「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(110ページ目) - Weblio英語例文検索

In step S1, the distribution of irradiating light volume, given by reflecting light from respective small regions to the reflecting surfaces of respective mirrors, is calculated when the surface of a reticle is divided into small regions, and patterns are supposed to be formed in all of respective small regions.例文帳に追加

ステップＳ１で、レチクル面を分割して小領域に分けた場合に、各小領域全体にパターンが形成されていると仮定した場合の、各小領域からの反射光が、各ミラーの反射面に与える照射光量分布を計算する。 - 特許庁

In the second step, a second resin 13 is interposed between a second stamper 30 having, in its transfer surface 30a, pattern-shaped recessed parts 32 corresponding to second magnetic parts of user data regions and the magnetic film 5 and the second stamper 30 is pushed to the second resin 13.例文帳に追加

第２工程では、ユーザデータ領域の第２磁性部に対応したパターン形状の凹部３２を転写面３０ａに伴う第２スタンパ３０と磁性膜５の間に第２樹脂１３を介在させて第２スタンパ３０を第２樹脂１３に押し付ける。 - 特許庁

When the roller 8 approaches to the trailing end of the groove 12a, the leftward advance of the plate 9 is stopped, and the pressing of the plate 9 by the cam 12b is released, then the low step part 9b of the plate 9 abuts on the rail surface 1b, whereby the film tunnel amount is switched.例文帳に追加

従動コロ８がカム溝１２ａの終端に近付くとフィルム圧板９の左行は停止し、立体カム１２ｂによるフィルム圧板９の押圧が解除され、その低段部９ｂが外レール面１ｂに当接してフィルムトンネル量が切り換えられる。 - 特許庁

In the fifth step of the manufacturing method of optical coupler, the cladding resin 115 highly wettable to the core 111a is charged to the outer circumferential surface of the core 111a, whereby the cladding resin 115 can be concentrated around the core 111a.例文帳に追加

光結合器の製造方法の第５ステップでは、コア１１１ａに対する濡れ性の高いクラッド用樹脂１１５をコア１１１ａの外周面に充填することで、クラッド用樹脂１１５をコア１１１ａの周りに集中させることができる。 - 特許庁

Projecting and recessed parts related in the circumferential direction are formed at the same pitch on the axial outer end face of the inner ring 2a and a step surface 12 on which the axial outer end face is butted, and the projecting and recessed parts of both surfaces are engaged with each other.例文帳に追加

上記内輪２ａの軸方向外端面と、この軸方向外端面が突き合わされる段差面１２とに、同じピッチで形成された、円周方向に関する凹凸を形成し、これら両面の凹凸同士を係合させる。 - 特許庁

Solder resist layers 3 and 4 enclosing the wiring-board-side pads 9 are formed on a surface of the wiring board 2, and the solder resist layers 3 and 4 have a step portion 15 formed so that peripheral portions of the wiring-board-side pads 9 are recessed.例文帳に追加

配線基板２の表面に、配線基板側パッド９を囲んで形成されたソルダーレジスト層３、４を備え、ソルダーレジスト層３、４は、配線基板側パッド９の周辺部が凹部となるように形成された段差部１５を有することを特徴とする。 - 特許庁

Thus, sticking of contaminants, of the floating surface of the magnetic head slider, to the front, the side and the center step bearing surfaces 5, 6 and 8, and a negative pressure groove 9 where sticking of contaminant easily occur is prevented, and slider floating instability is suppressed.例文帳に追加

これにより、磁気ヘッドスライダ浮上面のうち、特にコンタミネーション付着が起こりやすいフロントステップ軸受け面５、サイドステップ軸受け面６、センタステップ軸受け面８、負圧溝９へのコンタミネーション付着を防止し、スライダ浮上不安定化を抑制する。 - 特許庁

An inner wall 64 of the lower 62 is provided more inside of a chamber 2 than an inner wall 53 of the upper wall 61, and an upper surface of the chamber lower wall 62 is projected inwardly from the inner wall of the chamber upper wall 61 to form a step 65.例文帳に追加

チャンバ下側壁６２の内壁６４の方をチャンバ上側壁６１の内壁６３よりもチャンバ２の内側に設け、チャンバ下側壁６２の上面がチャンバ上側壁６１の内壁よりも内側に突出する部分を段差部６５とする。 - 特許庁

To provide a planetary mixer constituted so as not only to shorten a treatment time but also to well perform stirring-kneading without producing adhesion residues on the inner surface of a tank in a manufacturing step of ink, coating, ceramic, chemicals, food, an electronic material and various other products.例文帳に追加

インキ、塗料、セラミック、薬品、食品、電子材料その他の各種製品の製造工程において、タンク内面に付着残を生じることなく、処理時間を短縮し、良好に攪拌・混練できるようにしたプラネタリーミキサーを提供する。 - 特許庁

In the second step, while a focus of the beam 930 is reciprocated in a thickness direction of the layer 910, and the beam 930 is relatively moved (in-plated moved) in a surface direction of the layer 910, the beam 930 is projected.例文帳に追加

ここで、第２の工程において、ビーム９３０の焦点を層９１０の厚さ方向に沿って往復移動させつつ、かつ、ビーム９３０を層９１０の面方向に沿って相対的に移動（面内移動）させつつ、ビーム９３０を照射する。 - 特許庁

Since the step 20 reinforces the vicinity of the treading end of the block-shaped land part 18 and increases the edge pressure in the vicinity of the treading end, in running on a snow road, the treading end easily bites onto the snow surface, and on-snow traction performance is enhanced.例文帳に追加

この段部２０がブロック状陸部１８の踏み込み端付近を補強して踏み込み端付近のエッジ圧を高めるため、雪道を走行する際に踏み込み端が雪面に食い込み易くなり、雪上トラクション性能が向上すする。 - 特許庁

Lower leads 33, 34, 35 of a lower lead frame 31 in a lead frame 30 are etched half partially for forming a circuit element mounting section 36, and a plurality or a number of small dimples 49 are formed on the surface of a step section around the circuit element mounting section 36.例文帳に追加

リードフレーム３０の下側リードフレーム３１の下部リード３３，３４，３５の一部をハーフエッチングして回路素子搭載部３６を形成し、回路素子搭載部３６周辺の段差部の表面に、複数または多数の小さなディンプル４９を形成した。 - 特許庁

To provide a method for producing an electronic component comprising a step for filling a through hole having a large aspect ratio surely with conductive paste without entraining air, or imparting conductive paste surely to the inner circumferential surface of the through hole.例文帳に追加

アスペクト比が大きい貫通孔に導電ペーストに空気を巻き込むことなく確実に充填あるいは該貫通孔の内周面に確実に導電ペーストを付与することを可能とする工程を備えた電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

A rolling step is performed a plurality of times stepwise from the thickness (a) to the thickness b (a>b) such that a Cu-Ga alloy plate becomes thinner gradually while regulating the surface temperature of the Cu-Ga alloy plate to be within a range of 380-520°C.例文帳に追加

Ｃｕ−Ｇａ合金板の表面温度を３８０℃〜５２０℃の範囲内に調節しながら、Ｃｕ−Ｇａ合金板の厚さが徐々に薄くなるように、厚さａから厚さｂ（ａ＞ｂ）まで段階的に複数回、圧延工程を行う。 - 特許庁

The solid imaging element 5 is arranged inside the element storage 21 in a state where an imaging surface is directed toward the imaging opening 23, and the edge 27 of the solid imaging element 5 is mounted by flip-chip onto the step 29 between the element storage 21 and the imaging opening 23.例文帳に追加

固体撮像素子５は、撮像面が撮像開口２３を向いた状態で、素子収容部２１内に配置され、固体撮像素子５の縁部２７が素子収容部２１と撮像開口２３の段差部２９へフリップチップ実装されている。 - 特許庁

In this lever-fitting type connector, a lower edge 30B of a taper surface of an engagement projection 30 forms a corner part made by side wall surfaces crossing each other at an obtuse angle, and the corner part engages with an engagement step part 37 formed in an inner wall of a hood part and situated in the interior of an insertion groove 36.例文帳に追加

係合突起３０のテーパ面の下縁３０Ｂが側壁面どうしが鈍角に交わる角部でなり、この角部がフード部内壁の挿入溝３６の内奥に形成された係合段部３７に係当するようになっている。 - 特許庁

To fabricate an optical film of which the surface release film is easily released and removed even after a lapse of long time, of which the yield in the optical film blanking step is improved, which comprises an obliquely oriented polymer film and which is excellent in smoothness and is high-performance.例文帳に追加

経時しても表面剥離フィルムの剥離除去が容易で、光学フィルムの打ち抜き工程における得率を向上することができる、斜め配向したポリマーフィルムからなる平滑性に優れ且つ高性能な光学フィルムを作製する。 - 特許庁

A method for peeling a protective tape 11 adhered on a surface of a wafer 10 from the wafer 10 includes a step for fixing the wafer 10 to a stage so that a face opposite to a face, to which the protective tape 11 is adhered, is in contact with the stage.例文帳に追加

ウェハ１０の表面に貼着されている保護テープ１１を、ウェハ１０から剥離する方法は、保護テープ１１が貼着されている面と反対側の面がステージに当接するように、ステージにウェハ１０を固定する工程を備える。 - 特許庁

The orientation layer substrate 11 is irradiated with laser light partially by reducing an irradiation region, and the entire surface of the orientation layer substrate 11 is irradiated with the polarized light by step-and-repeat scanning the XYZθ stage 12 in two directions of X and Y.例文帳に追加

レーザ光の配向膜基板１１への照射は、照射領域を小さくして部分的に行い、ＸＹＺθステージ１２をＸとＹの２方向にステップ・アンド・リピ−ト走査して当該配向膜基板１１の全面に偏光を照射する。 - 特許庁

In the radome, a step of 1/4 depth of a wavelength obtained from the predetermined frequency is provided between a first radome part 13a within a range of a 1/2 area of the entire surface and a second radome part 13b within a range of the other 1/2 area.例文帳に追加

レドームは、全表面の面積の２分の１の範囲である第１レドーム部１３ａと他方の２分の１の範囲である第２レドーム部１３ｂとに、所定周波数により求められる波長の４分の１の深さの段差を設けた。 - 特許庁

In the reduced pressure drying apparatus, the substrate is supported in face contact on the entire surface of a lift plate over the entire back side of a product region where a treatment liquid is present, when drying the liquid on the substrate for preventing irregularities in the liquid effectively (step S4).例文帳に追加

減圧乾燥装置では、処理液のムラを有効に防止するために、基板上の処理液を乾燥する際に、処理液が存在する製品領域の裏側全体に、リフトプレートの上面で面接触して基板が支持される（ステップＳ４）。 - 特許庁

A slope C having a prescribed deflection angle is formed from the terminal 9 to the step 21, a recess H is formed on an opposite surface, and thus an edge E is formed by a ridge line formed between the terminal 9 and the slope C.例文帳に追加

端子９から段差部２１に向けて所定の偏角を有した斜面部Ｃが形成されるとともに反対面には凹部Ｈが形成され、このため端子９と斜面部Ｃの間に形成される稜線によりエッジ部Ｅが形成される。 - 特許庁

This method of manufacturing the wooden flooring comprises the bright coating forming step of coating the surface 110b of the wooden base 110 with a bright paint containing a bright pigment and curing the paint to form a bright coating 120.例文帳に追加

また、本発明の木質床材の製造方法は、木質基材１１０の表面１１０ｂ側に、光輝性顔料を含む光輝性塗料を塗布し、これを硬化させて光輝性塗膜１２０を形成する光輝性塗膜形成工程を備えている。 - 特許庁

After a step of forming a gate electrode 3 of a MOS transistor, a silicon oxide film 2 having a film thickness of 400 nm or more is formed on the whole surface of a wafer, and ion implantation 6 is performed through the silicon oxide film 2 to form an offset drain region.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタのゲート電極３形成工程後に、膜厚が４００ｎｍ以上のシリコン酸化膜２をウェハ全面に形成し、シリコン酸化膜２上からイオン注入６をすることによりオフセットドレイン領域を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, which can not be affected by the sizes and layouts of its wirings and whereby the step of the surface of its semiconductor substrate can be eliminated and the thicknesses of its interlayer films present on its wirings can be made constant with good reproducibility.例文帳に追加

配線のサイズやレイアウトに影響されず、半導体基盤の表面を段差なく、かつ、配線上の層間膜厚を再現性よく一定にすることが可能な半導体装置の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

Further, when predetermined metal layers are successively formed on one or both surfaces of the metal base layer to form a multi-layer structure, a metal covering layer containing palladium (Pd) is formed on a surface of the multi-layer structure (step S110, S120).例文帳に追加

そして、金属ベース層の一方または双方の表面上に、所定の金属層を順次成膜して多層構造を形成する際に、パラジウム（Ｐｄ）を含有する金属被覆層を前記多層構造の表面に形成する（ステップＳ１１０、Ｓ１２０）。 - 特許庁

In the step of imaging the object by the imaging device with the solid image sensors, the object is imaged from a direction of regular reflection from an object surface of illumination light irradiated on the object.例文帳に追加

また、前記固体撮像素子を備える撮像装置によって前記物体を撮像するステップにおいて、前記物体を照射する照明光が物体表面で正反射する方向から物体を撮像することを特徴とする測定方法とした。 - 特許庁

To provide a stickiness-imparting resin composition having a softening point of 130 to 180°C which can impart a good adhesive power even to a rough surface such as polyurethane foam without using a solvent, a plasticizer and the like in an emulsifying step, stably and in a high yield.例文帳に追加

乳化工程で溶剤や可塑剤などを使用することなく、ポリウレタンフォームのような粗面に対しても良好な接着力を付与しうる、軟化点１３０〜１８０℃の粘着付与樹脂エマルジョンを安定的に高い収率で提供する。 - 特許庁

To provide a tailstock device for clamping a flange work without causing a step in working surface in inside and outside diameter working with one machine to reduce a required floor area, and a simultaneous inside and outside diameter working lathe using the tailstock device.例文帳に追加

所要床面積を小さくするよう１台の機械を用い、内外径加工時に加工面に段差を生じさせることのないようフランジワークを挟持する心押装置及び、この心押装置を用いた内外径同時加工旋盤を提供する。 - 特許庁

In the method, an n-type single-crystal silicon wafer 21 is placed on a first placing surface 50A of a first substrate tray 50 covered by an i-type amorphous silicon layer 28, in a step of forming an HIT-structure.例文帳に追加

本実施形態に係る太陽電池の製造方法では、ＨＩＴ構造の形成工程において、ｎ型単結晶シリコンウェハ２１は、ｉ型非晶質シリコン層２８によって覆われた第１基板トレー５０の第１載置面５０Ａ上に載置される。 - 特許庁

To provide a wafer processing tape which will not oversoften, in heat treatment which uses a thermosetting-type surface protective film, can be used in an expansion step for splitting an adhesive layer, and has uniform and isotropic expansion property.例文帳に追加

熱硬化タイプの表面保護テープを使用する場合の加熱処理において過剰軟化せず、しかも、接着剤層を分断するエキスパンド工程において使用可能な均一且つ等方的な拡張性を有するウエハ加工用テープを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing vinyl resin fine particles having a dent on the surface of the particle, wherein the method for producing vinyl resin fine particles can economically produce the resin particles without using any complex production step.例文帳に追加

本発明は、粒子表面に窪みを有するビニル系樹脂微粒子の製造方法であって、煩雑な製造工程を経ることがない、安価に該樹脂粒子を製造可能なビニル系樹脂微粒子の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In this minicomputer 1, the medal M guided to the tip end of the run plate 50, by dropping its tip end into the step difference 60, is effectively prevented from being piled in a straw bag shape by vertically standing relating to a surface of an annular belt 36.例文帳に追加

このミニコン１では、滑走板５０の先端に導かれたメダルＭは、その先端が段差６０に落ち込むことによって、メダルＭが環状ベルト３６の表面に対し垂直に立って俵状に重なることが効果的に防止される。 - 特許庁

After a thin insulating film (silicon oxide film), which serves as a base, is formed on the surface of a silicon crystal through an electrochemical method, a desired thin insulating film (silicon oxide film) is obtained by performing a heat-treating step in the temperature profile shown in Fig. 1.例文帳に追加

電気化学的な方法でシリコン結晶の表面に基礎となる絶縁性薄膜（シリコン酸化膜）を形成した後、図１に示すような温度プロファイルの熱処理工程を行うことにより、所望の絶縁薄膜（シリコン酸化膜）を得ている。 - 特許庁

The two layer bank 13 consists of a lower layer bank 14 and an upper layer bank 15 partitioning the color element regions A, and the lower layer bank 14 is provided so as to stretch out to the inside of the color element region A to form the step on the wall surface of the two layer bank 13.例文帳に追加

二層バンク１３は、下層バンク１４と色要素領域Ａを区画する上層バンク１５とからなり、下層バンク１４は、色要素領域Ａの内側に張り出すように設けられて、二層バンク１３の壁面に段差を形成している。 - 特許庁

To provide a sand mold for casting with which even in the case of having a complicated inner surface in the shape of a casting object, a manufacture of the mold is easily performed in a short time and particularly, this sand mold can efficiently cope with the change of spatial shape and dimension in a test manufacturing step.例文帳に追加

鋳造対象が形状的に複雑な内空間を有するものであっても、型製作を容易に短時間で行え、特に試作段階での空間形状・寸法の変更に効率よく対処し得る鋳造用砂型を提供する。 - 特許庁

The transfer type ink-jet recording method has an auxiliary liquid application step in which an auxiliary liquid is applied to an area, where an intermediate image on the image forming surface is not formed, so as to surround the outline of the intermediate image by the ink-jet recording method.例文帳に追加

画像形成面の中間画像が形成されない領域に、インクジェット記録方法によって中間画像の輪郭を囲むように補助液を付与する補助液付与工程を有することを特徴とする転写型インクジェット記録方法。 - 特許庁

To obtain an attic space room structure which can enhance the appearance quality (finishing quality) of an attic space room by eliminating a step etc. of an inner surface of the attic space room, and a construction method for the attic space room structure, which can shorten a construction time.例文帳に追加

小屋裏部屋の内面の段差等を無くすことにより小屋裏部屋の外観品質（仕上げ品質）を向上させることができる小屋裏部屋構造体及び施工時間を短縮することができる小屋裏部屋構造体の施工方法を得る。 - 特許庁

Thus, condensate generated in the exhaust gas is prevented from being retained on the second step surface of the second valve seat 5, retention and intrusion into the second press-in part 42 is also suppressed, and progress of corrosion of the second press-in part 42 can be restrained.例文帳に追加

これにより、排気ガス中に発生した凝縮水が、第２バルブシート５の第２段差面上に滞留し難くなり、第２圧入部４２への滞留および浸入も抑制されるので、第２圧入部４２の腐食の進行が抑制される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a crystalline glass substrate by which variation in the temperature distribution within the surface of a substrate or between the substrates in the heat treatment of a crystallizing step is reduced and the treatment capacity of the heat treatment is remarkably improved.例文帳に追加

結晶化工程の熱処理時における基板面内あるいは基板間での温度分布のばらつきを低減でき、しかも熱処理時の処理能力の大幅な向上を可能とする結晶化ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for production comprises carrying out a step of discharging a pressure-sensitive adhesive forming a basis of the pressure-sensitive adhesive layer from nozzles and forming the pattern in a prescribed planar shape on the surface of the substrate near positions where the belt-like substrate is continuously slit while being transported.例文帳に追加

製造方法は、感圧粘着層のもとになる粘着剤をノズルから吐出させて、基材の表面で所定の平面形状にパターン形成する工程を、帯状の基材を搬送しながら連続的にスリットする位置の近傍で行う。 - 特許庁

A half blanking region 25 is formed on the base side in the head end face of a lead 20 after a step of cutting the lead by half blanking on the reverse side to a mounting surface on the head end side of the lead 20 projected from the sealing resin 10.例文帳に追加

まず、封止樹脂１０から突出するリード２０の先端側において、実装面とは反対側に半抜きして、後述するリードを切断する工程後のリード２０の先端面のうち底面側に半抜き領域２５を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which includes a process for forming a silicon oxide film that can be formed at low temperature, and has superior surface flatness, recessed part burying properties, and step coverage, and also has a superior film forming speed; and to provide a substrate processing apparatus.例文帳に追加

低温での成膜が可能であり、表面平坦性、凹部埋めこみ性、ステップカバレッジに優れ、成膜速度にも優れるシリコン酸化膜の形成工程を有する半導体デバイスの製造方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for processing a substrate to effectively remove surface coarseness generated around a circumferential part or the like of the substrate and a film adhering to the circumferential part or the like of the substrate and becoming a source of contaminant, in a manufacturing step of a semiconductor apparatus or the like.例文帳に追加

半導体装置の製造工程などにおいて、基板の周縁部等に発生する表面荒れや基板の周縁部等に付着し汚染源となる膜を効果的に除去することができる基板処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The slope shape on the inboard-side side face is made into a two-step slope shape which connects the slope face 13aa on the center side to an outer side slope face 13ab having more gentle slope than the center side slope with a connecting circular surface 13ac having a circular cross section.例文帳に追加

このインボード側の側面の勾配形状を、中心側の勾配面１３ａａとこれよりも緩傾斜とした外径側勾配面１３ａｂとを、円弧状断面のつなぎ円弧面１３ａｃでつないだ２段勾配形状とする。 - 特許庁