「shape pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing the dielectric sheet includes: forming an embossed pattern formed of a thermoplastic material on a carrier film; forming a dielectric sheet by casting dielectric slurry onto the carrier film to cover the embossed pattern; removing the carrier film and the embossed pattern to leave an intaglio pattern having the shape corresponding to the embossed pattern on the dielectric sheet; and filling the intaglio pattern of the dielectric sheet with a conductive material.例文帳に追加

本発明の一側面にかかる誘電体シートの製造方法は、キャリアフィルム上に熱可塑性物質からなる陽刻パターンを形成する段階と、上記キャリアフィルム上に上記陽刻パターンを覆うように誘電体スラリーをキャスティングして誘電体シートを形成する段階と、上記陽刻パターンに対応する形状を有する陰刻パターンが上記誘電体シートに残るように上記キャリアフィルムと上記陽刻パターンを除去する段階と、上記誘電体シートの上記陰刻パターンに導電性物質を充填する段階を含む。 - 特許庁

This character pattern generation method is characterized in that it has a step of receiving input of the character pattern composed of time series tool point coordinate information when a character is written and a step of generating the character pattern plotted by a prescribed typeface with a prescribed writing tool on the basis of the definition of a limited number of basic stroke shapes or the definition of a basic part shape from the character pattern.例文帳に追加

本発明の文字パターン生成方法は、文字が筆記されるときの時系列筆点座標情報からなる文字パターンの入力を受けるステップと、上記文字パターンより、有限個の基本筆画形状の定義及び基本部位形状の定義のいずれかに基づいて、所定の筆記具により所定の書体で描かれた文字パターンを生成するステップと、を有することを特徴とする。 - 特許庁

To easily form a resist pattern which widens gradually from a substantial gate electrode pattern forming a stripe toward an umbrella part pattern using a very simple means with respect to a resist pattern forming method, to reduce the parasitic capacity produced between an umbrella part and an operation layer in a T-shape gate electrode and to obtain a field-effect semiconductor device which attains high-frequency high-speed operation.例文帳に追加

レジスト・パターン形成方法に関し、極めて簡単な手段に依って、細条をなす実質的ゲート電極パターンから傘部パターンに向かって次第に拡幅するレジスト・パターンを容易に形成できるようにして、Ｔ型ゲート電極に於ける傘部と動作層との間に生成される寄生容量を低減し、高周波の高速動作が可能な電界効果型半導体装置の実現に寄与しようとする。 - 特許庁

An electron beam resist layer 21 is formed on a base material 11, and patterning processings such as pattern drawing and development of the electron beam resist layer 21 are carried out by using an electron beam exposure device to form an initial resist pattern 22 in a lattice shape at a prescribed position on the base material 11.例文帳に追加

基材１１上に電子線レジスト層２１を形成し、電子線露光装置を用いて、電子線レジスト層２１のパターン描画、現像等のパターニング処理を実施し、基材１１上の所定位置に格子形状の初期レジストパターン２２を形成する。 - 特許庁

The regions 14a and 14b have a long rectangular pattern opening 16 formed substantially at the center, and 39 small opening positional deviation measuring marks 18 disposed in a lattice shape at equal intervals in the lateral an longitudinal directions around the pattern opening 16.例文帳に追加

単位走査領域１４ａ及び１４ｂは、ほぼ中央に形成された縦長の長方形のパターン開口１６と、パターン開口１６の周りに縦横等間隔の格子状に配置された３９個の小開口の位置ずれ測定マーク１８とを備えている。 - 特許庁

When a fusible body is formed on a substrate, a process for forming a resist pattern having an opening of a shape corresponding to the fusible body on the substrate and a process for applying a fusible body paste on the substrate with the resist pattern as a mask.例文帳に追加

基板上に可溶体を形成するに際し、前記可溶体に対応する形状の開口部を有するレジストパターンを前記基板上に形成する工程と、前記レジストパターンをマスクとして前記基板上に可溶体ペーストを塗布する工程とを行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a chemically amplified negative resist material which satisfies high sensitivity, high resolution and aging stability required by lithography in which fine pattern formation is required, particularly electron beam lithography and has excellent process adaptability and a good pattern shape.例文帳に追加

微細なパターン形成が要求されるリソグラフィー、特に電子線リソグラフィーで求められる高感度、高解像度、経時安定性をより高いレベルで満たし、優れたプロセス適応性と良好なパターン形状を有する化学増幅型ネガ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To perform highly accurate sewing along the shape of a punch part forming a punch pattern and also to improve sewing efficiency when the punch pattern is formed on the front surface of the fabric for a sewn product to be the base material of a bag or other various sewn products.例文帳に追加

鞄その他の各種縫製品の素材となる縫製品用生地の表面に打ち抜き模様を形成するに際し、打ち抜き模様を形成する打ち抜き部の形状に沿って高精度な縫製を可能とするとともに縫製効率を向上させる。 - 特許庁

To obtain a resin composition suitable for use as the resin component of a chemical amplification type positive type photoresist which exhibits superior sensitivity and resolution and gives a pattern having a good cross-sectional shape when a fine resist pattern is formed using radiation, e.g. KrF excimer laser light.例文帳に追加

放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザーを用いて微細なレジストパターンを形成する際に、優れた感度、解像度を示し、かつ断面形状の良好なパターンを与える化学増幅型ポジ型ホトレジストの樹脂成分として好適な樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Inside a sensor area 151 of a substrate 101 in the surface shape recognizing sensor chip 100, a plurality of metallic patterns 104a and a grid- shaped metallic pattern 106a are formed, while a frame-shaped metallic pattern 106b surrounding the sensor area 151 is formed.例文帳に追加

表面形状認識用センサチップ１００の基板１０１のセンサ領域１５１内に、複数の金属パターン１０４ａと格子状の金属パターン１０６ａを形成するとともに、センサ領域１５１の周囲を囲う枠状の金属パターン１０６ｂを形成する。 - 特許庁

To improve the yield in a manufacturing process step by gently sloping the pattern sectional shape of the pattern formation performed by using selective etching by dry etching and abating a shorting defect in manufacturing a liquid crystal display device of an active matrix type.例文帳に追加

アクティブマトリックス方式の液晶表示装置の製造に際し、ドライエッチングによる選択エッチングを用いて行なったパタン形成のパタン断面形状をなだらかにし、ショート不良を低減することにより製造工程における歩留まりを向上すること。 - 特許庁

A light emitting element and a light receiving element are formed on a semiconductor chip adjacent to each other, the light emitting element on the semiconductor chip projects a pattern for measuring a three- dimensional shape and the light receiving element on the chip picks up the image of the pattern on the optical axis.例文帳に追加

半導体チップ上に発光素子と受光素子とを隣接して形成し、３次元形状計測用の投光パターンを半導体チップ上の発光素子によって投影し、同パターンをこのチップ上の受光素子によって、同光軸上で撮像する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition having high transparency to ArF excimer laser, exhibiting excellent sensitivity, resist pattern shape, dry etching resistance and adhesion, having a great affinity for an alkali and capable of giving a good resist pattern by paddle development.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーに対する透明性が高く、かつ優れた感度、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性及び密着性を示すとともに、アルカリに対する親和性が高く、パドル現像により良好なレジストパターンを与えうる化学増幅型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

A resist pattern 1 of a prescribed shape is formed on a mask substrate 3 with a formed chromium film 2 and subjected to a plasma treatment with a fluorine-containing gas and then the chromium film 2 is dry-etched using the resulting resist pattern 4 as a mask.例文帳に追加

クロム膜２が形成されたマスク基板３上に所定形状のレジストパターン１を形成し、レジストパターン１をフッ素系ガスを用いてプラズマ処理し、得られたレジストパターン４をマスクとして用いてクロム膜２をドライエッチングすることからなるクロムマスクの形成方法。 - 特許庁

To solve such a problem that alignment between layers when stacking the layers is attended with difficulties in the conventional manufacturing method, because it is difficult to detect a displacement beyond a prescribed range of the period of a pattern when performing the alignment by using the pattern of a diffraction grating shape.例文帳に追加

従来の作製方法では、層を積み重ねて行く際の層間の位置合わせに困難があるが、これは、回折格子状のパターンを用いて位置合わせを行なう際に、その周期分を超えた変位について、検出が困難であることに起因する。 - 特許庁

The semiconductor device 1 comprises a hollow triangular pyramid shape wiring board with a wiring pattern formed in it while facing inside, and a semiconductor chip 20 is packaged inside so as to be connected to a wiring pattern of at least one inner face.例文帳に追加

半導体装置１は、配線板をそこに形成されている配線パターンが内側に面するように中空の三角錐状に構成してなり、その内部には少なくとも１つの内面の配線パターンに接続されるように半導体チップ２０が実装される。 - 特許庁

To provide a vehicle light that is configured to form an additional light distribution pattern additionally by emission light from an additional lens formed integrally at the surrounding of a convex lens against a basic light distribution pattern, in which the shape of the convex lens and the additional lens is simplified.例文帳に追加

基本配光パターンに対して、凸レンズの周囲に一体的に形成された付加レンズからの出射光により付加配光パターンを付加的に形成するように構成された車両用灯具において、凸レンズおよび付加レンズの形状を簡素化する。 - 特許庁

To provide a resist composition improving lithographic characteristics and forming a resist pattern of an excellent shape, a method for forming a resist pattern, a photobase generator for use in the resist composition, and a new compound useful as the photobase generator.例文帳に追加

リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法、並びに、当該レジスト組成物用の光塩基発生剤および当該光塩基発生剤として有用である新規な化合物の提供。 - 特許庁

To provide a cyclic compound which has high solubility in a safe solvent and high sensitivity and can obtain a resist pattern having a good shape, a process for producing the same, a radiation-sensitive composition including the same, and a resist pattern-forming method using the radiation-sensitive composition.例文帳に追加

安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、得られるレジストパターン形状が良好な環状化合物、その製造方法、それを含む感放射線性組成物、および該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stream dot technique with excellent convenience which defines two or more pieces of information by a dot pattern formed on the basis of benchmark dots disposed in sequence in a line on the surface of a medium without being dependent on the shape of a rectangular region that configures a dot pattern.例文帳に追加

ドットパターンを構成する矩形領域の形状に依存せず、媒体表面上に線状に連続して配置された基準ドットに基づいて形成されたドットパターンにより複数の情報を定義して、利便性に富んだストリームドットの技術を実現する。 - 特許庁

Therefore, the recess 16 is formed into the shape of a conductor pattern, so that a prescribed conductor pattern 10 composed of the base layer 18 inside the recess 16 and a conductor layer 20 or a conductor film 11 formed thereon is formed on the surface 12 of the board 14.例文帳に追加

そのため、その凹所１６は導体パターン形状に形成されていることから、その凹所１６内の下地層１８およびその上に形成される導体層２０すなわち導体膜１１によって所定の導体パターン１０が表面１２に形成される。 - 特許庁

Since the permissible range of the energy is narrow with the photosensitive material, such as the X-ray film 12, the formation of the dot pattern at the point of the time the transient period is past by the previous irradiation with the laser beam LB is extremely effective in forming the dot pattern of the adequate shape.例文帳に追加

Ｘレイフィルム１２等の感光材料では、エネルギーの許容範囲が狭いため、予めレーザービームＬＢを照射して過渡期を過ぎた時点でドットパターンを形成することは、適正な形状のドットパターンを形成する上で非常に有効である。 - 特許庁

The game machine comprises a pattern display area 23 provided within the center case 20 of a game board 10, a plurality of LEDs 21a to 21d aligned in a predetermined configuration near the pattern display area, and retention-indicating lamps formed of illuminated members 30 to 50 disposed on the front surfaces of the LEDs and each having a predetermined shape.例文帳に追加

遊技盤10のセンターケース20内に設けられた図柄表示領域23と、この近傍に所定形状に配列された複数のＬＥＤ21ａ〜21ｄおよびその前面に配設された所定形状の被照明部材30〜50よりなる保留ランプとにより構成される。 - 特許庁

Thus, since a designated parameter to be designated for generating a basic pattern that the present image processing apparatus can detect, can be easily acquired and designated, detection precision of a pattern having a complicated shape can be easily maintained and improved.例文帳に追加

この構成によれば、本画像処理装置が検出可能な基礎パターンを生成するために指定されるべき指定変数を容易に取得し、指定することができるため、複雑な形状を有するパターンの検出精度を容易に維持、向上させることができる。 - 特許庁

A left/right symmetry of a shape of the metal dummy pattern 6 viewed from the center GC of the gate electrode 1 is kept in the region of the gate electrode 1 even if a position of the metal dummy pattern 6 is displaced from its original design caused by the displacement of a mask of wiring.例文帳に追加

配線のマスクずれの発生により、メタルダミーパターン６の位置が設計時からずれた場合であっても、ゲート電極１の領域内において、ゲート電極１の中心ＧＣから見たメタルダミーパターン６の形状は、左右対称性が保たれる。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated line pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立ラインパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The components 4 and the wiring pattern are enclosed in a sandwich structure from the front surfaces and the rear surfaces by a GND solid pattern with the use of a film shape member with a conductive layer formed on the whole surface, thereby covering the flexible board 6a by excluding a connector part 7 for inputting a signal.例文帳に追加

信号が入力されるコネクタ部７を除いて、フレキシブル基板６ａを覆うように、全面に導電層が形成されたフィルム状部材により、部品４及び配線パターンをＧＮＤベタパターンにより表面・裏面からサンドイッチ構造に包み込む。 - 特許庁

A template 4 on a program is set corresponding to a work 1, a pattern 3 having a shape for cutting overlaps on this template 4, and a part where a contour of this pattern 3 overlaps a cuttable part 1a of the work 1 is recognized as the cutting part 5.例文帳に追加

被切断材１に対応させてプログラム上のテンプレート４を設定し、このテンプレート４に切断すべき形状を持った図形３を重ね合わせ、該図形３の輪郭線と被切断材１の切断可能部１ａとが重なる部分を切断部５として認識する。 - 特許庁

Further, the wiring pattern can be provided in a mirror fixing member which fixes the mirror substrate, or the mirror substrate of the shape variable mirror is made larger than the mirror fixing member, and at least a part of the wiring pattern on the mirror substrate is positioned at the outside of the mirror fixing member.例文帳に追加

さらに鏡基板を固定する鏡固定用部材に配線パターンを有するか、又は、形状可変鏡の鏡基板を鏡固定用部材よりも大きくし、鏡基板上の配線パターンの少なくとも一部が鏡固定部材の外側に位置する。 - 特許庁

Each color image pattern of a rectangular shape on the moving medium 53, which is formed on the second area sensor 66, is photoelectrically converted as an optical image, edge positions of both major sides of the image pattern are detected while setting a threshold and the center of the edge positions is set as a forming position.例文帳に追加

第２エリアセンサ６６に結像された移動媒体５３上の矩形状の各色画像パターンが光学像として光電変換され、画像パターンの長辺両側のエッジ位置を、しきい値を設定して検出し、その中央を形成位置とする。 - 特許庁

An IC tag area determined on the basis of the size and shape of the IC tag is acquired first (S10), and then whether or not the IC tag area can be included in an applique pattern area determined on the basis of applique pattern data is judged (S20).例文帳に追加

まず、ＩＣタグの大きさ及び形状に基づき定められたＩＣタグ領域を取得し（Ｓ１０）、続いて、アップリケ模様データに基づき定められるアップリケ模様領域内にＩＣタグ領域を包含させることができるか否かを判定する（Ｓ２０）。 - 特許庁

This method includes a stage where the pattern is formed on the surface of the material to be worked by pressing the surface of a metallic material to be worked which is formed into an aimed shape with a punch having the pattern carved at least in a part of a pressing surface.例文帳に追加

目的形状に成形された金属製の被加工材の表面を、プレス面の少なくとも一部に模様が刻設されたパンチによってプレスすることにより、前記被加工材の表面へ模様を形成する工程を含むことを特徴としている。 - 特許庁

To obtain satisfactory connection by preventing the end part of a pattern from becoming a reversely tapered shape at the time of forming the pattern by etching off the insulating film arranged under a wiring while using the wiring as a mask and by suppressing the step cutting of a connecting elec trode which is to be provided on the end part.例文帳に追加

配線の下に配置された絶縁膜を該配線をマスクとしてエッチング除去してパターン形成する際に、該パターン端部が逆テーパ形状となることを防ぎ、その上に設けられる接続電極の段切れを抑制して良好な接続を得る。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated space pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

In measuring the shape of the droplet changing with time, contrast information is extracted from the diffraction pattern being imaged (step S4-2), and the contrast of the central part of the diffraction pattern is so adjusted as to be a contrast enabling measurement of a contact diameter of the droplet (step S4-7).例文帳に追加

経時変化する液滴の形状計測において、撮像された回折パターンからコントラスト情報を抽出し（ステップＳ４−２）、回折パターンの中央部のコントラストを、液滴の接触径を計測可能なコントラストになるように調整する（ステップＳ４−７）。 - 特許庁

To provide a gas discharge display device and a manufacturing method of the same which is capable of forming an electrode pattern of a trapezoid shape with uniformity and without the occurrence of defects or the like in the process of electrode-pattern forming, and also is capable of displaying with high quality.例文帳に追加

電極パターンを形成する工程で、均一でかつ欠陥等を発生させることなく台形形状の電極パターンを形成することを可能とし、高品位な表示を可能とするガス放電表示装置およびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

Further, pattern edges 83, 87 of the wiring patterns 81, 85 in the corresponding wide portion are formed in such a shape that, as away from the point G, the pattern edges 83, 87 are separated in a widening direction of the distance with respect to electrode edges 148, 149 of the LED chip 14.例文帳に追加

また、当該広くなっている部分の、配線パターン８１、８５のパターンエッジ８３、８７が、点Ｇから遠ざかるに連れて前記ＬＥＤチップ１４の電極エッジ１４８、１４９に対し、前記間隔が広くなる方向に離間していく形状に形成する。 - 特許庁

At this time, a main control part 8 as an adjustment part turns on a spare area DA1 of the variable pattern generation section VPG corresponding to the shape or the like of the pattern transferred finally on the plate PL and optimizes an exposure amount by adjusting the exposure amount of each part.例文帳に追加

この際、調整部である主制御部８は、プレートＰＬに最終的に転写すべきパターンの形状等に応じて可変パターン生成部ＶＰＧの予備領域ＤＡ１を点灯し、各部の露光量を調整して露光量の最適化を図る。 - 特許庁

The shape of the inner hole of the magnetic recording medium is measured, the center point of an inscribed circle of the inner hole is obtained, a reference pattern is magnetically formed in a circle state having a fixed radius outside a plotting region of the magnetic pattern on the magnetic recording medium with the obtained center point as a center.例文帳に追加

磁気記録媒体の内孔の形状を測定し、内孔の内接円の中心点を求め、求めた中心点を中心として、磁気記録媒体上の磁気パターンの描画領域外に、一定半径の円状に基準パターンを磁気的に形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a resist pattern superior in sensitivity, resolution, adhesion and resist shape and having satisfactory peelability, a photosensitive element using the same, a method of forming resist pattern, and a method of manufacturing printed wiring board.例文帳に追加

感度、解像性、密着性及びレジスト形状に優れ、且つ剥離特性を十分に満足するレジストパターンを形成し得る感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a vapor deposition mask for obtaining a prescribed shape and a prescribed circuit pattern by sticking and fixing a metallic mask 4 impossible to keep a prescribed dimension and shape in the metallic mask single body to a vapor deposition fixture frame for an organic electroluminescence element.例文帳に追加

本発明は、メタルマスク単体にて所定の寸法形状を維持できないメタルマスク４を、有機エレクトロルミネセンス素子用蒸着治具枠へ接着固定し、所定の寸法形状および所定の回路パターンを実現する蒸着マスクを作成することを目的とする。 - 特許庁

Thereon, by using a screen printing plate on which a shape whose peripheral edge is extended by 0.7 mm from the required pattern is made into a printing plate, the shape is printed with an adhesive layer ink with a color close to a color of the object to be transferred, to form an adhesive layer 18, and to obtain a transfer sheet A.例文帳に追加

その上より、所要図柄より周縁が０．７ｍｍ拡張された形状を製版したスクリーン版により、転写対象物の色に近似した色の接着層インキによりその形状を印刷し、接着層１８を形成し、転写シートＡを得た。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a patterned medium type magnetic recording medium preventing deterioration of a substrate surface in a manufacturing step, suppressing variation of worked shape and a loss time until discharge is stabilized and having a stable worked pattern shape and excellent reliability.例文帳に追加

製造工程中にある基板表面の劣化を防ぎ、加工形状のばらつきおよび放電が安定するまでのロス時間を抑制し、加工したパターン形状が安定し信頼性にすぐれたパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

After an undercoat film having at least one optional shape is formed on a base material, by applying a finish coating on the undercoating film so that the shape of the undercoat film can be distinguished, a pattern coating film having a shade feel can be formed.例文帳に追加

基材上に、少なくとも１個の任意な形状を有する下塗り塗膜を形成した後、該下塗り塗膜上に、該下塗り塗膜の形状が識別できる程度に上塗り塗料を塗装することで、陰影感のある模様塗膜とすることができる。 - 特許庁

(4) The term "configuration of goods" as used in this Act means the external and internal shape of goods and the pattern, color, gloss, and texture combined with such shape, which may be perceived by consumers or other purchasers when making ordinary use of the goods. 例文帳に追加

４　この法律において「商品の形態」とは、需要者が通常の用法に従った使用に際して知覚によって認識することができる商品の外部及び内部の形状並びにその形状に結合した模様、色彩、光沢及び質感をいう。 - 日本法令外国語訳データベースシステム