「surface method」に関連した英語例文の一覧と使い方(850ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a fluoride coated biomedical device, including a process of exposing the surface of a biomedical device to plasma in the presence of a solid supply source of fluorine, wherein the species of fluorine is generated from the solid supply source of fluorine to interact with the surface of the biomedical device, and the biomedical device.例文帳に追加

フッ化物被覆型の生物医学装置を製造するための方法であって、フッ素の固体供給源の存在下にプラズマに対して生物医学装置の表面を曝露する処理、を含み、この場合に、フッ素の種が前記フッ素の固体供給源から発生して、前記生物医学装置の表面に対して相互作用する、方法、およびその生物医学装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a nitride-based compound semiconductor which can manufacture a high quality of nitride-based compound semiconductor by forming a nitride-based compound semiconductor layer having a flat surface and fewer dislocations without using a mask material, and which can enhance characteristics of a nitride-based compound semiconductor device formed on the flat surface of the semiconductor.例文帳に追加

マスク材料を用いることなしに、表面が平坦で低転位な窒化物系化合物半導体層を形成可能とすることによって高品質な窒化物系化合物半導体を製造することができ、その平坦な表面上に形成される窒化物系化合物半導体デバイスの特性を向上させることができる窒化物系化合物半導体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The anisotropic conductive film contains as a conductive component micro metal powder 3 manufactured by a micro electroforming method of forming a micro metal thin film 30 on a micro electrode surface 1a having a given plane shape of a mold M corresponding to its plane shape by electric plating with the surface as a negative electrode, and then peeling it off.例文帳に追加

本発明の異方導電膜は、金型Ｍの、所定の平面形状を有する微小電極表面１ａの表面に、当該表面を陰極とする電気めっきによって、その平面形状に対応した微小な金属薄膜３０を形成したのち、はく離する微細電鋳法によって製造した微細な金属粉末３を、導電成分として含むものである。 - 特許庁

A method of coating a surface with a polymer layer comprises exposing the surface to a pulsed plasma comprising a monomeric saturated organic compound, the compound comprises an optionally substituted alkyl chain of at least 5 carbon atoms optionally interposed with a heteroatom, such as a halo substituted alkane; so as to form an oil or water repellent coating on the substrate.例文帳に追加

ポリマー層により表面をコーティングする方法であって、該方法はモノマー飽和有機化合物を含むパルスされたプラズマに前記表面を曝露することを含んでなり、前記化合物がハロ置換アルカン等の任意にヘテロ原子により介在された少なくとも５個の炭素原子の任意に置換されたアルキル鎖を含んでなり、前記基材上に撥水又は撥油性コーティングを形成する方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the engine block 10 includes the steps of: forming the coating film by blowing a coating material for coating the inner peripheral face of a cylinder liner 12 on the inner peripheral face; grinding the surface of the coating film; and heating the coating film after the grinding step and melting a projected part existing on the surface.例文帳に追加

シリンダライナ１２の内周面を被覆する被覆材料を内周面に吹き付けることによって被覆膜を形成する被覆膜形成工程と、同被覆膜の表面を研削する研削工程とを備えるエンジンブロック１０の製造方法において、研削工程が終了した後に被覆膜を加熱してその表面に存在する突起部を溶融させる加熱工程を備える。 - 特許庁

The method of removing the unnecessary films which dissolves away the unnecessary segments of the films formed on the substrate surface by a solvent comprises covering the surface of the substrate 10 with a cover member 30, supplying the solvent 50 from above this cover member 30 and dissolving the unnecessary segments by the solvent through prescribed solvent supplying holes 31 disposed in the peripheral part of the cover member 30 thereby removing the unnecessary segments.例文帳に追加

基板表面に形成された膜のうちの不要な部分を溶媒によって溶解除去する不要膜除去方法であって、基板１０の表面をカバー部材３０で覆い、このカバー部材３０の上から溶媒５０を供給してこの溶媒５０をカバー部材３０の周辺部に設けられた溶媒供給孔３１を通じて不要な部分を溶媒で溶解して除去する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the seamless belt including a process for forming a resin film by coating the inner or outer surface of a first mold with a synthetic resin dissolved in an organic solvent, releasing the film obtained by evaporating a part of the organic solvent from the first mold and inserting a second mold 1 in the film to cure the film, unevenness is provided to the inner surface of the second mold 1.例文帳に追加

【解決手段】有機溶剤に溶解させた合成樹脂を第１金型内面または外面に塗布して樹脂皮膜を形成し、有機溶剤の一部を蒸発させて得られたフィルムを第１金型から離型し、前記フィルムに第２金型１を挿して硬化する工程を含むシームレスベルトの製造方法において、第２金型１の内表面に凹凸を有すること特徴とする。 - 特許庁

A method for etching an SiC substrate 10 has a masking step to form a masking layer 14 where a part of the surface of the SiC substrate 10 is exposed and another part is coated, a modifying step where the composition of an etching area 16 including the exposed surface of the substrate is modified from silicon carbide SiC to graphite C and a removing step to remove the modified etching area 16.例文帳に追加

本発明によるＳｉＣ基板１０のエッチング方法は、ＳｉＣ基板１０に、該基板の表面の一部を露出させ一部を被覆するマスク層１４を形成するマスク工程と、露出した基板表面を含むエッチング領域１６の組成を、炭化珪素ＳｉＣからグラファイトＣに変化させる変質工程と、変質したエッチング領域１６を除去する除去工程とを有する。 - 特許庁

To provide a coating film stripping method by which only a coating film is stripped off properly to simplify a re-coating process without causing problems such as environmental pollution and having the influence on the condition of the surface of a metal itself in the stripping treatment for a product containing a metallic part having a coating film on the chemical-conversion- treated surface, particularly a product further containing a rubber part.例文帳に追加

化成処理された表面上に塗膜を有する金属部分を含む製品、特にはゴム部分をも含む製品の剥離処理に際し、環境汚染等の問題を生ずることなく、かつ、金属表面自体の状態に影響を及ぼさずに、塗膜のみを適切に剥離することができ、再塗装の工程を簡略化することができる塗膜剥離方法を提供する。 - 特許庁

In a method of manufacturing the layered capacitor, recessed sections produced by an electrical insulating section are flattened by etching a dielectric layer by performing a step of forming a dielectric, a step of treating the surface of the dielectric, a step of forming a pattern on a metallic electrode, a step of forming the metallic electrode, and a step of treating the surface of the metallic electrode in the same vacuum tank.例文帳に追加

同一真空槽内で、誘電体を形成する工程と、誘電体の表面を処理する工程と、金属電極にパターンを形成する工程と、金属電極を形成する工程と、金属電極表面を処理する工程を有し、誘電体層を蝕刻して電気絶縁部により生ずる凹部を平坦化することを特徴とする積層コンデンサの製造方法。 - 特許庁

To provide a method and device for mounting an electronic component, reducing the number of drive shafts provided to a mounting head, and downsizing the electronic component mount device to speed up the mounting by providing an electronic component mounting surface of a supplying stage at an angle of gradient, and slanting an electronic component absorption surface of a picker for absorbing the electronic component to a slant angle.例文帳に追加

供給ステージの電子部品載置面を傾斜可能に設けるとともに、電子部品を吸着するピッカの電子部品吸着面を傾斜角度に傾斜して設けて、搭載ヘッドに設ける駆動軸を少なくし、電子部品装着装置のコンパクト化、装着の高速化を可能とする電子部品装着方法及び電子部品装着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a surface protective film capable of being suppressed in blocking even if pressure-sensitive adhesive strength is planned high while holding good productivity and film forming properties due to a coextrusion multilayer lamination method, capable of keeping a pressure-sensitive adhesive surface clean until use, having sufficient pressure-sensitive adhesive strength with respect to an adherend and capable of smoothly peeling a peeling layer at the time of use.例文帳に追加

共押出多層積層法による良好な生産性、成膜性を保持しつつ、粘着力を高く設計してもブロッキングを抑制でき、使用されるまで表面保護フィルムの粘着面を清浄に保つことが可能であり、さらには、被着体に対し十分な粘着力を有し、かつ使用の際に剥離層をスムーズに剥離できる剥離性を有する表面保護フィルムを提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the insulating circuit board having the metal circuit board 7 brazed to the surface of the ceramic substrate 6, pressure at the peripheral edge of the metal circuit board 7 is made higher than that at a center portion inside the peripheral edge when the metal circuit board 7 is stacked on the surface of the ceramic substrate 6 with a brazing material 15 interposed and they are pressed in the stacking direction.例文帳に追加

セラミックス基板６の表面に金属回路板７がろう付け接合されてなる絶縁回路基板の製造方法において、セラミックス基板６の表面にろう材１５を介して金属回路板７を積層し、これらを積層方向に加圧する際に、金属回路板７の周縁部の圧力を該周縁部より内側の中央部に比べて大きくする。 - 特許庁

The method of manufacturing the mask blank comprises the steps of causing a resist agent coming from a liquid tank 20 storing a liquid resist agent 21 to the opening at the end of a nozzle 22 through the nozzle 22 to touch the coated surface of a substrate having a thin film on which a transfer pattern is formed, moving the substrate and the nozzle relatively, and thus forming a resist film on the coated surface.例文帳に追加

転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤２１を収容した液槽２０からノズル２２を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing the dressing board includes an abrasive grain formation process where the abrasive grains are electrodeposited onto the surface of an abrasive layer formation board to form the abrasive grain layer, a dresser chip formation process where the dresser chip is formed by cutting the abrasive grain layer in a suitable shape and a dresser chip mounting process where the dresser chip is bonded onto the surface of the substrate by the bonding means.例文帳に追加

このドレッシングボードの製造方法は、砥粒層形成板の表面に砥粒を電着して砥粒層を形成する砥粒層形成工程と、該砥粒層を適宜の形状に切断してドレッサーチップを形成するドレッサーチップ形成工程と、該ドレッサーチップを基板の表面に固着手段によって固着するドレッサーチップ装着工程と、を含んでいる。 - 特許庁

In the method for measuring the carrier concentration, where the carrier concentration of the silicon epitaxial layer grown on a silicon wafer is measured by means of the surface photovoltage technique, a depletion layer of maximum width is formed by applying an electric field on the surface of the silicon epitaxial wafer and the carrier concentration is obtained by measuring the maximum depletion layer width.例文帳に追加

シリコンウエーハ上に成長させたシリコンエピタキシャル層のキャリア濃度を表面光電圧法によって測定するキャリア濃度測定方法であって、シリコンエピタキシャルウエーハの表面に電界を印加して最大空乏層幅の空乏層を形成し、該最大空乏層幅を測定することによってキャリア濃度を求めることを特徴とするキャリア濃度測定方法。 - 特許庁

In a semiconductor/MEMS package which is formed by mounting a semiconductor/MEMS element to that its functional surface faces a substrate and joining the substrate and the semiconductor/MEMS element electrically, a photosensitive insulating resin is arranged on the semiconductor/MEMS element for forming a space between the semiconductor element functional surface and the substrate and the space is formed by a photolithography method.例文帳に追加

半導体・MEMS素子の機能面をサブストレートに正対するように搭載し、サブストレートと半導体・MEMS素子を電気的に接合させてなる半導体・MEMSパッケージにおいて、半導体素子機能面とサブストレートの間に空間を設けるために、半導体・MEMS素子上に感光性絶縁樹脂を配置し、該空間部をフォトリソグラフィーの手法により形成する半導体パッケージの製造方法。 - 特許庁

In this near-field light detection method and the device thereof, by vibrating an electroconductive probe applied with a voltage wherein a DC and an AC are superimposed, and detecting and conrolling an electrostatic force between electric potential of the probe and electric potential of a dielectric surface, the near-field light generated when irradiating the dielectric surface with an electromagnetic wave is detected.例文帳に追加

本発明による近接場光検出方法およびその装置は、直流と交流の重畳する電圧が印加された導電性探針を振動させ、該探針電位と誘電体表面電位の間の静電気力を検知・制御することにより、誘電体表面に電磁波を照射したときに発生する近接場光を検出することを特徴とする。 - 特許庁

The method of forming the dielectric film includes a step for dipping a base material having arithmetic average surface roughness Ra ≥1/2 and ≤2 times of average particle diameter of dielectric particles and a counter electrode into a solvent containing the dielectric particles and a step for depositing the dielectric particles on the surface of the base material by applying voltage between the base material and the counter electrode.例文帳に追加

誘電体粒子を含む溶媒中に、誘電体粒子の平均粒子径の１／２倍以上２倍以下の算術平均粗さＲａの表面を有する基材と、対電極と、を浸漬する工程と、基材と対電極との間に電圧を印加して基材の表面に誘電体粒子を堆積する工程と、を含む、誘電体膜の形成方法である。 - 特許庁

The washing-free grain production method comprises a step (a) of softening the surface by adding water to polished grain, a step (b) of adsorbing bran remaining on the grain surface in a granular material and removing the bran by mixing and stirring the polished grain with the granular material heated at 60°C or higher, a step (c) of separating the polished grain and the granular material.例文帳に追加

（ａ）精白穀類に水分を添加してその表面を軟化させる工程と、（ｂ）該精白穀類と60℃以上に加熱した粒状物とを混合・攪拌し、精白穀類の穀粒表面に残存する糠を粒状物に吸着させて除去する工程と、（ｃ）該精白穀類と粒状物とを分離する工程と、を備えたことを特徴とする無洗穀類の製造方法。 - 特許庁

This method for recycling polycarbonate resins comprises the following procedure: for a laminate 3 with the surface of a polycarbonate resin base material layer covered with a protective layer 2 of acrylic or melamine resin, at least the protective layer is exposed to an aqueous peeling solution 4 comprising a dibasic acid diester compound and water to swell the acrylic or melamine resin constituting the protective layer followed by peeling the protective layer off the surface of the base material layer.例文帳に追加

ポリカーボネート樹脂からなる基材層の表面が、アクリル樹脂またはメラミン樹脂からなる保護層に被覆されている積層体の、少なくとも保護層を、二塩基酸ジエステル類化合物、および、水を含む水性剥離液に曝し、保護層を形成するアクリル樹脂またはメラミン樹脂を膨潤させたのち、保護層を基材層の表面から剥離させる工程を備える構成とした。 - 特許庁

A method for manufacturing the reflection type LCD is characterized in that a stage for forming one color layer 11 over nearly entire surface of a display region on a substrate 6, a stage for forming a reflection layer 12 over nearly entire surface of the one color layer 11 and a stage for exposing a pattern of the one color layer 11 through the reflection layer 12 left by partially removing the reflection layer 12.例文帳に追加

基体６上の表示領域のほぼ全面に一つの色層１１を形成する工程と、その一つの色層１１上のほぼ全面に反射層１２を形成する工程と、その反射層１２を部分的に除去することにより残った反射層１２を通して前記一つの色層１１のパターンを露呈する工程とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

In this nibbling method, the upward cutting tooth and the downward cutting tooth are provided on the side surface of the punch of the die in the punching die 1, and after a work is punched by the punch, this punch is continuously moved in the vertical direction in a punched hole, and the work is continuously fed to the cutting tooth on the side surface of the punch to achieve the nibbling.例文帳に追加

２．パンチング金型１において、該金型のパンチの側面に上向きの切削歯と下向きの切削歯とを設け、前記パンチによりワークを打ち抜き後、該パンチを前記打ち抜き後の抜き穴内において連続的に上下動させると同時に、前記ワークを前記パンチの側面の切削歯に対して連続的に送材してニブリング加工を行うことを特徴とする高速ニブリング方法。 - 特許庁

The method has a process for fitting a plurality of die members 3a-3f having the shape of a concentric circle and having a thickness corresponding to the pitch of a relief pattern, to manufacture the die 1 provided with a relief pattern surface 2, and a process for molding an optical material moldable by using a manufactured die 1, to mold the diffracted optical device having the relief pattern on the surface.例文帳に追加

レリーフパターンのピッチに対応する厚さを有する同心円状の型部材３ａ乃至３ｆを複数個嵌合させ、レリーフパターン面２を備えた成形型１を作製する工程と、作製した成形型１を用いて成形可能な光学材料を成形し、表面にレリーフパターンを有する回折光学素子を成形する工程とを有するものである。 - 特許庁

In this method, at least a first process to electrochemically roughen a plate surface by running AC current in an aqueous solution containing hydrochloric acid 221 and nitric acid and a second process to roughen the plate surface by running AC current in an aqueous solution containing the hydrochloric acid 221, are performed, in that order, to an aluminum plate 204, and thus the support for the lithographic printing plate is manufactured.例文帳に追加

アルミニウム板２０４に、少なくとも、塩酸２２１および硝酸を含有する水溶液中で交流電流を流す第１電気化学的粗面化処理と、塩酸２２１を含有する水溶液中で交流電流を流す第２電気化学的粗面化処理とをこの順に施して、平版印刷版用支持体を得る、平版印刷版用支持体の製造方法。 - 特許庁

There is provided a method for producing a coated refractory powder comprising the steps of (a) forming a coating layer comprising an organic material on each particle surface of a refractory powder, and (b) removing a part of the coating layer so as to locally form a plurality of portions in which a particle surface is exposed or portions which have relatively smaller thickness in the coating layer formed on each particle.例文帳に追加

（ａ）耐火性粉体の各粒子表面に有機物よりなる被覆層を形成する工程と、（ｂ）各粒子に形成された被覆層に、粒子表面を露出させた部分又は厚さが相対的に薄くなった部分が局所的に複数形成されるように該被覆層の一部を除去する工程とを有する被覆化耐火性粉体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for manufacturing an extrusion molded article, capable of uniformly cooling the extrusion molded article, even if a material showing high surface stickness at a high temperature and extremely high in the dynamic friction resistance with the wall surface of a cooling apparatus is used and extrusion molding is performed at a high speed, and capable of obtaining the molded article high in dimensional stability or accuracy and free from deformation.例文帳に追加

高温における表面粘着性が高く、且つ、冷却装置壁面との動摩擦抵抗が極めて高い材料であっても、また、高速で押出成形を行うときでも、成形品をむらなく冷却することができ、寸法安定性や寸法精度が高く、そり、変形のない成形品を得ることができる押出成形品の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

A GaN crystal thin film (especially GaN crystal thin film) 1 of thickness 100 μm or less which is formed as an independent thin film by a solution growth method, or the like, is jointed onto a substrate 2, to provide a crystal growth base material comprising one surface 1b of the thin film as a start surface for growing GaN crystal, on which the GaN crystal is grown.例文帳に追加

溶液成長方法等によって単独の薄膜として形成された厚さ１００μｍ以下のＧａＮ系結晶薄膜（特にＧａＮ結晶薄膜）１を、基板２上に接合し、該薄膜の一方の面１ｂをＧａＮ系結晶を成長させるための出発面として有する結晶成長用基材を得、その上にＧａＮ系結晶を成長させる。 - 特許庁

In this method for manufacturing the silver coated conductive powder by treating the surface of the core material consisting of an organic material or inorganic material with an electroless nickel-phosphorus plating liquid, then treating the surface with an electroless silver plating liquid containing a water-soluble silver salt and a complexing agent, an organic compound containing sulfurous acid or a sulfite or imide group or amide group is used as the complexing agent for the electroless silver plating liquid.例文帳に追加

有機材料または無機材料からなる芯材表面を無電解ニッケル−リンメッキ液で処理した後、水溶性銀塩および錯化剤を含有する無電解銀メッキ液で処理する銀被覆導電性粉末の製造方法において、無電解銀メッキ液の錯化剤として、亜硫酸もしくは亜硫酸塩、またはイミド基もしくはアミド基を有する有機化合物を用いる。 - 特許庁

The manufacturing method of the substrate is such that, after the metallic films 12, 13 are formed in vacuum on the surface of the belt-like plastic film 11 by a sputtering device, the plastic film 11 is wound around in a role shape in a manner that the metallic films 12, 13 are superimposed on the carbon film 14 formed on the entire surface of the reverse corresponding to the metallic film-formed part.例文帳に追加

帯状のプラスチックフィルム１１の表面にスパッタリング装置によって金属膜１２、１３を真空成膜した後に、プラスチックフィルム１１を、裏面における上記金属膜の成膜部対応部分の全面に形成したカーボン膜１４と上記表面の金属膜１２、１３とを重ねるようにロール状に巻き取るフレキシブル基材の製造方法とした。 - 特許庁

In this method for specifying a surface characteristic, the first characteristic value and second characteristic value for characterizing unevenness of the surface are calculated, numerical processing is applied at least to the first characteristic value to calculate the first drawn-out value, and numerical processing is applied at least to the second characteristic value to calculate the second drawn-out value.例文帳に追加

表面特性を特定するための方法であって、表面の凹凸を特徴づける第一の特性値と第二の特性値が算出され、少なくとも第一の特性値に数学的な処理を適用することによって第一の導出値が算出され、少なくとも第二の特性値に数学的な処理を適用することによって第二の導出値が算出される。 - 特許庁

The method of manufacturing the glass optical device includes obtaining the optical device by press molding a glass base material having a core part comprising optical glass (first glass) having ≥550°C Tg and a covering part covering the surface of the core part and comprising second glass into a lens shape, annealing the resultant press molded product and removing the covering layer existing on the surface of the press molded product.例文帳に追加

転移点が550℃以上である光学ガラス（第一のガラス）からなる芯部と、前記芯部の表面を被覆する第二のガラスからなる被覆部とを有するガラス素材をレンズ形状にプレス成形して得られたプレス成形品をアニールし、次いで、プレス成形品の表面にある被覆層を除去してガラス光学素子を得ることを含む、ガラス光学素子の製造方法。 - 特許庁

According to this method of forming a thick part on the surface of the steel plate incorporated in the gasket, at least one recessed marking 38 on the surface 40 where to form a thick part using a punch 42, and the punch 42 is driven to form a projecting part 44 for forming the thick part in the periphery of the recessed marking 38.例文帳に追加

本発明の方法は、ガスケットに組み込み可能な鋼板の面に肉厚部分を形成する方法であって、肉厚部分を形成することが望まれる面（40）に、パンチ（42）を利用して少なくとも１つの凹状の刻印（38）を形成し、パンチ（42）を打ち込むことによって、肉厚部分を形成可能な凸状部（44）を凹状の刻印（38）の周囲に形成することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the mask blank comprises the steps of causing a resist agent coming from a liquid tank storing a liquid resist agent to the opening at the end of a nozzle 22 through the nozzle 22 to touch the coated surface of a substrate having a thin film on which a transfer pattern is formed, moving the substrate and the nozzle relatively, and thus forming a resist film on the coated surface.例文帳に追加

転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤を収容した液槽からノズル２２を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

Regarding the method where a glass substrate is dipped into a chemical processing liquid, and the whole or a part of the surface in the glass substrate is processed, the chemical processing liquid comprises an anionic surfactant or an aminic amphoteric surfactant preventing the resticking of reaction products such as fluorides to the surface of the glass substrate, and grinding is performed at a processing speed of ≤10 μm/min.例文帳に追加

ガラス基板を化学加工液に浸漬してガラス基板表面の全部または一部を加工する方法であって、化学加工液がフッ化物等の反応生成物がガラス基板表面に再付着することを防止する陰イオン系界面活性剤またはアミン系両性界面活性剤を含有し、１０μｍ／分以下の加工速度で研磨加工する方法である。 - 特許庁

In the method for manufacturing the optical element including forming of the optical element of a desired shape by pressing a forming workpiece softened by heating by means of forming dies, and depositing the antireflection film on the surface of the obtained optical element, the optical element of ≥60 mJ/m^2 in surface free energy is subjected to the deposition of the antireflection film by UV ozone cleaning or plasma cleaning.例文帳に追加

加熱軟化した成形素材を成形型により加圧成形して、所望の形状の光学素子を成形し、得られた光学素子の表面に反射防止膜を成膜することを含む光学素子の製造方法であって、反射防止膜の成膜を、ＵＶオゾン洗浄又はプラズマ洗浄することにより表面自由エネルギーが60mJ/m^2以上である光学素子に対して行う。 - 特許庁

The method of producing water repellency inorganic fine particles comprises a first process for surface coating these fine particles while adding an aqueous emulsion of silicone compound such as a silicone oil with fine particles, and adding/mixing in a dry form, and a second process for exposing this silicone oil to the surface of fine particles, after treated inorganic fine particles are heated, and separating an aqueous medium of emulsion.例文帳に追加

無機粉体等にシリコーンオイル等のシリコン系化合物の水系エマルションを添加し、乾燥状態で混合・撹拌しながらこの粉体等を表面処理する第１工程と、処理された無機粉体等を加熱してこのシリコン系化合物を粉体表面に焼き付け、かつ、エマルションの水系媒体を分離する第２工程とを実施することにより撥水性無機粉体等を製造する。 - 特許庁

This invention relates to the irregular pattern forming method including an irregular pattern forming process of forming the irregular patterns in the substrate surface by heating and/or light irradiation when the irregular type stamper constituted by an elastic material is pressed to the thin film which is formed in the substrate surface and contains a hardening material as a principal component; and meeting the following formula (1).例文帳に追加

基板表面に形成され、硬化性材料を主成分として含む薄膜に、弾性材料から構成される凹凸型が設けられたスタンパを押し当てた状態で、加熱及び／又は光照射を付与することにより、前記基板表面に凹凸パターンを形成する凹凸パターン形成工程を含み、且つ、下式（１）を満たす凹凸パターン形成方法。 - 特許庁

The control method of an electrode 3 in a semi-conductor manufacturing apparatus having the electrode 3 with a degraded layer being formed on its surface by plasma comprises a step of measuring the thickness of the degraded layer on the surface of the electrode 3, and a step of determining the timing of changing the electrode when the measured thickness of the degraded layer reaches the reference value.例文帳に追加

プラズマによって表面に変質層が形成される電極３を有する半導体製造装置における電極３の管理方法において、前記電極３表面の変質層の厚みを測定する工程と、前記測定した変質層の厚みが基準値に達したら、電極の交換時期と判断する工程とを有することを特徴とする電極の管理方法。 - 特許庁

To provide a film forming method and a film forming device which form a uniform film in a region to which photo lithography process is applied for the purpose of forming a propagation path or an electrode pattern, etc. of resist films, a sensitive film, etc. on a surface of spherical material to be coated in manufacturing process of a spherical surface acoustic wave element.例文帳に追加

球状弾性表面波素子の製造過程において、被塗布物である球状基材の表面にレジスト、感応膜等の被膜を伝搬路又は電極パターンを形成すること等を目的としたフォトリソグラフィープロセスの適用される領域に均一な被膜を形成するための被膜形成方法及び被膜形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a catalytic chemical processing method and apparatus using magnetic fine particles capable of processing a difficult-to-process workpiece, especially SiC, GaN, etc. with high processing efficiency and with high precision based on a processing principle utilizing a catalytic action enabling the chemical reaction introducing no lattice defect into the surface of the workpiece, and capable of obtaining a crystallographically excellent processed surface.例文帳に追加

本発明は、被加工物表面に格子欠陥が導入されない化学的な反応が可能な触媒作用を利用した加工原理に基づき、難加工物、特にＳｉＣやＧａＮ等を、加工効率が高く且つ高精度に加工することができ、結晶学的に優れた加工面が得られる磁性微粒子を用いた触媒化学加工方法及び装置を提案する。 - 特許庁

The manufacturing method of the electrophotographic toner comprises: a process of supplying raw material toner prepared by externally adding inorganic material to colored fine particles containing a binder resin and a colorant to a photoreceptor drum which is charged and exposed with a regulated layer thickness and attaching the raw material toner to the surface of the photoreceptor drum; and a process of collecting the toner attached to the surface of the photoreceptor drum as a developing toner.例文帳に追加

結着樹脂及び着色剤を含有する着色微粒子に無機物を外添してなる原料トナーを、帯電され、露光された感光体ドラムに、規制された層厚で供給し、感光体ドラム表面に付着させる工程、及び前記感光体ドラム表面に付着したトナーを現像トナーとして回収する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The amorphous inorganic fiber formed body is constituted so that only the surface layer of the formed body obtained by forming an amorphous inorganic fiber into board-like or felt-like shape is crystallized and a crystallization accelerating agent such as blast furnace slag fine powder, FeO, MgO, FeCO_3 or MgCO_3 is stuck to the surface, and the method comprises sticking the crystallization accelerating agent when using.例文帳に追加

非晶質無機繊維をボード状もしくはフェルト状に成形してなる成形体の表面層だけが結晶化したものからなる非晶質無機繊維成形体であって、表面に、高炉スラグ微粉末、ＦｅＯ、ＭｇＯ、ＦｅＣＯ_３あるいはＭｇＣＯ_３等の結晶化促進材を付着させたもの、およびその結晶化促進材を使用時に付着させる方法。 - 特許庁

The method uses an ultrafiltration (UF) membrane having a nominal molecular weight cutoff (NMWCO) of from about 0.5 KD to about 10 KD wherein a surface of a membrane 4 have a positive charge or a negative charge, and purifies and concentrates synthetic biological molecules by using the charged surface either to repel synthetic biomolecules retaining them in a retentate or to attract the synthetic biomolecules preferentially for filtration through the membrane.例文帳に追加

約０．５ＫＤ〜約１０ＫＤの公称分子量カットオフ（ＮＭＷＣＯ）をもち、膜４表面が正電荷又は負電荷をもつ限外濾過（ＵＦ）膜を使用し、その荷電表面を使用して合成生体分子を跳ね返して残液に保持するか又は合成生体分子を膜濾過に優先的に吸引することにより合成生体分子を精製濃縮する。 - 特許庁

To provide air-permeable wallpaper having excellent air permeability and design aesthetic properties, facilitating application during pasting to a wall surface, etc., or peeling, etc., especially having excellent mildewproof properties on an pasted wall surface, etc., and producible at low cost by using an air-permeable laminated sheet formed by laminating a nonwoven fabric to a porous film and to provide a method for producing the wallpaper.例文帳に追加

不織布と多孔質フィルムとを積層して形成した通気性積層シートを使用することにより、通気性に優れると共に、意匠的審美性に優れ、壁面等への貼付や剥離等に際しての施工を容易化し、特に貼付壁面等における防カビ性に優れた通気性壁紙を、低コストに製造することができる通気性壁紙およびその製造方法を提供する。 - 特許庁