「rate process」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

In the second condition, the deposition gas including silicon or germanium and hydrogen are supplied to the process chamber while periodically increasing or decreasing the flow rate ratio therebetween, and the pressure in the process chamber is set to 1333 Pa or more and 13332 Pa or less.例文帳に追加

第２の条件は、シリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体と、水素との流量比を周期的に増減させながら処理室に供給し、且つ処理室内の圧力を１３３３Ｐａ以上１３３３２Ｐａ以下とする条件である。 - 特許庁

By showing temporal progress on the basis of the duration data, a precise temporal progress of the update process can be notified on which processing speed and data transfer rate of a hardware associated with the update process of the firmware are reflected.例文帳に追加

この所要時間データに基づいた時間的進捗度の表示を行うことで、ファームウェアの更新処理に関与するハードウェアの処理速度やデータ転送速度を反映した更新処理の正確な時間的進捗度を報知することができる。 - 特許庁

To suppress variability in film thickness in a process of depositing e.g. an antireflection coating by stabilizing film deposition rate from the initial stage of the use of a target to the end of its life in a sputtering deposition process using an Nb sputtering target.例文帳に追加

Ｎｂスパッタリングターゲットを用いたスパッタ成膜工程において、ターゲットの使用初期からライフエンドまで成膜速度を安定化させることによって、例えば反射防止膜の形成工程における膜厚のばらつきの発生を抑制する。 - 特許庁

When a series of processes are conducted to a substrate W in the substrate processing equipment, process history data composed of items such as a carrier time, a process time, the temperature of a plate, the number of revolution of a spin motor, the flow rate of a liquid or the like, are gained previously at every substrate W.例文帳に追加

基板処理装置にて基板Ｗに一連の処理を行っているときに、搬送時間、処理時間、プレート温度、スピンモータの回転数、液の流量等の項目からなる処理履歴データを基板Ｗごとに取得しておく。 - 特許庁

To provide a semiconductor evaluating system which improves a working rate and raises a process throughput as well as a TAT is shortened when evaluating the result of process on a semiconductor wafer.例文帳に追加

本発明は、半導体ウェーハについてのプロセス処理の結果を測定評価する際に、稼働効率を向上させて、工程のスループットを高め、延いてはＴＡＴを短縮させることができる半導体評価システムを提供することを目的とする。 - 特許庁

In this digital spectrum analyzer, high-speed raster conversion process and attenuation process are used for acquiring complex digital data of analyzed input signal on frequency span more than once to be accumulated in raster memory at waveform updating rate.例文帳に追加

デジタル・スペクトラム・アナライザにおいて、高速ラスタ変換処理と減衰処理を用いて、周波数スパンに関して被分析入力信号の複素デジタル・データを複数回取込み、波形更新レートでラスタ・メモリに累積することで、合成波形を生成する。 - 特許庁

The estimated process/parameters are then used to determine, in a controller for real-time control of the waste incineration plant, control parameters, such as a waste feed rate corresponding to input variables of a model of the waste combustion process.例文帳に追加

その評価されたプロセス・パラメータは、次に、廃棄物焼却プラントのリアルタイム制御のためのコントローラの中で、廃棄物燃焼プロセスのモデルの入力変数に対応する廃棄物供給速度などの、制御パラメータを決定するために使用する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing C_6F_8 that has a high conversion rate and a high selectivity and produces a small amount of a by-product and is therefore useful as a commercializing process from C_6F_6 as a starting substance, and a fluorinating agent useful for the fluorination process.例文帳に追加

Ｃ_６Ｆ_６を出発物質として転換率および選択率が高く、副産物生産量が低いため、商用化工程として有用なＣ_６Ｆ_８を製造する方法、および前記フッ素化工程に有用なフッ素化剤の提供。 - 特許庁

To properly avoid such a condition that an NR feedback rate comes to be 100% state and an afterimage remains in an output image when performing a recursive NR process using an output image data of a previous frame which has undergone a data compression/expansion process.例文帳に追加

データ圧縮伸長処理を経た１フレーム前の出力画像データを用いて巡回型のＮＲ処理を行う際に、ＮＲ帰還率が１００％の状態となって出力画像に残像が残る状態を良好に回避する。 - 特許庁

The alumina particles are manufactured by Bayer process (wet alkaline process) and they are spheric, making an crystal (corundum structure) and having 1 to 2 m^2/g specific surface area, ≤2.5 μm average volume particle diameter, ≤0.05% sodium content and 0.99 environmental change rate.例文帳に追加

アルミナ粒子はバイヤー法（湿式アルカリ法）で製造され、丸い形状で、α結晶（コランダム構造）をなし、比表面積が１〜２ｍ^2／ｇ、平均体積粒径が２．５μｍ以下、ナトリウム含有量が０．０５％以下、環境変動率が０．９９である。 - 特許庁

To provide a combustion improver which is capable of adjusting heat and the oxidation rate, and thus can directly and indirectly dissolve phenomena of energy saving and air pollution through diminishing heat reaction generated in combustion process and increasing the oxidation speed generated in combustion process.例文帳に追加

燃焼に対して、燃焼過程で起こる熱反応を短縮する事と、燃焼過程で起こる酸化スピードを上げ、省エネルギーや大気汚染の現象を直接、間接的に解決できる熱、及び酸化速度の調整のできる助燃剤を提供する。 - 特許庁

To provide a method for separating and recovering platinum group elements, technetium, tellurium and selenium selectively with a high recovery rate, from nitric acid dissolved liquid treated in a reprocessing plant of spent nuclear fuel, or from radioactive process waste liquid produced in a process.例文帳に追加

使用済核燃料の再処理工場で扱う硝酸溶解液、又は工程で発生する放射性プロセス廃液から白金族元素、テクネチウム、テルル及びセレンを高回収率で選択的に分離回収する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a recovery method which can reduce manganese oxide in slag produced after having produced ferromanganese or silicon-manganese with a smelting reduction process, at a high reduction rate, when using the slag in a steelmaking process.例文帳に追加

溶融還元製錬によりフェロマンガン或いはシリコマンガンを製造する際に発生するスラグを製鋼工程で使用するに当たり、当該スラグ中のマンガン酸化物を極めて高い還元率で還元することが可能な回収方法を提供する。 - 特許庁

A high quality of joint area and a high operation efficiency can be achieved together by controlling rotation number of the pipe joint to an optimum value for each process so as to maintain a release rate of frictional heat at the joint area to an optimum value for each process.例文帳に追加

管状継手の回転数を工程毎に最適の値に制御することにより、摩擦熱による接合部の発熱速度を工程毎の最適値に保ち、接合部の高品質と高い作業効率の両方を同時に実現できる。 - 特許庁

The combination of a process pressure below about 1 Torr with a hydrogen flow rate up to about 3 standard later for minute (SLM) has been found to remove substantially all oxygen contamination from the surface of the silicon wafer at a process temperature less than about 800°C without the use of a reactive gas.例文帳に追加

約１トール以下の処理圧力と約３ＳＬＭまでの水素流量の組合せによって、反応性ガスを用いずに約８００未満の処理温度でシリコンウエハ表面から酸素汚染を実質的にすべて除去されることが分かった。 - 特許庁

The gas supplying pipeline (between a process tube and a liquified gas cylinder) is provided with a vacuum pump to forcibly send out and draw in gas from and into the liquified gas cylinder, resulting in supplying liquified gas in the gas-supplying pipeline and in the process tube stably at a constant flow rate.例文帳に追加

ガス供給配管（プロセスチューブと液化ガスボンベ間）に真空ポンプを設け、液化ガスボンベから強制的にガスを送引することで、ガス供給配管内やプロセスチューブ内における液化ガスの流量を一定に安定して供給する。 - 特許庁

This system retrieves the evaluation amount of the used vehicle, car discarding expense and vehicle components, instructs or retrieves parts needed to be removed in the car discarding process and processes the calculation of the recycle effective rate of a discarded car by using an identifier proper to the vehicle, which is used in common in a vehicle manufacturing process, sales process and car discarding process, as a keyword.例文帳に追加

車両の製造過程、販売過程および廃車処理過程において共通に用いられる車両固有の識別子をキーワードにして、車両の中古車評価額の検索、廃車処理費用の検索、車両の構成部品の検索、廃車処理過程における取り外し必要部品の指示または検索および廃車のリサイクル実効率の算出の処理を実行する。 - 特許庁

A polyoxyethylene alkyl ether sulfate is produced by carrying out a sulfation reaction process for bringing a polyoxyethylene alkyl ether into contact with a SO3-containing gas at ≥40°C to sulfate the polyoxyethylene alkyl ether, a cooling process for cooling the reaction product of the sulfation reaction process at ≥1°C/s cooling rate to ≤30°C and a neutralization process for neutralizing the reaction product after the cooling process.例文帳に追加

反応温度４０℃以上で、ポリオキシエチレンアルキルエーテルとＳＯ_３含有ガスとを接触させて硫酸化する硫酸化反応工程と、この硫酸化反応工程の反応生成物を、１℃／ｓ以上の冷却速度で、３０℃以下の温度に冷却する冷却工程と、この冷却工程後の反応生成物を中和してポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩を製造する中和工程を行ってポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩を製造する。 - 特許庁

The activation rate is inferred based on the exhaust gas flow rate of exhaust gas passing through the oxidation catalyst 28a, the temperature of exhaust gas flowing into the oxidation catalyst 28a, and the injection time and the injection amount of the expansion process injection F1 injected immediately before it.例文帳に追加

そして、活性化率は、酸化触媒２８ａ内を通過する排気ガスの排気ガス流速、酸化触媒２８ａに流入する排気ガスの温度、及び直前に噴射された膨張行程噴射Ｆ１の噴射時期及び噴射量とに基づいて、推定される。 - 特許庁

To make a supply flow rate of oxygen gas adjustable in accordance with the physical condition of a patient and ensure the supply of the oxygen gas at a stable flow rate for a long time, when enriched oxygen is obtained from air by a compressed swing adsorption process.例文帳に追加

圧縮スイング吸着方式により空気から濃縮酸素を得ようとするときに、患者の状態に応じて酸素ガス供給流量を調整可能にするとともに、長時間に亙って安定した流量にて酸素ガスを供給できるようにする。 - 特許庁

In the second adsorbent 52, the adsorption quantity per a unit weight of a gas having a larger residual rate in the re-generating process in the first and the second gases is smaller than the adsorption quantity per a unit weight of the other gas having a smaller residual rate.例文帳に追加

第２の吸着剤５２は、吸着された第１及び第２の気体のうち再生処理での残留割合が大きい気体の単位重量当たり吸着量が、該残留割合が小さいほうの気体の単位重量当たり吸着量よりも小さい。 - 特許庁

To attain a low cost by the reduction of the number of elements, to secure the stability of an output action even when the fluctuation exists in manufacture process and, besides, to facilitate through rate adjustment in a through-rate control type output buffer circuit.例文帳に追加

スルーレート制御型の出力バッファ回路に関し、素子数の低減化による低価格化を図ることができ、しかも、製造プロセスにばらつきがあっても、出力動作の安定性を確保することができ、更に、スルーレートの調整の容易化を図ることができるようにする。 - 特許庁

The frame rate of a pause frame of a moving image is detected, and the number of frame images of the moving image to be used in a process of increasing the resolution of a low-resolution image is determined such that a larger number of frame images is set for a higher detected frame rate.例文帳に追加

動画像の一時停止したフレームにおける当該動画像のフレームレートを検出し、検出されたフレームレートが高いほど、低解像度の画像を高解像度化する処理で用いる、動画像のフレームの画像の枚数が多くなるよう決定する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which expands the range of a realizable variable power rate by setting the process speed of image reproduction in accordance with a variable power rate and also accelerates the processing speed of image reproduction within the allowable range of a scanner scanning speed.例文帳に追加

変倍率に対応して画像再生のプロセス速度を設定することにより、実現可能な変倍率の範囲を拡大するとともに、スキャナの走査速度の許容範囲内で画像再生の処理速度を高速化する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In the first adsorbent 50, the adsorption quantity per unit weight of a gas having a larger residual rate in the re-generating process in the first and the second gases is larger than the adsorption quantity per a unit weight of the other gas having a smaller residual rate.例文帳に追加

第１の吸着剤５０は、吸着された第１及び第２の気体のうち再生処理での残留割合が大きい気体の単位重量当たり吸着量が、該残留割合が小さいほうの気体の単位重量当たり吸着量よりも大きい。 - 特許庁

A second correcting rate, which is a percentage of data subjected to correcting process in the read data, is compared with a track type determination value (S15), and the track is determined as an audio track (S15:NO) or a data track (S15:YES) according to the second correcting rate.例文帳に追加

読み取ったデータの中で訂正処理を行ったデータの占める割合である第２訂正率をトラック種判定値と比較し（Ｓ１５）、第２訂正率の大小に応じて当該トラックをオーディオトラック（Ｓ１５でＮＯ）又はデータトラックであると判定する（Ｓ１５でＹＥＳ）。 - 特許庁

The method for producing the carbon fiber comprises the following process: After forming a precursor fiber from the thermoplastic carbon precursor, the precursor fiber is heat-treated until the rate of radical extinction is greater than the rate of radical formation to form a stabilized precursor fiber followed by carbonizing or graphitizing the stabilized precursor fiber.例文帳に追加

熱可塑性炭素前駆体から前駆体繊維を形成した後、ラジカルの消失速度が生成速度よりも速くなるまで熱処理して安定化前駆体繊維を形成し、ついで安定化前駆体繊維を炭素化もしくは黒鉛化する。 - 特許庁

To provide a silicon based thin film and a method for forming a large grain size silicon based thin film having a high crystallization rate at a high rate on an inexpensive substrate of glass, ceramics, metal, or resin by a low temperature process of 450°C or below.例文帳に追加

ガラス、セラミックス、金属、樹脂等の安価な基板上に４５０℃以下の低温プロセスで結晶化率が高く、結晶粒径の大きいシリコン系薄膜を高速に形成することができるシリコン系薄膜、および製膜方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A control part 3 of the feed rate optimizing device 1 calculates cut amount for each micro-zone of a tool passage by using work shape information, tool shape information, and tool path information before process, and determines the first feed rate corresponding to the cut amount.例文帳に追加

送り速度最適化装置１の制御部３は、加工前のワーク形状情報、工具形状情報及び工具経路情報を用いて、工具経路の微小区間ごとに切削量を算出し、切削量に応じて第１の送り速度を決定する。 - 特許庁

The flow-rate calculation process part 30 acquires a flow-rate factor based on the movement distance of the movable venturi 12 detected by a rotary encoder 24, correction is performed with the pressure and temperature of the diluted gas detected by a pressure sensor 4 and a temperature sensor 5 for calculating a flow rate, which is outputted while feed-back controlled.例文帳に追加

流量演算処理部３０は、ロータリーエンコーダ２４で検出した可動ベンチュリー１２の移動距離に基づいて流量係数を求め、圧力センサ４，温度センサ５で検出した希釈ガスの圧力，温度による補正を行なって流量を演算し求めた流量を出力するとともに、流量のフィードバック制御を行なう。 - 特許庁

The recording layer contains a compound which is represented by a specific formula and has a pyrolytic property where a mass loss rate in a main loss process in thermal mass analysis is 10% or more.例文帳に追加

記録層は、ある特定式で表され、かつ熱質量分析での主減量過程における質量減少率が１０％以上である熱分解性を有する化合物を含有する。 - 特許庁

To reduce the rate at which the response characteristic of a process for a device failure alarm deteriorates in such cases where line supervision alarms sound at a time due to rain or the like.例文帳に追加

本発明は降雨などによって回線監視アラームが一斉に発生するような場合に、機器故障アラームに対する処理の応答特性の劣化を減らすことを目的とする。 - 特許庁

To reduce the rate at which a ball nonreturn piece is broken so as to enhance its durability and to allow quick replacement even if it is broken by omitting a complicated process of bending it.例文帳に追加

球戻り防止片６の複雑な曲げ処理を廃止し、破損自体を少なくして耐久性を向上させると共に、たとえ破損しても迅速な交換が行えるようにする。 - 特許庁

To solve the problem of the conventional passivation method in the vicinity of a semiconductor bonding pad that, whichever the etching time of a polyimide film 38 is long or short, it causes a trouble in wire bonding, and the margin of the etching time is small in the etching process of the polyimide film 38, failure rate is high.例文帳に追加

従来の半導体のボンディングパッド付近のパッシベーション方法は、ポリイミド膜３８のエッチング時間が長くても短くてもワイヤボンディングに支障をきたす。 - 特許庁

To provide an apparatus for processing substrates which can enhance cleaning capability and coating-film removing capability, by increasing the reaction rate of the process and raising the activity of the processing liquid.例文帳に追加

処理の反応速度を高めるとともに処理液の活性度を高めることによって、洗浄能力や被膜除去能力を向上できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a Josephson junction which is tolerant to fluctuations in a polishing rate, superior in manufacturing yield, and subjected to a polishing process whose end point can be surely detected, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

研磨レートの変動に対して寛容であると共に、研磨プロセスの終点検出が確実であって、高い歩留まりが得られるジョセフソン接合とその作製方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resin composition for a filter, which is small in a scattering amount of phenols and aldehydes, and capable of shortening time of a curing process by its high curing rate, when producing the filter.例文帳に追加

フィルター製造時に、フェノール類やアルデヒド類の飛散量が少なく、且つ硬化する速度が速く硬化工程にかかる時間を短縮化できるフィルター用樹脂組成物に関する。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer etching apparatus which can improve an etching rate better than that of a prior art, can perform every etching process by a wet etching method with higher accuracy and can further include a chemical solution collecting system.例文帳に追加

従来よりもエッチング速度を向上させ、全てのエッチングをウェットエッチングで高精度に行ない、さらに薬液の回収システムを含めた半導体ウェハエッチング装置を得る。 - 特許庁

Thus, a refresh period is appropriately calibrated even though two elements of temperature and process change, power consumption is reduced and the busy rate of a DRAM can be reduced.例文帳に追加

これにより、温度と工程の２つの要素の変化があってもリフレッシュ周期が適切に調節され、消費電力を減少させてＤＲＡＭのビジーレートも減少させることができる。 - 特許庁

To provide an EMI reducing PLL which can freely control a modulation frequency and a modulation rate although the PLL is not sensitive to the manufacturing process and has low power consumption and small layout area.例文帳に追加

製造プロセスに敏感でなく、低消費電力、小レイアウト面積でありながらも変調周波数及び変調率を自由に制御できるＥＭＩ低減ＰＬＬを提供する。 - 特許庁

In this sputtering process, the flow rate of gaseous oxygen is set to be smaller than the upper limit at which a state where metal Ti is exposed to the surface of the target is regularly held.例文帳に追加

このスパッタ法において、酸素ガスの流量は、ターゲットの表面に金属Ｔｉが露出した状態が定常的に保持される上限の流量よりも少ない流量とすればよい。 - 特許庁

In the sputtering process of the manufacturing method, sputtering is carried out within a substrate temperature range of 5-450°C, and within a range of 0.5-50 atom% of a scandium content rate.例文帳に追加

本発明に係る製造方法におけるスパッタリング工程では、基板温度を５〜４５０℃の範囲で、スカンジウムの含有率が０．５〜５０原子％の範囲となるようにスパッタリングする。 - 特許庁

According to the present invention, a cathode is doped with Li ions before a cell is assembled, thereby simplifying the manufacturing process, enhancing the doping rate of Li ions, and making the doping amount even.例文帳に追加

本発明によると、セルが組み立てられる前にリチウムイオンが陰極にドーピングされ、製造工程が簡単になり、リチウムイオンのドーピング速度が向上し、ドーピング量が均一になることができる。 - 特許庁

Furthermore, the method includes a step of adjusting a flow rate of the rotor process by-product gas (42) supplied to the at least one of the rotor cavities (68, 70) according to pre-programmed parameters.例文帳に追加

本方法はさらに、予めプログラムされたパラメータに応じて空洞（６８、７０）の少なくとも１つに供給されるプロセス副生ガス（４２）の流量を調整するステップを含む。 - 特許庁

To reduce time required for prearrangement and to improve operating rate of a machine by eliminating manual operation in the prearrangement of a paper mending process for semi-automation.例文帳に追加

紙継工程の前準備作業における手動操作を無くして半自動化することで、前準備にかかる時間を短くし、機械の稼働率を上げることができるようにする。 - 特許庁