「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(112ページ目) - Weblio英語例文検索

In the wiping step, the aluminum rough tube 10 is rotated on its axis while pressing wiping members 70 on the outer circumferential surface of the aluminum rough tube 10 by means of a plurality of pressing bodies 6 arranged along a circumferential direction, so that the outer circumferential surface of the aluminum rough tube 10 is wiped with the wiping members 70.例文帳に追加

拭き取り工程においては、アルミニウム素管１０の外周面に、周方向に沿って配置された複数の押付体６によって拭き取り部材７０を押し付けた状態で、アルミニウム素管１０を軸心回りに回転させることにより、アルミニウム素管１０の外周面を拭き取り部材７０によって拭き取るようにしている。 - 特許庁

The method for manufacturing the toner includes a step in which a dispersion prepared by dispersing a polyester resin-containing dispersoid in a dispersion medium is pressed by a gas stream on a smooth surface and thinly spread to form a thin layer stream, and this stream is released from the smooth surface, jetted as fine particles, solidified and made particulate under transport in a solidification section.例文帳に追加

本発明のトナーの製造方法は、ポリエステル系樹脂を含む分散質が分散媒中に分散した分散液を、ガス流で平滑面に押し付けて薄く引き伸ばして薄層流とし、該薄層流を平滑面から離して微粒子として噴射し、固化部内を搬送させつつ固化させ粒状とする工程を有する。 - 特許庁

In a step S37, with respect to the respective apexes of the intermediate surface data, original data having correspondent polygon with the apexes and inter-polygon distance within a second reference value are selected and the respective apexes of the intermediate surface data are moved so that the apexes of correspondent polygon in the selected original data and the sum of inter-polygon distances can be less than a minimum of fixed value.例文帳に追加

ステップＳ３７で、中間サーフェースデータの各頂点に対し、その頂点，ポリゴン間距離が第２の基準値以内の対応ポリゴンを有するオリジナルデータを選択し、選択したオリジナルデータの対応ポリゴンの頂点，ポリゴン間距離の和が最小値あるいは一定値以下になるように、中間サーフェースデータの各頂点を移動する。 - 特許庁

This backlight unit is formed by including at least one fluorescent lamp, and at least one supporting stand assembly to support the fluorescent lamp, and this supporting stand assembly includes an inclined surface inclining a plurality of times, and at least one hole formed in the inclined surface so as to house the step part of the fluorescent lamp.例文帳に追加

本発明に係るバックライトユニットは、少なくとも一つの蛍光ランプ、及びこの蛍光ランプを支持する少なくとも一つの支持台アセンブリを含んで構成され、この支持台アセンブリは、複数回傾斜した傾斜面、及び蛍光ランプの段部を収容するように傾斜面内に形成された少なくとも一つの孔を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This ladder 10 for a quay is constituted so that horizontal three step bars 11 are installed and arranged at prescribed intervals in the vertical direction between both inside surfaces 20A of a vertically extending arranging recessed part 20 formed on a quay surface 1B of a quay 1 by being fastened to support metal fittings 12 implanted in an inside surface of the arranging recessed part 20 by bolts and nuts 13.例文帳に追加

岸壁用梯子１０は、岸壁１の岸壁面１Ｂに形成された上下方向に延びる設置凹部２０の両内側面２０Ａ間に、水平な三本のステップバー１１が、設置凹部２０の内側面に植設された支持金具１２にボルト・ナット１３で締着されて上下方向に所定間隔で架設配設されて構成されている。 - 特許庁

To provide a bladder for vulcanizing a tire capable of reducing an amount of a mold-releasing agent applied to the outer surface of a bladder body or the inner surface of an unvulcanized tire or eliminating a mold-releasing agent applying step, and securing the thickness of an inner liner member without causing the deterioration of air bleed effect, a method for vulcanization-molding a tire, and a pneumatic tire.例文帳に追加

ブラダー本体の外表面または未加硫タイヤの内表面に塗布する離型剤の量の低減または離型剤塗布工程の省略を行うことができ、しかもエアー抜き効果の低減を招来することなくインナーライナー部材の厚さを確保することのできるタイヤ加硫用ブラダー、タイヤの加硫成形方法及び空気入りタイヤを提供する。 - 特許庁

The method for producing elastic roller with groove for forming a plurality of V-grooves in the circumferential direction of the outer circumferential surface of an elastic roller has a cutting step for forming a first cut and a second cut which constitute a first lateral surface and a second lateral surface of the V-groove by using a thin blade cutter while relatively moving the elastic roller or the thin blade cutter in the circumferential direction of the elastic roller.例文帳に追加

本発明は、弾性ローラの外周面の周方向に複数のＶ溝を形成する溝付き弾性ローラの製造方法であって、上記弾性ローラの周方向に弾性ローラ又は薄刃カッターを相対的に移動させつつ、その薄刃カッターを用い、Ｖ溝の第１側面及び第２側面を構成する第１切り込み及び第２切り込みを形成する切込工程を有することを特徴とする溝付き弾性ローラの製造方法である。 - 特許庁

The method includes a growing step of growing a second nitride semiconductor 20 on a surface 11 and a side face 14 of a seed crystal 10 comprising a nitride semiconductor having the surface 11 and the side face 14 including a slope face 12, wherein the nitride semiconductor is grown in such a way that the area of an upper face of the grown second nitride semiconductor 20 is larger than the area of the surface 11 of the seed crystal 10.例文帳に追加

表面１１と、傾斜面１２を有する側面１４とを備える窒化物半導体からなる種結晶１０の前記表面１１及び側面１４上に第２の窒化物半導体２０を成長させる成長工程を有し、前記成長させた第２の窒化物半導体２０の上面の面積が、前記種結晶１０の表面１１の面積よりも大きくなるように窒化物半導体を成長させる。 - 特許庁

The method comprises: a step of sticking the protective layer of the protective sheet to a laser beam emitting surface side of the work; a step of machining the work by the irradiation of the laser beam; and a step of peeling the protective sheet from the machined work.例文帳に追加

基材上に少なくとも粘着剤層を有しており、吸光係数比（レーザー加工用保護シートの波長５３２ｎｍにおける吸光係数／使用する被加工物の波長５３２ｎｍにおける吸光係数）が１以上であるレーザー加工用保護シートを使用し、前記被加工物のレーザー光入射面側に該レーザー加工用保護シートの粘着剤層を貼付する工程、レーザー光を照射してレーザー加工用保護シート及び被加工物を加工する工程、レーザー加工用保護シートを加工後の被加工物から剥離する工程を含むレーザー加工品の製造方法。 - 特許庁

The method includes a step of bonding the adhesive agent layer for the laser processing protection sheet to the laser beam incident surface side of the article to be processed, a step of processing the laser processing protection sheet and the article to be processed by irradiating the same with a laser beam, and a step of separating the laser processing protection sheet from the article to be processed after the processing.例文帳に追加

基材上に少なくとも粘着剤層を有しており、かつ使用する被加工物の密度に対する前記基材の密度（密度比＝レーザー加工用保護シートの基材の密度／使用する被加工物の密度）が１以上であるレーザー加工用保護シートを使用し、前記被加工物のレーザー光入射面側に該レーザー加工用保護シートの粘着剤層を貼付する工程、レーザー光を照射してレーザー加工用保護シート及び被加工物を加工する工程、レーザー加工用保護シートを加工後の被加工物から剥離する工程を含むレーザー加工品の製造方法。 - 特許庁

In an exposure step 30, the surface of the glass substrate is exposed by a small mask continuous exposure system while adjusting positions of exposure heads 33, 34 by reading the alignment mark through the back face side of the glass substrate while carrying the glass substrate coated with the resist.例文帳に追加

露光工程３０はレジストを塗布されたガラス基板を搬送しつつガラス基板の裏面側からアライメントマークを読み取ることにより、露光ヘッド３３、３４の位置を調整しながらガラス基板の表面を小型マスク連続露光方式により露光する。 - 特許庁

To obtain a liquid crystal display panel without uneven threshold voltage and with high display quality in a method for its manufacturing containing a step to rub an alignment layer formed on a surface of a substrate with a rubbing roller to impart an aligning property to a liquid crystal.例文帳に追加

液晶に配向性をもたせるために、基板表面に形成された配向膜をラビングロールでラビングする工程を含む液晶表示パネルの製造方法において、しきい値電圧のむらのない表示品位の高い液晶表示パネルが得られるようにする。 - 特許庁

A step part 57 larger than outer diameter of an annular contact surface 46 of the valve seat 43 and the valve element 44 is formed.例文帳に追加

弁座４３の弁体４４との円環状の接触面４６の外径よりも大径の段差部５７を形成し、弁座４３に弁体４４が接触した際には、段差部５７の位置においては、弁座４３と弁体４４との間に一定の間隙ｈが生じるように構成している。 - 特許庁

For the semiconductor chip 12, the sidewall on the side of the right end in the figure is formed stepwise, and the first bump electrode 22 and the second bump electrode 24 are provided to straddle from the surface 12a of the semiconductor chip 12 to the flank 12b of the step.例文帳に追加

半導体チツプ１２は、図１で右端側の側壁が段差形状に形成されていて、第１の突起電極２２と第２の突起電極２４を、半導体チツプ１２の表面１２ａから上記段差部の側面１２ｂにまたがるように設ける。 - 特許庁

An irradiation amount of the electron beam or electromagnetic wave or an implantation amount of electron in the aging step is predetermined on a regional basis according to the measured permeability so that a fluctuation range of brightness in the image display surface of the image display apparatus falls within a target value.例文帳に追加

エージング工程における電子線もしくは電磁波の照射量または電子の注入量は、画像表示装置の画像表示面内の輝度の変動幅が目標値以内となるように、測定した透過率に応じて、領域ごとに予め決定される。 - 特許庁

The highly dense zeolite film is formed by reducing the pressure applied to the surface of a porous support on which zeolite seed crystal is not dropped yet to fill the seed crystal into the fine pores with high density and successively hydrothermally treating the support in the formation step of the zeolite film.例文帳に追加

ゼオライト膜の作製工程において、ゼオライト種結晶を滴下していない多孔質支持体の表面を減圧することで種結晶を高密度に細孔内に充填し、さらに水熱処理を施すことにより高緻密性ゼオライト膜の作製。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a three-dimensional circuit board in which a film circuit board is stuck on a cylindrical housing surface, capable of filling a gap between ends of the film circuit board with a resin so as to have no step while securing protection and insulation of wiring.例文帳に追加

円筒状の筐体表面にフィルム回路基板が貼着されている立体的回路基板の製造に際して、配線の保護と絶縁性を確保しつつ、フィルム回路基板の端部間の間隙を樹脂により段差なく埋設することを可能とする。 - 特許庁

On the phase shifter surface 502 of a aberration correction means 501, rectangular or step-like differences with different heights in the optical axial direction are formed in a concentric manner around an optical axial center within an area of a region 502a in a region 502b where a light beam passes through.例文帳に追加

収差補正手段５０１の位相シフタ面５０２は、光束が通過する領域５０２ｂのうち領域５０２ａの範囲内に、光軸中心で同心円状に光軸方向の高さが異なる矩形または階段状の段差が形成される。 - 特許庁

When fixing the seal member 5 equipped with the trough hole, excepting for a step surface in contact with the cell cross section of an LC display device and surfaces in contact with the seal member 6 facing the seal member 5 and with cell 8, the seal member 5 is fixed while surrounding the other surfaces.例文帳に追加

貫通孔を備えたシール部材５を固定する際に、液晶表示装置のセル断面に接触する段差面１５と、相対するシール部材６及びセル８に接触する面を除いてその他の面を囲んで固定するようにしたものである。 - 特許庁

The pneumatic tire is provided with; at least one circumferential groove extending along a tread circumferential line; and a plurality of branch grooves having one end opened to the circumferential groove and the other end completed in a land part on a tread step surface of the tire, and the branch groove has a sound absorption layer.例文帳に追加

タイヤのトレッド踏面に、トレッド周線に沿って延びる少なくとも１本の周方向溝と、一端が該周方向溝に開口し、他端が陸部内で終了する複数本の分岐溝とを具える空気入りタイヤにおいて、前記分岐溝は吸音層を有する。 - 特許庁

Then an insulation film for spacer formation is formed over the entire surface of the substrate along a step, and then while the insulating film in the core area is left as it is, the insulation film in the cell region is etched anisotropically, to form a spacer of the insulation film in the cell area.例文帳に追加

次いで、半導体基板全面にスペーサ形成のための絶縁膜を段差に沿って形成した後、コア領域の前記絶縁膜はそのまま残し、セル領域の絶縁膜は異方性エッチングしてセル領域に絶縁膜によるスペーサを形成する。 - 特許庁

A part of a curved surface r (u, v) represented by formula (1) corresponding to an area in a parameter space (u, v) which is surrounded with two lines given by v=±utanθ, wherein θ is ψ/2, and hyperbolic curves given by (1-R)u2-(s+R)v2 is obtained (step S4).例文帳に追加

角度θをψ／２としたときに、２直線“ｖ＝±ｕtanθ”、および、双曲線“（１−Ｒ）ｕ^2−（ｓ＋Ｒ）ｖ^2＝Ｒ”によって囲まれた前記パラメータ空間（ｕ，ｖ）内の領域に対応する式（１）の曲面ｒ（ｕ，ｖ）の部分を求める（ステップＳ４）。 - 特許庁

To provide a blade holding piece manufacturing method and a manufacturing device thereof for improving the dimensional accuracy of a manufactured retainer, preventing any formation of dents or the like on a surface, and improving the production efficiency in a step of cutting and bending a material of a blade holding piece.例文帳に追加

ブレード保持金具の材料を切断と折曲する工程において、出来上がったリテイナの寸法精度が向上し、かつ表面に圧痕などが形成されず、かつ生産効率を向上させるブレード保持金具の製造方法及びその製造装置の提供。 - 特許庁

Once the power source is turned on, it is decided whether the temperature T1 of a fixing device 32 (the surface temperature of the fixing roller) is lower than the previously set reference temperature A (e.g. 323K) based on the output of a temperature detection sensor 409 (step S2011).例文帳に追加

電源が投入されると、温度検知センサ４０９の出力に基づいて、定着装置３２の温度Ｔ１（定着ローラの表面温度）が予め設定された基準温度Ａ（例えば３２３Ｋ）より低いか否かの判定が行われる（ステップＳ２０１１）。 - 特許庁

Next, the relative position is adjusted by rotating or moving the memory medium and/or the transfer master so as to avoid or reduce defective transfer of a transfer pattern caused by overlap of the foreign matter or the defect on the surface of the memory medium and the transfer pattern with each other (step S3).例文帳に追加

続いて、記憶媒体及び／又は転写マスタを回転若しくは異動させて、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写パターンとの重畳による転写パターンの転写不良を回避又は低減する様に、相対位置を調整する（ステップＳ３）。 - 特許庁

The temperature control element 8 comprises the lower outer peripheral surface of the lower wall member 16 allowed to holdingly abut on the step part 19 of the mounting member 17 by the energizing force of a coil spring 18 as an elastic member having one end fixed to the cover member 5 and the other end fixed to the temperature control element 8.例文帳に追加

温度制御機素８は一端を蓋部材５に固定し他端を温度制御機素８に固定した弾性部材としてのコイルスプリング１８の付勢力によって取付部材１７の段部１９に下壁部材１６の外周下面を当接保持する。 - 特許庁

In the ridge-like section folding step 13, ridge-like sections 10 are formed by forming ridges one ridge by one ridge by folding up the stripe-like second adhesive applied portions 9 to the second surface 7 side along the sections 9 by means of a folded paper molding die and thermocompression bonding two ridges formed at each one sport to each other.例文帳に追加

畝状部折り工程１３では紙折り金型により第２塗布部９に畝を一筋ずつ筋状の第２塗布部９に沿って第２面７側へ立ち上げて成形し、１箇所２本ずつ立ち上げられた畝を熱圧接し畝状部１０とする。 - 特許庁

The housing end face 34 of a fixed part 3 is allowed to abut on the thrust face 23 of a rotating part 2, and a ring member 25 having an extraction prevention function is fitted to the inner peripheral surface 24a of the cylindrical peripheral wall 24 of a hub and allowed to abut on the engagement step part 35 of a housing projected part 33.例文帳に追加

回転部２のスラスト面２３に固定部３のハウジング端面３４を当接させ、抜け止め機能を有するリング部材２５をハブの円筒周壁２４の内周面２４ａに内嵌し、ハウジング突出部３３の係合段部３５に当接させる。 - 特許庁

To provide resin fine particles, with which positive charge particles having a high charge amount can be obtained in an easy production step, and preferably, resin fine particles used for child particles of composite particles prepared by fixing the child particles to surface layers of mother particles.例文帳に追加

簡単な製造工程で、高帯電量を有する正帯電粒子を得ることができる樹脂微粒子であって、好ましくは、母粒子表層に子粒子を固着させて得た複合粒子の子粒子として用いられる樹脂微粒子を提供する。 - 特許庁

To examine a CMP polishing agent for organic material, polishing a color filter layer to be uniform in thickness in a pixel by selectively polishing a step of the color filter layer to flatten the RGB surface of the color filter layer used in a liquid crystal display and having a high polishing speed.例文帳に追加

液晶ディスプレイに使われるカラーフィルター層のRGB表面を平坦にするため、カラーフィルター層の段差を選択的に研磨して、画素内でのカラーフィルター層の厚みを均一に研磨でき、かつ研磨速度の高い有機材料用ＣＭＰ研磨剤の検討を行う。 - 特許庁

To provide an MR coil system minimizing design and manufacturing time of surface coil arrays, coping with occupied area, performance and ergonomic problems, and realizing flexibility for evolving in step with future MR scanning systems.例文帳に追加

サーフェイスコイルアレイの設計時間と製造時間とを最小化し、専有面積の問題と性能の問題と人間工学的な問題とに対処し、未来のＭＲスキャニングシステムと歩調を合わせて進歩するための柔軟性を実現するＭＲコイルシステムを実現する。 - 特許庁

More specifically, surface activation treatment for activating bonding surfaces of both objects to be bonded is performed by irradiating energy waves toward the bonding surfaces of both objects, i.e., the first object to be bonded and the second object to be bonded, respectively, (step S20).例文帳に追加

具体的には、第１の被接合物と第２の被接合物との両被接合物の接合表面のそれぞれに向けてエネルギー波を照射することにより、両被接合物の接合表面のそれぞれを活性化する表面活性化処理を行う（ステップＳ２０）。 - 特許庁

In a build-up step, a wiring laminate portion 30 is formed by alternately laminating a plurality of resin insulating layers 21 to 24 and a plurality of conductor layers 26 in multilayer arrangement on a base 52 having copper foils 55 and 56 separably laminated and arranged on one surface.例文帳に追加

ビルドアップ工程にて、銅箔５５，５６を剥離可能な状態で片面に積層配置してなる基材５２上に、複数の樹脂絶縁層２１〜２４及び複数の導体層２６を交互に積層して多層化することにより配線積層部３０を形成する。 - 特許庁

In the mesoporous particle formation step, the surfactant composite fine silica particles are mixed with an acid and an organosilicon compound, thereby removing the surfactant and the hydrophobic portion-containing additive contained in the surfactant composite fine silica particles and providing the surface of each fine silica particle with an organic functional group.例文帳に追加

メソポーラス化工程は、これに酸と有機ケイ素化合物を混合し、界面活性剤複合シリカ微粒子に含まれる界面活性剤及び疎水部含有添加物の除去と、シリカ微粒子表面への有機官能基付与とを行う工程である。 - 特許庁

The method of manufacturing a lithium-ion secondary battery includes a step of making an electrode precursor by firing a mixture containing lithium ion conductive solid-state electrolyte powder and electrode active material powder with its surface covered at least partially with a coating layer not containing Li.例文帳に追加

リチウムイオン伝導性固体電解質粉末と、Ｌｉを含まない被覆層で少なくとも表面の一部が被覆された電極活物質粉末とを含む混合物を焼成し電極前駆体を作製する工程を含むリチウムイオン二次電池の製造方法。 - 特許庁

The polishing method is the one for polishing the substrate having the silicon oxide film on the surface, and includes a step of polishing the silicon oxide film with a polishing pad while supplying the polishing liquid for CMP between the silicon oxide film and polishing pad.例文帳に追加

本発明に係る研磨方法は、表面に酸化ケイ素膜を有する基板を研磨する方法であって、上記ＣＭＰ用研磨液を酸化ケイ素膜と研磨パッドとの間に供給しながら、研磨パッドによって酸化ケイ素膜の研磨を行う工程を備える。 - 特許庁

The package base 3 is used in which Au/Ni plated isotropy high-density carbon fibers are processed into a flat plate 3 mm in thickness and a step 8 of 0.1 mm is formed on a part of its surface and the plate is sliced into a 2 mm×4 mm rectangle member with a wire or a slice.例文帳に追加

パッケージ基台３として、Au/Niメッキ処理等方性高密度炭素繊維を厚さ3ｍｍの平板に加工し、表面の一部に0.1ｍｍの段差８が形成され、ワイヤーもしくはスライスで２ｍｍ×４ｍｍ長方形部材にスライスされたものを用いる。 - 特許庁

To provide an ion implantation method or the like that can form a circular implantation region and an outer peripheral implantation region surrounding it and having a different dose amount from it inside a surface of a substrate without using step rotation of the substrate.例文帳に追加

基板のステップ回転を用いることなく、基板の面内に、円形状注入領域と、それを囲んでいて当該円形状注入領域とはドーズ量の異なる外周部注入領域とを形成することができるイオン注入方法等を提供する。 - 特許庁

According to the present invention, even when a resist film is made thick enough to form a flat film, the aspect ratio of a resist pattern finally formed can be decreased, because the surface layer of the resist film is exposed with a low dose in the first step.例文帳に追加

本発明の構成によれば、レジスト膜が平坦となるように充分にレジスト膜を厚くした場合であっても、第一のステップによりレジスト膜の表層が低ドーズ量で露光されるため、最終的に形成されるレジストパターンのアスペクト比を低くすることが出来る。 - 特許庁

At step (j), etch agent is made to advance into the etching space 105 through the etching hole 14 and to fill the etching space 105, and a recess 13 is formed by etching a substrate 11 in the thickness direction (Z direction) from the surface opposite to the etching space 105.例文帳に追加

工程（ｊ）では、エッチング空間１０５に、エッチングホール１４を介してエッチング剤を進入させ、エッチング空間１５をエッチング剤で満たすようにして、基板１１のエッチング空間１０５に臨む表面から厚み方向（Ｚ方向）にエッチングして凹部１３を形成する。 - 特許庁

The press-fitting step bonds the raw material 1A under compression to the housing 21, and constricts both axial ends of the raw material 1A diametrally so that the diametrally internal surface thereof pressed against the core rod 32 forms shaft supporting surfaces 12 with an intermediate recess 13 in between.例文帳に追加

圧入工程において、素材１Ａをハウジング２１に圧着させる一方、素材１Ａの軸方向両端部を縮径させ、その内径面をコアロッド３２に圧接させて軸支面１２に形成するとともに、これら軸支面１２間に中逃げ部１３を形成する。 - 特許庁

Stress is computed on the basis of each of diameter dimension D_1 and D_2 and the the Young's modulus of a material structuring the inner ring 3 to obtain hoop stress generated in a surface of the small diameter step part 16 after forming the caulking part 14.例文帳に追加

そして、これら各外径寸法Ｄ_1 、Ｄ_2 と上記内輪３を構成する材料のヤング率Ｅとに基づいて応力の計算を行なう事により、上記かしめ部１４の形成後に上記小径段部１６の表面で発生しているフープ応力を求める。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a more excellent lithographic printing material which is not affected by setting and drying conditions in an applying and drying step in manufacture of a lithographic printing material provided with antistatic performance by applying a layer containing a carbon black on a rear surface.例文帳に追加

裏面にカーボンブラックを含有する層を塗布し帯電防止性能を付与した平版印刷材料の製造において、塗布乾燥工程におけるセット及び乾燥条件の影響を受けない、より優れた平版印刷材料の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Because of having the connecting means at the end parts of the surface of the mat, even if one mat is deformed in the connected state of the plurality of mats, the deformation is buffered by the connecting means to cause no sudden step difference between the adjacent mats.例文帳に追加

本発明のマットは、マットの表面の端部に接続手段を有しているため、複数のマットが接続された状態で一つのマットに変形が生じても接続手段により緩衝されるため、隣接するマットとの間で急激な段差が生じなくなっている。 - 特許庁

When a user sets the marks at desired positions in a plurality of frame images through the interface, a curved surface containing the points of attention set is generated in a 3D space in which a plurality of X-ray images are arranged in the direction of the time axis (step S202).例文帳に追加

このインターフェースを介して、ユーザが複数のフレーム画像の所望の位置にマークを設定すると、複数のＸ線画像が時間軸方向に並べられた３次元空間において上記設定された着目点を含む曲面が生成される（ステップＳ２０２）。 - 特許庁