例文帳に追加

このプラスチック光学素子Ａは、製造過程の樹脂冷却段階において、使用樹脂材料のガラス転移点以下の所定温度範囲のうち、少なくとも５℃以上の範囲で毎分３℃以下の速度の徐冷工程を実施することで作成される。 - 特許庁

In a rating process, all the layout patterns prepared in the pattern preparing process are rated based on the preset degree of column adjacency, degree of planar dispersion and degree of vertical dispersion in every direction to rate each layout pattern.例文帳に追加

点数付け工程では、配置パターン作成工程で作成された全ての配置パターンに対し、各方向毎に、予め設定された柱隣接度，平面的分散度，立面的分散度に基づいて点数付けを行うことで、各配置パターン毎に点数を付ける。 - 特許庁

To provide a device and etching method therefor with which the controllability and productivity of an etching process are improved by having the etching rate improved, while the concentration of the etchant used is maintained constant during the etching process.例文帳に追加

エッチング工程の遂行時、エッチング液の濃度を一定に維持し、エッチング率が向上させて工程制御及び生産性が向上させる半導体素子製造用湿式エッチング装置及びこれを利用した半導体素子の湿式エッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for preparation of a butyl rubber polymer having an average molecular weight of greater than 400,000 with a good isobutylene conversion rate, in a readily controlled process enabling low cost, inert, aliphatic hydrocarbon solvents to be used without using methyl chloride.例文帳に追加

塩化メチルを使用せず低価格の不活性な脂肪族炭化水素溶媒が使用できる制御が容易な方法において、良好なイソブチレンの変化率をもって平均分子量が４００，０００より大きいブチルゴム重合体を製造する方法の提供。 - 特許庁

Next, synchronism of the decoded signal is discriminated in a first synchronism discriminating process ST12 and when the synchronism is not established, the clock signal having a frequency corresponding to an encoding rate ri+1 is assigned in a first clock signal updating process ST13.例文帳に追加

次に、第１の同期判定工程ＳＴ１２において復号信号の同期判定を行ない、同期が取れていない場合には、第１のクロック信号更新工程ＳＴ１３において符号化率ｒi+1 と対応する周波数を持つクロック信号を割り当てる。 - 特許庁

Ammoniacal nitrogen in the denitrified liquid after the completion of the denitrification process is predetermined to be 0-100 mg/L and a nitrite conversion rate of ammoniacal nitrogen in an ammonia oxidation process is predetermined below 55%, and an ammoniacal nitrogen- containing liquid is added whenever required to the denitrification tank 3.例文帳に追加

脱窒工程終了後の脱窒処理液中のアンモニア性窒素を０〜１００ｍｇ／Ｌとし、アンモニア酸化工程におけるアンモニア性窒素の亜硝酸化率を５５％以下とし、必要に応じて脱窒槽３に亜硝酸性窒素を含む液を添加する。 - 特許庁

For the positive electrode active material for the lithium secondary battery, this method has a calcining process to calcine this at a calcining temperature of 750°C or more and 1,000°C or less, and a cooling process to cool from the burning temperature to a prescribed temperature at a rate of 0.2-2.0°C/min.例文帳に追加

リチウム二次電池用正極活物質に対して、７５０℃以上１０００℃以下の焼成温度で焼成する焼成工程と、該焼成温度から所定温度まで０．２〜２．０℃／分の速度で冷却する冷却工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

Next, the synchronism of the decoded signal is discriminated in a second synchronism discriminating process ST16 and when the synchronism is not established, the clock signal having the frequency corresponding to an encoding rate ri-1 is assigned in a second clock signal updating process ST17.例文帳に追加

次に、第２の同期判定工程ＳＴ１６において復号信号の同期判定を行ない、同期が取れていない場合には、第２のクロック信号更新工程ＳＴ１７において符号化率ｒi-1 と対応する周波数を持つクロック信号を割り当てる。 - 特許庁

To provide a conductive layer-laminated material which abates or eliminates the adverse effects to be caused by the formation of a brittle alloy layer in a joint interface following a high temperature process or a significant residual stress resulting from a high rolling rate joining process and the parts using the conductive layer-laminated material.例文帳に追加

高温プロセスに伴う接合界面での脆弱合金層の形成や、高圧延率接合に伴う大きな残留応力などの悪影響を軽減もしくは排除しうる導電層積層材および導電層積層材を用いた部品の提供。 - 特許庁

While data are encoded, the head monitor of the output is monitored (process block 101) and the rate of code switching for bit generation by the coder is dynamically adjusted (process block 102) so that the generation frequencies of 0 and 1 included in the head bit of the output become equal to each other.例文帳に追加

データの符号化中に、出力の先頭ビットをモニタし（処理ブロック１０１）、出力の先頭ビットに含まれる０と１の発生頻度が等しくなるように、コーダーがビット生成を行うためのコードの切り替える速度を動的に調整する（処理ブロック１０２）。 - 特許庁

In the method, by comparing the absorbance of the specimen water and that of the specimen water after passing through the concentration/separating process, it is possible to estimate a mass ratio of the viruses concentrated/separated from the specimen water by the concentration/separation process, and judge the concentrating/separating rate of the viruses.例文帳に追加

本発明に係る方法において、検水および濃縮分離工程を経た検水の紫外波長域の吸光度を比較すれば、濃縮分離工程で検水から分離除去されたウイルスの量比を推定でき、ウイルスの濃縮分離率を判定できる。 - 特許庁

In the recording on an overlapped portion, the jointing process of using a demarcated boundary and the jointing process of adding gradation by using an ink applying rate for compensation are applied for a relationship between ejection nozzle arrays relating to the recording.例文帳に追加

オーバーラップ部分の記録について、それに関与する吐出口列間の関係において、画定された境界をもってつなぎ処理を適用するものと、補完的なインク打ち込み率をもってぼかしをつけながらつなぎ処理を適用するものとを併用する。 - 特許庁

To improve a cooling effect, to shorten a cooling time, to eliminate dispersion variation of a cooling rate of each part of a poultry carcass, to thereby control a water content and to prevent deterioration of meat qualities in a cooling process after evisceration in a chicken meat processing process.例文帳に追加

鶏肉加工工程における中抜き後の冷却工程において、冷却効果を向上させて冷却時間を短縮するとともに、食鳥の屠体の各部位の冷却速度のバラツキをなくし、これによって含水率を抑え、かつ肉質の劣化を防止する。 - 特許庁

In a rating process, all the layout patterns prepared in the layout pattern preparing process are rated direction by direction on the basis of the preset degree of column adjacency, degree of plane dispersion and degree of vertical dispersion to rate each layout pattern.例文帳に追加

点数付け工程では、配置パターン作成工程で作成された全ての配置パターンに対し、各方向毎に、予め設定された柱隣接度，平面的分散度，立面的分散度に基づいて点数付けを行うことで、各配置パターン毎に点数を付ける。 - 特許庁

To provide a polishing composition which has high selectivity, in which the polishing rate for copper is large but the polishing rate for a tantalum compound is small and is superior in giving smoothness of surface to a copper- film in a CMP work process for a semiconductor device, having a copper film and a tantalum compound.例文帳に追加

銅膜とタンタル化合物を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、銅の研磨レートは大きいがタンタル化合物の研磨レートが小さいという選択性の高い研磨用組成物であり、銅膜表面の平滑性にも優れたＣＭＰ加工用の研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

When the total flow rate becomes larger than the sum of the flow rates of the first and second adsorption units 55, 82, start timing of the desorption process of the third adsorption unit 83 is advanced so that the total flow rate becomes smaller than the sum of the flow rates of the first and second adsorption units 55, 82.例文帳に追加

そして、総流量が第１及び第２吸着ユニットの流量の和よりも大きくなる場合には総流量が第１及び第２吸着ユニット５５，８２の流量の和よりも小さくなるように第３吸着ユニット８３の脱着工程の開始タイミングを早める。 - 特許庁

Alternatively, a means for adjusting the pressure or flow rate of the high-pressure fluid is provided in the process, before the high-pressure fluid is allowed to flow through the membrane filter 52 and a first bypass line 16 is provided to the pressure or flow rate adjusting means.例文帳に追加

または、前記高圧流体を前記メンブレンフィルタ５２に流通させる前の工程で、前記高圧流体の圧力または流量を調整する手段を有し、前記の圧力または流量を調整する手段には第１バイパスライン１６が設けられていることよりなる。 - 特許庁

The film forming method comprises processes of inserting a substrate into a furnace kept at a prescribed temperature, heating the inside of the furnace, depositing a film on the substrate inside the furnace, and cooling off the inside of the furnace at a cooling rate slower than a heating rate in a heating process.例文帳に追加

所定温度の炉内に基板を挿入する工程と、前記炉内を加熱する工程と、前記炉内の基板に膜を堆積させる工程と、前記膜堆積工程後に、前記炉内を前記加熱工程の加熱速度よりも遅い冷却速度で冷却する工程とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The water treatment method supplying raw water to the reverse osmosis membrane apparatus while the pH is kept 9.5 or higher, has a process of periodically treating the reverse osmosis membrane of the reverse osmosis membrane apparatus with the agent for improving a blocking rate, when the blocking rate of the reverse osmosis membrane apparatus is lowered.例文帳に追加

ｐＨ９．５以上で原水を逆浸透膜処理装置へ供給する水処理方法において、定期的に、又は逆浸透膜処理装置の阻止率が低下した際に、阻止率向上剤で逆浸透膜処理装置の逆浸透膜を処理する工程を有する水処理方法。 - 特許庁

A detection rate is calculated in every of the defects based on whether the same defect is detected in a plurality of differential images or not, based on a result in a process for detecting the defect on a surface of the silicon wafer, and the shape of the defect is identified in the every defect on the surface of the silicon wafer, according to the detection rate.例文帳に追加

シリコンウエハ表面上の欠陥を検出する工程の結果から、同一の欠陥が複数の差分画像から検出されたかにより欠陥毎に検出率を算出し、前記検出率に従って前記シリコンウエハ表面上の欠陥毎に該欠陥の形状を識別する。 - 特許庁

To provide an image recognition device or the like capable of enhancing the rate of recognizing images of the subjects of recognition even in a situation where the recognition rate of an image recognition process decreases if only information about the images picked up is available because good image information about the subjects of recognition cannot be picked up.例文帳に追加

認識対象についての良好な画像情報を撮像できないために、撮像した画像情報のみによっては画像認識処理の認識率が低下するような状況であっても、認識対象の画像の認識率を高めることが可能な画像認識装置等を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive composition for CMP process of a semiconductor device having a copper film and a tantalum compound, having high selectivity to have high abrasion rate of copper and small abrasion rate of the tantalum compound and giving a smooth surface of the copper film.例文帳に追加

銅膜とタンタル化合物を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、銅の研磨レートは大きいがタンタル化合物の研磨レートが小さいという選択性の高い研磨用組成物であり、銅膜表面の平滑性にも優れたＣＭＰ加工用の研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a fuel cell which restrains abnormal overheat in process of power generation at a peripheral edge range of a fuel cell wherein a cooling medium circulation passage is not existed on a separator and effectively improves a use rate of an electrode area and has a high power generation area use rate as much as possible.例文帳に追加

セパレータにおいて冷却媒体流通路が存在しない燃料電池セルの周縁領域における発電経過時の異常過熱を抑制し、もって電極面積の利用率を効果的に向上させ、発電面積利用率の可及的に高い燃料電池を提供する。 - 特許庁

In the sphygmomanometer, after pressurization to a predetermined pressure, a driving voltage for an exhaust valve is adjusted (S505 and S507) during an adjustment period (YES in S503) in a depressurization process so that the rate of depressurization inside a fluid bag can be a predetermined depressurization rate, the adjustment period being a predetermined period from the start of depressurization.例文帳に追加

血圧計では、所定圧までの加圧の後、減圧過程において、減圧を開始してから所定期間である調整期間内において（Ｓ５０３でＹＥＳ）、流体袋の減圧速度が所定の減圧速度となるように排気弁の駆動電圧を調整する（Ｓ５０５，Ｓ５０７）。 - 特許庁

To provide a minute flow rate adding process which launches without lowering in ozone concentration right after the start of operation and at the time of starting addition of gaseous catalyst and makes it possible to rapidly obtain the prescribed ozone concentration in the minute flow rate addition of the gaseous catalyst etc., to be added to gaseous raw materials in an ozone generator.例文帳に追加

オゾン発生装置で原料ガスに添加する触媒ガス等の微小流量添加において、運転開始直後や触媒ガスの添加開始時のオゾン濃度が低下することなく立ち上がり、速やかに所定のオゾン濃度が得られる微小流量添加方法の提供。 - 特許庁

In the second condition, the deposition gas including silicon or germanium is diluted with hydrogen of the flow rate set to 100 times or more and 2000 times or less with respect to the flow rate of the deposition gas, and the pressure in the process chamber is set to more than or equal to 1333 Pa and less than or equal to 13332 Pa.例文帳に追加

第２の条件は、シリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体の流量に対する水素の流量を１００倍以上２０００倍以下にして堆積性気体を希釈し、且つ処理室内の圧力を１３３３Ｐａ以上１３３３２Ｐａ以下とする条件である。 - 特許庁

In the first condition, a deposition gas including silicon or germanium is diluted with the flow rate of hydrogen set to 50 times or more and 1000 times or less relative to the flow rate of the deposition gas, and the pressure in a process chamber is set to 67 Pa or more and 1333 Pa or less.例文帳に追加

第１の条件は、シリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体の流量に対する水素の流量を５０倍以上１０００倍以下にして堆積性気体を希釈し、且つ処理室内の圧力を６７Ｐａ以上１３３３Ｐａ以下とする条件である。 - 特許庁

A retrieval result processing unit 32 obtains retrieval results from the retrieval process unit 31, calculates matching rate and the number of retrieval results for each database 2, and displays the matching rate and the retrieval results on the retrieval terminal 1 using at least either the size or the color of a display section, for each database 2.例文帳に追加

検索結果処理部３２は、検索処理部３１から検索結果を取得し、一致率と検索件数をデータベース２毎に計算し、検索端末１に対して一致率と検索結果をデータベース２毎に表示部分の寸法又は色彩の少なくともいずれかにより表示する。 - 特許庁

A process controller 11 in a film forming apparatus 1 produces a calibration curve of a film formation rate which shows relation between: the difference between (Ii/Ie)_0 when only delivery gas is conducted to an ion gauge 10 and (Ii/Ie) when organic material and delivery gas are conducted to the same; and a film formation rate D/R.例文帳に追加

成膜装置１のプロセスコントローラ１１は、イオンゲージ１０に搬送ガスのみを通流させた場合の（Ｉｉ／Ｉｅ）_0 と、有機材料及び搬送ガスを通流させた場合の（Ｉｉ／Ｉｅ）との差と、成膜速度Ｄ／Ｒとの関係を示す成膜速度検量線を作成する。 - 特許庁

A computation part 12a computes an average printing rate for an image which is formed by an image-forming part 1, at a predetermined time zone, and then a determination part 12b determines whether process control is to be executed, on the basis of the average printing rate computed by the computation part 12a.例文帳に追加

算出部１２ａが、予め定める時間帯において、画像形成部１によって形成された画像の平均印字率を算出すると、判断部１２ｂが、算出部１２ａによって算出された平均印字率に基づきプロセスコントロールの実施の要否を判断する。 - 特許庁

In the first condition, a deposition gas including silicon or germanium is diluted with hydrogen of the flow rate set to 50 times or more and 1000 times or less with respect to the flow rate of the deposition gas, and the pressure in a process chamber is set to more than 1333 Pa and less than or equal to 13332 Pa.例文帳に追加

第１の条件は、シリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体の流量に対する水素の流量を５０倍以上１０００倍以下にして堆積性気体を希釈し、且つ処理室内の圧力を１３３３Ｐａより大きく１３３３２Ｐａ以下とする条件である。 - 特許庁

A module with a low fault detection rate is determined (step 206) through previously run fault simulations (step 201-205) and its information is fed back to process and correct a corresponding RTL description in such a way as to easily increase its fault detection rate (step 207, 210, 211).例文帳に追加

予め実施した故障シミュレーション（ステップ２０１〜２０５）によって故障検出率の低いモジュールを求め（ステップ２０６）、その情報をフィードバックし、該当するＲＴＬ記述に対して故障検出率を向上させ易い加工、修正を実施する（ステップ２０７，２１０，２１１）。 - 特許庁

To stably manufacture a highly reliable capacitive pressure sensor with less dispersion of sensitivity characteristic at a high non-defective rate by reducing the fluctuation of silicon etching rate in the process of forming the cavity part and diaphragm part of a sensor chip by etching.例文帳に追加

センサチップのキャビティ部とダイアフラム部をエッチングにより形成する工程において、シリコンエッチングレートの変動を減少させることにより、感度特性のばらつきが少なく、信頼性の高い静電容量型圧力センサを高い良品率で安定的に製造し、提供すること。 - 特許庁

In this process, an amorphous thin piezoelectric substance film layer is deposited in the state that the crystallization rate R is smaller than the deposition rate S by making the substrate heating temperature lower than the crystallization temperature after the nucleation time C_1 when the sputter deposition is performed by heating to the crystallization temperature of a piezoelectric material.例文帳に追加

この工程で、圧電体材料の結晶化温度に加熱してスパッタ成膜を行う核生成時間Ｃ_1 の後に、基板加熱温度を結晶化温度より下げて結晶化速度Ｒが堆積速度Ｓより小さい状態で非晶質の圧電体薄膜層を成膜する。 - 特許庁

In order to correctly obtain effective absorption rate on a surface of a semiconductor substrate, an angular distribution of irradiation light intensity (angular intensity distribution) by a first light source used for calculation of the effective absorption rate is adapted to an angular intensity distribution by a second light source used for an annealing process.例文帳に追加

半導体基板の表面における実効吸収率を正確に求めるべく、当該実効吸収率の算出に用いる第１の光源による照射光強度の角度分布（角度強度分布）を、アニール処理に用いる第２の光源による角度強度分布に適合させる。 - 特許庁

To provide a methanol synthesis reactor and a methanol synthesis method which secure a conversion rate higher than the equilibrium conversion rate in one pass, to thereby ensure a high methanol yield, even without circulating a raw material gas, in the process for preparing methanol from a raw material gas using a biomass or the like as a raw material.例文帳に追加

バイオマス等を原料とする原料ガスからメタノールを作製するプロセスにおいて、ワンパスで平衡転化率を超える高い転化率を確保し、原料ガスを循環せずとも高いメタノール収率を得ることができるメタノール合成反応器およびメタノール合成方法を提供すること。 - 特許庁

To realize a device for detecting a bubble in piping, which appropriately detects the bubble mixed in the piping of a flowmeter, outputs an abnormality of a flow process as an alarm and can output the alarm even in the case where a flow rate measurement is carried out in such the state that the accuracy in measuring the flow rate is lowered.例文帳に追加

流量計の配管内に混入する気泡を適切に検出して、流量プロセスの異常をアラームとして出力するとともに、流量の測定精度が低下する状態での流量測定にもアラームを出力できる配管内気泡検出装置を実現すること。 - 特許庁

The cell aggregate (sphere body) with a size of 50-500 μm diameter on the suspension culture process is continuously kept in an undifferentiated state of the stem cells, and manifested an excellent improvement in differentiation inducing rate to biofunctional cells of the skin and taking rate after transplantation.例文帳に追加

特に、本発明では、浮遊培養の工程において、細胞凝集体（スフェア体）が、直径５０〜５００μｍの大きさのもので、幹細胞の未分化状態が持続的に維持され、さらに、皮膚の機能性細胞への分化誘導効率と、移植後の生着率において極めて優れた効果を示した。 - 特許庁

A ZnO sintered compact containing 0.1 to 15 mass% rare earth elements is used for a vapor deposition material, and film deposition is performed by a reactive vapor deposition process in an oxygen gas flow rate of 0 to 500 sccm and at a film deposition rate of 0.5 to 5.0 nm/s, so as to deposit a ZnO film having high moisture resistance.例文帳に追加

希土類元素を０．１〜１５質量％含むＺｎＯ焼結体を蒸着材に用い、反応性プラズマ蒸着法により酸素ガス流量０〜５００ｓｃｃｍ、成膜速度０．５〜５．０ｎｍ／秒で成膜を行い、高耐湿性のＺｎＯ膜を成膜する。 - 特許庁

This communication apparatus is provided with: a communication part; a connection establishing part 130 for sending and receiving connecting data between the communication part and a mating communication party, thereby carrying out a connection establishment process; and a communication control part 140 for setting a data rate of the connecting data statically to dynamically set the data rate of sending data to be sent from the communication part after the connection establishment process.例文帳に追加

通信部と、前記通信部および通信相手の間で接続用データを送受信させることにより接続確立処理を行う接続確立処理部１３０と、前記接続用データのデータレートを静的に設定し、前記接続確立処理後に前記通信部から送信される送信データのデータレートを動的に設定する通信制御部１４０と、を通信装置に設ける。 - 特許庁

To provide a method for obtaining a component with a large expansion rate in one process without applying a drawing process of a tube end and process annealing, in hydroforming equipment and a hydroforming method by which a tube is processed into a predetermined shape while pushing a tube end portion into a tube axis direction by holding the tube in a die and applying internal pressure in the tube.例文帳に追加

管を金型内に収容し，管内に内圧をかけて管端部を管軸方向に押し込みつつ所定の形状に加工するハイドロフォ−ム加工装置及び加工方法において，管端の絞り工程や中間焼きなまし処理を必要とせずに，大きな拡管率を有する部品を１工程で得られるハイドロフォ−ム加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conveying device capable of supplying wet mixture of constant quality to a subsequent process with a small rate of a change in water content in the wet mixture before and after a conveying process, and capable of preventing generation of a crack and cell shortage on an extruded molded body especially when used in a manufacturing process of a honeycomb structure.例文帳に追加

搬送工程前後における湿潤混合物の水分含有量変化率が小さく、後の工程に一定品質の湿潤混合物を供給することができる搬送装置であり、特にハニカム構造体の製造工程に用いた場合に、押出された成形体にクラック、セル切れ等が発生することを防止することができる搬送装置を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive material which increases the polishing rate of a ruthenium material even under low polishing pressure, enables a chemical mechanical polishing process to be carried out through a single-stage process by the use of a single kind of slurry, reduces defects in an insulating film, and is capable of improving its polishing properties so as to simplify a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

低い研磨圧力下においてもルテニウムの研磨速度を向上させることができ、さらに１種類のスラリーを用いて１段階の工程だけで化学機械的研磨工程が進められ絶縁膜上の欠陥を減少させると共に、研磨特性を改善させることができるので化学機械的研磨工程を単純化させる。 - 特許庁

The method for manufacturing a light emitting element has a process to form an MQW active layer 24 including a process to form a well layer 21 composed of a nitride semiconductor layer, a process to form a barrier layer 23 using a carrier gas containing hydrogen of the ratio of 2% or more to nitride and a total flow rate of carrier gas on the well layer 21.例文帳に追加

本発明は、窒化物半導体層からなる井戸層２１を形成する工程と、井戸層２１上に窒素および全キャリアガス流量に対して２％以上の割合の水素を含有するキャリアガスを用いてバリア層２３を形成する工程と、を含むＭＱＷ活性層２４を形成する工程を有する発光素子の製造方法である。 - 特許庁