「surface method」に関連した英語例文の一覧と使い方(854ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method for generating the negative ion by irradiating the photoelectron releasing material 3 disposed at the whole surface of a gas passage with UV rays 2, the irradiation of the UV rays is performed so that the whole surface of the photoelectron releasing material may have a fixed concentration of higher and the irradiation of the UV rays is performed by using plural UV lamps and germicidal lamps may be used for the UV lamps.例文帳に追加

気体通路の全面に配設した光電子放出材３に紫外線２を照射することによる負イオンの発生方法において、前記紫外線の照射を光電子放出材の全面が一定濃度以上となるように行うものであり、紫外線の照射は、複数の紫外線ランプ２を用い、該紫外線ランプとしては殺菌灯を用いるのがよい。 - 特許庁

The surface treatment method for the aluminum material consisting of aluminum or an aluminum allow includes a first stage where anodic oxidation is performed in an aqueous solution containing a polybasic acid and/or a salt thereof to form an anodic oxide film on the surface of the aluminum material, and a second stage anode electrolysis is performed in an aqueous solution containing monobasic acid and/or a salt thereof.例文帳に追加

アルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム材の表面処理方法であり、多塩基酸及び／又はその塩を含む水溶液中で陽極酸化してアルミニウム材の表面に陽極酸化皮膜を形成せしめる第一工程と、一塩基酸及び／又はその塩を含む水溶液中でアノード電解を行う第二工程とを含む、アルミニウム材の表面処理方法である。 - 特許庁

In the ignition control unit, the method of supplying the thermosetting resin to the rear space and the surface space 48 includes a first process for injecting the thermosetting resin to the rear space 47 and subsequently, and a second process for allowing the thermosetting resin in the rear space to flow into the surface space 48 through a clearance 46 between the printed circuit board and the sidewalls of the resin case.例文帳に追加

この点火制御ユニットにおいて、裏面側空間及び表面側空間へ熱硬化樹脂を供給する方法が、裏面側空間４７に熱硬化樹脂を注入する第１工程と；その後、プリント基板と樹脂ケースの側壁との間のすきま４６を通して裏面側空間内の熱硬化樹脂を表面側空間４８に流入させる第２工程と、とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing silica particles comprises: hydrolyzing/condensing alkoxy silane to obtain a dispersion liquid containing a silica particle precursor; subjecting the dispersion liquid to flash drying or spray drying to obtain dried silica particles; burning the dried silica particles to obtain dried silica particles; surface treating the burned silica particles with a silane coupling agent; and pulverizing and classifying the obtained surface-treated silica particles.例文帳に追加

アルコキシシランを加水分解・縮合させて、シリカ粒子前駆体を含有する分散液を得て、前記分散液を気流乾燥または噴霧乾燥して、乾燥シリカ粒子を得て、前記乾燥シリカ粒子を焼成して、焼成シリカ粒子を得て、前記焼成シリカ粒子をシランカップリング剤で表面処理して、得られた表面処理シリカ粒子を解砕および分級するシリカ粒子の製造方法。 - 特許庁

The resist pattern forming method comprises the steps of forming a resist film on a substrate, exposing the resist film so as to form a pattern, developing the resist film, applying radiation to the whole surface or part of the surface of the resist pattern after developed, and baking the resist pattern after the radiation irradiation to vary a size of the pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上にレジスト膜を形成する工程と、パターンを形成するように該レジスト膜を露光する工程と、レジスト膜を現像する工程と、該現像後のレジストパターンの全面または一部面に放射線を照射する工程と、該放射線照射後のレジストパターンにベークを施して該パターンの寸法を変化させる工程とを包含する、レジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This method of forming the electrode includes a step of scattering atoms constituting a lower electrode 204 in almost the same direction A from a sputtering target containing the atoms, a step of disposing a wafer so that its forming surface 180, on which the lower electrode 204 is formed, may become oblique to the direction A, and a step of causing the scattered atoms to deposit on the forming surface 180.例文帳に追加

下部電極２０４を構成する原子を含むスパッタターゲットから、該原子をそれぞれ略同じ方向Ａに飛散させる飛散ステップと、下部電極２０４を形成する形成面１８０が、該方向に対して斜めになるようにウェハを配置する配置ステップと、飛散した原子を形成面１８０に堆積させる堆積ステップとを備えた電極形成方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the processes of (a) forming a resist film 17 selectively on a surface of the nitride film 16; and (b) etching the resist film 17 while etching the nitride film 16 using the resist film 17 as a mask to leave the nitride film 16 covered with the resist film 17 which is made thin and has its end surface retracted.例文帳に追加

本発明の一実施形態に係る半導体装置の製造方法は、（ａ）窒化膜１６の表面に選択的にレジスト膜１７を成膜する工程、（ｂ）レジスト膜１７をマスクとして窒化膜１６をエッチングすると同時にレジスト膜１７をもエッチングし、薄膜化され端面が退避されたレジスト膜１７に覆われた窒化膜１６を残す工程を備えて構成される。 - 特許庁

The method of producing a plated polyester resin molding includes a stage where a resin composition containing a thermoplastic polyester resin consisting of a polycondensation product of dicarboxylic acid components containing the metallic salt of sulfoisophthalic acid and aromatic dicarboxylic components, and saturated aliphatic diol components is melted and molded, and the surface of the obtained molding is treated with an acid aqueous solution, and electroless plating is applied to the surface.例文帳に追加

スルホイソフタル酸金属塩と芳香族ジカルボン酸成分とを含有するジカルボン酸成分と飽和脂肪族ジオール成分との重縮合物からなる熱可塑性ポリエステル樹脂を含有する樹脂組成物を溶融成形し、得られた成形品の表面を酸水溶液で処理した後、該表面に無電解めっきを施す工程を含むめっきポリエステル樹脂成形品の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the processes of: forming a wettability improving film on a surface of a semiconductor substrate; coating a surface of the wettability improving film with a dopant diffusing agent containing dopants of a first conductivity type and a second conductivity type; and forming a dopant diffusion layer by diffusing the dopants in the semiconductor substrate from the dopant diffusing agent.例文帳に追加

半導体基板の表面上にぬれ性改善膜を形成する工程と、ぬれ性改善膜の表面上に第１導電型または第２導電型のドーパントを含有するドーパント拡散剤を塗布する工程と、ドーパント拡散剤から半導体基板にドーパントを拡散させることによってドーパント拡散層を形成する工程とを含む半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method which can suppress formation of a water mark in a surface of a substrate to be processed and corrosion of a copper interconnection exposed in a surface of the substrate to be processed when the substrate to be processed such as a semiconductor wafer is subjected to cleaning treatment by cleaning liquid containing hydrofluoro ether.例文帳に追加

半導体ウエハ等の被処理基板に対してハイドロフルオロエーテルを含む洗浄液により洗浄処理を行う際に、当該被処理基板の表面にウォーターマークが形成されたり、あるいは被処理基板の表面で露出している銅配線が腐蝕してしまったりすることを抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the organic EL device is characterized by that the organic layer is formed after washing an interior of the organic EL device manufacturing apparatus by ozone gas when newly assembling or disassembling and overhauling the organic EL device manufacturing apparatus provided with an organic film forming chamber for forming the organic layer on the surface of the electrode of the substrate formed with the electrode on the surface.例文帳に追加

本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、正孔注入電極を表面に形成した基板の当該電極の表面に有機層を形成するための有機成膜室を備えた有機ＥＬ素子製造装置を新規組立した際または装置分解オーバーホールした際、装置の内部をオゾンガスで洗浄してから有機層を形成することを特徴とする。 - 特許庁

This method for producing a carbon film comprises depositing or applying boron and/or a rare earth element or their compound on or to at least one side of an aromatic polyamide film, piling the film on or to at least the deposited or applied surface, laminating the plural films and baking the films in an inert atmosphere while pressurizing the film surface in the vertical direction under heat.例文帳に追加

芳香族ポリアミドフィルムの少なくとも片面に、ホウ素および／または希土類元素あるいはそれらの化合物を蒸着あるいは塗布し、少なくとも蒸着あるいは塗布面に該フィルムを重ね合わせ複数枚を積層させた後、不活性雰囲気中でフィルム膜面に垂直方向に加圧加熱しながら焼成することを特徴とする炭素フィルムの製造方法。 - 特許庁

In the electrode having the active material layer 13 formed by a vapor deposition method and comprising spaces and zigzag columnar particles 15, carried on a projecting part of a current collector 14 having a recessed and projecting pattern on the surface, the thickness of a layer forming the zigzag is made wider in the lower part than the upper part of the columnar particles 15 to secure spaces in the electrode surface part.例文帳に追加

蒸着法により製造され、表面に凹凸のパターンを有する集電体１４の凸部上に担持された空間とジグザグ形状の柱状粒子１５から成る活物質層１３を有する電極において、ジグザグ形状を形成する層の厚みが柱状粒子１５の上部より下部で広い形状とすることで、電極表面部分での空間を確保する。 - 特許庁

To provide a transparent electrode endowed with high conductivity and transparency as well as superb smoothness even after environmental test under high-temperature and high-humidity environments, and excellent in stability (all light transmittance, surface resistance, and surface roughness (Ra, Ry)), a method for manufacturing the transparent electrode, and an organic electroluminescent element excellent in emission uniformity using the transparent electrode.例文帳に追加

本発明の目的は、高温、高湿度環境下における環境試験後でも高い導電性と透明性を有しかつ良好な平滑性を併せ持ち、安定性（全光線透過率、表面抵抗、表面粗さ（Ｒａ、Ｒｙ））の優れた透明電極、該透明電極の製造方法、及び該透明電極を用いた発光均一性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiator which equally irradiates only the entire surface of granular objects such as grain and plant seeds with a low-energy electron beam, completely sterilizes the entire surface of the granular objects, enables high-speed sterilizing treatment, has high reliability and does not require a large setting space and a method for sterilizing the granular objects by using the irradiator.例文帳に追加

解決しようとする課題は、低エネルギー電子線を穀物や植物種子等の粒状被照射体の全表面のみに均一に照射して、粒状の被照射体の全表面を完全に殺菌でき、且つ、殺菌処理速度が大きくて、信頼性が高く、広い設置場所を要しない電子線照射装置、及びそれを用いた粒状物体の殺菌方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a multi-frequency vortex type thickness measuring method for molten mold powder by which the molten thickness of the mold powder in the mold in a continuous casting is measured highly precisely regardless of kind of the mold powder and molten steel surface temperature by correcting the differences of the kind of the mold powder and the molten steel surface temperature.例文帳に追加

連続鋳造において鋳型内に添加されたモールドパウダーの溶融厚みを多周波渦流式モールドパウダー溶融厚み計測方法で計測するに当たり、モールドパウダーの種類の違いと溶鋼面温度の違いを補正して、モールドパウダー種類、溶鋼面温度によらず高精度に計測を行う多周波渦流式モールドパウダー溶融厚み計測方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an image forming method capable of preventing the occurrence of dielectric breakdown in a surface of a photoreceptor in a magnetic monocomponent developing system using a thin layer amorphous silicon photoreceptor as a latent image carrier and using a cleaning blade as a means of cleaning a surface of the photoreceptor, and to provide a magnetic monocomponent toner for developing an electrostatic latent image.例文帳に追加

潜像保持体として薄層のアモルファスシリコン感光体を用い、この感光体表面をクリーニングする手段としてグリーニングブレードを用いる磁性１成分現像方式による現像システムにおいて、感光体表面で絶縁破壊が生じるのを防止することができる画像形成方法および静電潜像現像用磁性１成分トナーを提供することである。 - 特許庁

An ink recording material is provided with at least one ink acceptive layer containing a vapor phase method silica on a polyolefin resin coated paper on a resin coated paper substrate, and the surface of the side whereon the ink acceptive layer of the substrate is rough surface processed so that the 75° mirror face glossiness based on the JIS-P8142 is 30-70%.例文帳に追加

ポリオレフィン樹脂被覆紙支持体上に気相法シリカを含有する少なくとも１層のインク受容層を有するインクジェット記録材料において、前記支持体のインク受容層が設けられる側の表面がＪＩＳ−Ｐ８１４２による７５度鏡面光沢度が３０％以上で７０％未満になるように微粗面加工されたことを特徴とするインクジェット記録材料。 - 特許庁

The method includes the wetting improving liquid application step 40 of applying a wetting improving liquid for improving the wetting of a slurry containing abrasive grains on the surface of a substrate to be subjected to texture processing before the texture processing is executed, and the texture processing step 50 of executing the texture processing by rotating the substrate wet by the wetting improving liquid to supply a slurry to the surface.例文帳に追加

テクスチャー加工を施すべき基板の表面に砥粒を含むスラリーの濡れ性を改善するための濡れ性改善液をテクスチャー加工を施す前に塗布する濡れ性改善液塗布工程４０と、濡れ性改善液で濡れた状態の基板を回転してその表面にスラリーを供給しながらテクスチャー加工を施すテクスチャー加工工程５０とを備える。 - 特許庁

The method for producing the fine structure comprises obtaining the fine structure having micropores on its surface by subjecting an aluminum member comprising an aluminum substrate and an anodic oxidation film existing on the surface of the aluminum substrate and having micropores to at least a film stripping treatment comprising stripping the film by using an acidic aqueous solution containing a barium compound and an anodic oxidation treatment in this order.例文帳に追加

アルミニウム基板と、前記アルミニウム基板の表面に存在する、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜とを有するアルミニウム部材に、少なくとも、バリウム化合物を含有する酸性水溶液を用いて脱膜させる、脱膜処理と、陽極酸化処理とをこの順に施して、表面にマイクロポアを有する微細構造体を得る、微細構造体の製造方法。 - 特許庁

In the method of reforming the metallic material by using heating by a DC plasma vibrated in an AC magnetic field to melt the outer layer part on the surface of the metallic material, adding a solute element to the molten outer layer part and resolidifying the same, particles containing a prescribed amount of the solute element are supplied to the surface of the metallic material prior to melting.例文帳に追加

交流磁場で振動させられた直流プラズマによる加熱を用いて金属材料表面の表層部を溶融し、該溶融した表層部に溶質元素を添加し再凝固させることにより金属材料の表層を改質する方法において、溶融前の該金属材料表面に、所定量の溶質元素を含有する粒子を供給すること。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device 1 comprises a step of mounting of a second semiconductor substrate 30 having a second through electrode 40 on the first semiconductor substrate 10 having a first through electrode 20, and connecting the first surface 22 of the first through electrode 20 and the second surface 42 of the second through electrode 40 face each other through a conductive member 50 electrically.例文帳に追加

半導体装置１の製造方法は、第１の貫通電極２０を有する第１の半導体基板１０に、第２の貫通電極４０を有する第２の半導体基板３０を搭載して、第１の貫通電極２０の第１の面２２と第２の貫通電極４０の第２の面４２とを導電部材５０を介して対向させて電気的に接続することを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the nitride-based semiconductor laser includes a stage of preparing a substrate having an MQW active layer 4 formed of a nitride semiconductor containing In, a stage of selectively irradiating a light projection end surface of an MQW active layer 4 or a part nearby where the light projection end surface is expected to be formed, and a stage of performing a heat treatment thereafter.例文帳に追加

本発明に係る窒化物系半導体レーザの製造方法は、Ｉｎを含む窒化物半導体で形成されたＭＱＷ活性層４を備える基板を準備する工程、ＭＱＷ活性層４の光出射端面または光出射端面予定部の近傍に選択的にレーザを照射する工程、その後に加熱処理する工程を備えて構成される。 - 特許庁

This method for measuring the shrinkage of the coke cake in a coke oven is characterized by taking the penetrated radiation pictures of a coke oven and calculating an average space distance in the horizontal direction from the areas of spaces formed between a heating surface for imparting heat to coal charged in the coke oven and the surface of the coke cake, thereby determining the shrinkage of the coke cake.例文帳に追加

コークス炉におけるコークスケーキの収縮量を測定するに当り、コークス炉の透過放射線像を撮影し、該透過放射線像における、コークス炉に装入した石炭に熱を付与する加熱面とコークスケーキ表面との間に生じた空隙の面積から、該空隙の水平方向の平均距離を算出することによって、コークスケーキの収縮量を求める。 - 特許庁

The silica-titania composite oxide particle produced by a vapor deposition method has a titania content of 50 wt.% or more, a BET specific surface area of 100 m^2/g or less, a containing rate of a silica single particle and a titania single particle by electron microscope observation of 10% or less, favorably 5% or less, and a hydrophobic surface.例文帳に追加

気相法によって製造されたシリカ・チタニア複合酸化物粒子であって、チタニアの含有量が５０重量％以上、ＢＥＴ比表面積が１００ｍ^2／ｇ以下、電子顕微鏡観察下においてシリカ単独粒子およびチタニア単独粒子の割合が１０％以下、好ましくは５％以下であり、表面が疎水化されているシリカ・チタニア複合酸化物粒子。 - 特許庁

In the method for producing the acylated cellulose film by a solvent cast film making process, the web is peeled off from a metal support, immediately after that, the surface of the web adherent to the support is contacted with the first roll, the surface of the web exposed to the air on the support is contacted with the second roll, and the web is dried.例文帳に追加

溶液流延製膜法によりセルロースアシレートフィルムを製造する方法において、ウェブを金属支持体から剥離し、その直後に、金属支持体側に密着していたウェブの面を最初のロールに接触させ、続いて金属支持体上で空気側にあったウェブの面を２番目のロールに接触させた後、乾燥することを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。 - 特許庁

This method for producing a particle-formed water-absorbing agent comprising a process of surface-crosslinking for performing the surface-crosslinking of water-absorbing resin particles obtained at least through a polymerization process for polymerizing an aqueous solution of an unsaturated monomer, in the presence of an organic crosslinking agent is provided by mixing a peroxide in its reaction system in processes after the polymerization process.例文帳に追加

本発明に係る粒子状吸水剤の製造方法は、不飽和単量体水溶液を重合する重合工程を少なくとも経て得られる吸水性樹脂粒子を有機架橋剤の存在下で表面架橋する表面架橋工程を含む粒子状吸水剤の製造方法であって、上記重合工程以降の工程で、反応系に過酸化物を混合するものである。 - 特許庁

In the method of measuring the conductivity type and the resistivity of the semiconductor silicon substrate, after removing an oxide film on a measured surface of the semiconductor silicon substrate to be measured, oxide-film-growth-inducing cleaning is performed and the conductivity type and the resistivity are measured in a state that the oxide film is formed on the measured surface by cleaning.例文帳に追加

半導体シリコン基板の導電型及び抵抗率を測定する方法において、測定対象となる半導体シリコン基板の被測定面の酸化膜を除去した後、酸化膜成長を伴う洗浄を行い、その後被測定面に洗浄による酸化膜が形成された状態で導電型及び抵抗率を測定する半導体シリコン基板の導電型及び抵抗率の測定方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the magnetic recording medium includes; a process which forms a mold layer on the base board; a pattern-forming process which forms patterns for forming spaces, whose lower part surface areas are different from the upper part surface areas corresponding to the lower part surfaces; and a process which fills the spaces with a magnetic body material to form the magnetic dots.例文帳に追加

基板上に鋳型層を形成する工程と、前記鋳型層をパターニングして、前記鋳型層に下部面の面積と前記下部面に対応する上部面の面積とが異なる空間を形成するパターンを形成する工程と、前記空間に磁性体物質を満たして磁性体ドットを形成する工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

The method for producing the hybrid lens includes: a step of pouring a urethane resin composition comprising a polyisocyanate compound and a polythiol compound into a mold obtained by combining a glass substrate with a molding tool for molding a lens surface made of resin on at least one surface of the glass substrate; and a step of forming a resin layer by heat-curing the urethane resin composition.例文帳に追加

ガラス基材と、そのガラス基材の少なくとも一方の面に樹脂によるレンズ面を成形するための成形型とを組み合わせた鋳型に、多価イソシアネート化合物と、多価チオール化合物とを含むウレタン系樹脂組成物を注入する工程と、ウレタン系樹脂組成物を熱硬化して樹脂層を形成する工程とを有するハイブリッドレンズの製造方法を提供する。 - 特許庁

This production method of biological implant includes a process 1 for making porous the surface of a precursor consisting of the object forming the solid section of the biological implant; and a process 2 for immersing the precursor of the biological implant with the porous surface in both of solution containing calcium ions of at least 2M and solution containing phosphate ions of at least 2M with either one of them earlier.例文帳に追加

生体インプラントの、実質部を形成する物質から成る前駆体の表面を多孔質化する工程１と、工程１で得られた、表面が多孔質化した生体インプラントの前駆体を、少なくとも２Ｍのカルシウムイオンを含む溶液及び少なくとも２Ｍのリン酸イオンを含む溶液の両方にいずれか先に浸漬する工程２とを含む生体インプラントの製造方法。 - 特許庁

The method of subjecting the acoustic resonator to batch processing includes a process step of depositing a first electrode on the surface of a substrate, a process step of depositing a layer of a dielectric material on the first electrode and depositing a second electrode on the layer of the piezoelectric material and a process step of reducing the thickness of the substrate (200) by removing the material from the base surface of the substrate (200).例文帳に追加

本発明による音響共振器をバッチ処理するための方法は、基板の表面上に第１の電極を堆積させる工程と、第１の電極上に圧電材料の層を堆積させ、圧電材料の層上に第２の電極を堆積させる工程と、基板（２００）の底面から材料を除去して基板（２００）の厚さを少なくする工程を含む。 - 特許庁

In this manufacturing method of an organic luminescent device, a process of forming the organic compound layer is characterized by arranging the deposition mask having a predetermined mask pattern on a pixel barrier rib and a contact film in a state of being faced to a deposition object surface of the substrate, and forming the organic compound layer on the deposition object surface on the substrate to transfer the mask pattern of the deposition mask.例文帳に追加

有機発光装置の製造方法において、有機化合物層を形成する工程は、所定のマスクパターンを持つ蒸着マスクを基板の被蒸着面に対面させた状態で、画素隔壁及び接触膜の上に配置し、前記蒸着マスクのマスクパターンを転写するように、基板の上の被蒸着面に有機化合物層を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a surface decorative method in a remaining form and a decorative block used therefor, capable of easily decorating the remaining form, and capable of having a degree of freedom of various decorative patterns, by easily installing the other decorative block of applying various decorations, while using the concrete remaining form bored with a large number of through-holes for the surface of a structure.例文帳に追加

コンクリート製で多数の貫通穴を穿設した残存型枠が、構造物の表面に使用でき、且つ、種々の化粧を施した他の化粧ブロックが容易に取付けられ、残存型枠の化粧化が簡単にできると共に種々の化粧パターンの自由度も可能となる残存型枠における表面化粧方法及びそれに使用する化粧ブロックを提供することを目的とする。 - 特許庁

With the device 1 and the method for treating the inner surface of the plastic bottle, a thin rod member made of a conductor provided inside a supply pipe body made of a dielectric forming a gas supply space 2 forms a surface wave plasma with microwaves irradiated in 360° directions from a ring-shaped resonator 6 via a slit 61, using the inside of the plastic bottle B as an excellent resonance system.例文帳に追加

本発明に係るプラスチックボトル内面の処理装置１及び処理方法は、ガス供給間２を構成する、誘電体からなる供給管本体の内部に設けられた導電体の細棒部材が、プラスチックボトルＢの内部を優れた共振系として、リング状共振器６からスリット６１を介して３６０°方向から照射されたマイクロ波により表面波プラズマを形成する。 - 特許庁

This production method includes: arranging a substrate having hydrogen-modified silicone applied on the surface thereof between electrodes that face to each other; decomposing the hydrogen-modified silicone applied on the surface of the substrate by a glow-discharge plasma which has been generated by applying a high-frequency power or direct current power between the electrodes in an ambient-pressure atmosphere; and forming the silicon oxide film on the substrate.例文帳に追加

表面にハイドロジェン変性シリコーンが塗布された基材を、互いに対向する電極間に配置し、大気圧雰囲気下において前記電極間に高周波電力又は直流電力を印加して発生させたグロー放電プラズマにより前記基材表面におけるハイドロジェン変性シリコーンを分解し、前記基材上に酸化シリコン膜を形成する。 - 特許庁

Minute undulations are formed on the surface of the workpiece by reciprocating a cutting tool fixed to a drive mechanism unit having a drive source, which is able to minutely move at a high speed in the vertical direction of the workpiece surface, while moving the workpiece mounted on a movable body, which can be driven in the definite direction by a constant speed drive control method.例文帳に追加

速度一定駆動制御が可能である移動体に被加工材を取り付けて移動体の駆動により一定方向に移動させ、前記被加工材表面の垂直方向より微小でかつ高速に変位可能な駆動源を有する駆動機構部に取り付けた切削工具を往復運動させることにより被加工材の表面に微細な凹凸形状を形成する。 - 特許庁

This method for producing the biological tissue includes: adding a culture solution containing cells and a separately prepared extracellular matrix ingredient to a culture container having a non-cell-adhesive inner bottom surface; and then culturing the added cells to obtain the biological tissue comprising multi-layered cells in a short time period, while applying centrifugal or magnetic force to the cells toward the inner bottom surface.例文帳に追加

本発明は、細胞非接着性である内底面を有する培養容器に、細胞と、別途調製された細胞外マトリクス成分とを含有する培養液を加え、細胞に内底面方向への遠心力または磁力を作用させて培養を行うことにより細胞が多層化された生体組織を短時間で得ることを特徴とする、生体組織の作製方法を提供する。 - 特許庁

This method comprises a step of providing a metal component 122 having an exterior surface, and a step of using a burnishing element to apply a varying pressure to an exterior surface within a selected area, within which the component has a varying thickness, to create a region 150 of residual compressive stress surrounded by an interior boundary 154.例文帳に追加

本方法は、外部表面を有する金属構成部品（１２２）を準備する段階と、バニシング要素（１１４）を使用して、その範囲内では構成部品が可変厚さを有する選択区域内の外部表面に対して可変圧力を加えて内部境界面（１５４）によって囲まれた残留圧縮応力領域（１５０）を形成するようにする段階とを含む。 - 特許庁

To improve smoothness and durability of a resin release layer by making its crystallinity uniformly low by uniformly quenching the entire surface of a heat fixing roller through a device and a method for the heat fixing roller that smooth a resin release layer formed on the thin surface of a mandrel by quenching the resin release layer after heating it up to fusion temperature.例文帳に追加

薄肉の芯金表面に形成された樹脂離型層の平滑化を、樹脂離型層を溶融温度まで加熱してから急冷することによって実施する加熱定着ローラの加工装置、及び方法において、ローラの全表面に対して均一に急冷を行うことによって、樹脂離型層の結晶化度を均一に低くし、平滑性及び耐久性を高めることができる。 - 特許庁

This method for producing the flag comprises the first process for printing a desired design to the front surface of the fiber fabric, the second process for more narrowing spaces between the fibers of the fiber fabric than un-narrowed spaces, after the first process, and the third process for adhering the photocatalyst to the back surface of the fiber fabric, after the second process.例文帳に追加

本発明に係る旗の製造方法は、繊維布生地の表面に所望のデザインの印刷を施す第１の工程と、第１の工程の後、繊維布生地の繊維間に存在する空隙を加工前に比べて狭くするための処理を施す第２の工程と、第２の工程の後、繊維布生地の裏面に、光触媒を固着させるための第３の工程とを備える。 - 特許庁

To provide a method for producing fluorapatite capable of producing fluorapatite which can separate a lot of protein by reducing or minimizing impurities derived from raw materials to improve its acid resistance and increasing its specific surface area, a fluorapatite having a high acid resistance and a large specific surface area and an adsorbing apparatus equipped with the fluorapatite.例文帳に追加

原料に起因する不純物を少なく、もしくは極めて少なくすることにより、耐酸性の改善が図られ、かつ、比表面積を大きくすることにより、より多くのタンパク質を分離し得るフッ素アパタイトを製造し得るフッ素アパタイトの製造方法、耐酸性が高く、かつ比表面積の大きいフッ素アパタイトおよびかかるフッ素アパタイトを備える吸着装置を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of coating a photoresist covering a pattern-formable region for protecting the surface of the wafer, completely removing only the unwanted films, after the photoresist coating step, by the use of chemicals capable of removing the unwanted films causing the peel off, and peeling off the photoresist for protecting the surface of the wafer.例文帳に追加

ウェハー表面保護のために、パターン形成可能領域をフォトレジストで覆うフォトレジスト被覆工程と、フォトレジスト被覆工程に続いて、剥がれの原因となる不要膜を除去できる薬液を用いて、不要膜のみを完全に除去する不要膜除去工程と、その後、前記ウェハー表面保護用のフォトレジストを剥離するフォトレジスト剥離工程とを有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a surface inspection device and its method where a scratch, having various shapes occurring on the surface of a processed object (for example, an insulating film on a semiconductor substrate) and an adhering foreign substance are discriminated and inspected, when the processed object is polished or ground through CMP or the like, in the manufacturing of semiconductors or of magnetic heads.例文帳に追加

半導体製造や磁気ヘッド製造において、被加工対象物（例えば、半導体基板上の絶縁膜）に対してＣＭＰなどの研磨または研削加工を施した際、その表面に生じる様々な形状を有するスクラッチと付着する異物とを弁別して検査することができるようにした表面検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

In a method for hydrogen plasma treatment, the surface potential of an insulating material 4 to be treated is controlled arbitrarily, by impressing radio frequency upon a substrate holder 5 by changing radio-frequency power according to the floating potential generated in the material 4 when implementing the surface treatment of the material 4, by generating a plasma in a vacuum vessel 1 which encloses a hydrogen gas.例文帳に追加

本実施形態の水素プラズマ処理方法は、水素ガスが封入された真空容器１内にて、プラズマを発生させて絶縁性被処理材４の表面処理を行う際に、絶縁性被処理材４に生ずるフローティングポテンシャルに応じて高周波の電力を変えて基板ホルダ5に高周波を印加し絶縁性被処理材４の表面電位を任意にコントロールする。 - 特許庁