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surface stepの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 6410



例文

The method for manufacturing a silicon-based regeneration test wafer or the like includes a step of performing chemical mechanical polishing to one main surface of the wafer having irregularities by the use of a polishing slurry containing floating abrasive particles and a water-soluble polymer after removing a structural layer on a surface of a used test wafer (non-product wafer) to a necessary extent by wet etching.例文帳に追加

本願の一つの発明は、シリコン系再生テスト・ウエハ等の製造方法において、使用済みテスト・ウエハ(非製品ウエハ)の表面の構造層をウエット・エッチングにより、必要な程度、除去した後、凹凸を有するウエハの一つの主面に対して、浮遊砥粒、および水溶性ポリマを含有する研磨スラリを用いた化学機械研磨を実施する工程を含むものである。 - 特許庁

The napping step 16 uses rollers (friction elements) 17 and 18 having needles (projections) N on their outer surfaces 17a, 18a to contact a surface S1 of a raw fabric 2 (a sanitary tissue paper material) and uses rollers 19 and 20 having the needles N on their outer surfaces to contact a surface S2 of the raw fabric 2.例文帳に追加

起毛処理工程16には、外周面17a,18aに針(突起物)Nをそなえる回転部材であるローラ(摺擦部材)17,18をトイレットペーパーの原反2(衛生薄葉紙素材)の表面S1に当接するように設け、外周面19a,20aに針Nをそなえる回転部材であるローラ19,20を原反2の表面S2に当接するように設ける。 - 特許庁

Mechanical processing of a surface of a first electrode provided to a semiconductor element is performed to provide a microcrystal first layer having a smaller particle diameter than that before the mechanical processing, and mechanical processing of a surface of a second electrode provided to a mounting member for mounting the semiconductor element is performed to provide a microcrystal second layer having a smaller particle diameter than that before the mechanical processing (step S1).例文帳に追加

半導体素子に設けられた第1の電極の表面の機械加工を行って、当該機械加工前よりも粒径が小さい微結晶の第1の層を設け、前記半導体素子が搭載される搭載部材に設けられた第2の電極の表面の機械加工を行って、当該機械加工前よりも粒径が小さい微結晶の第2の層を設ける(ステップS1)。 - 特許庁

The surface modification method comprises a step of applying an application liquid containing a compound represented by general formula (1) and a hydrophilizing agent having a functional group capable of forming a silanol group by hydrolysis or a silanol group to a material having a functional group capable of forming a silanol group by hydrolysis or a silanol group on the surface thereof.例文帳に追加

表面改質方法は、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基又はシラノール基を表面に有する材料に、一般式(式中、R^1、R^2及びR^3は、それぞれ独立に、炭素数が1以上6以下のアルキコキシ基であり、R^4は、炭素数が1以上6以下のアルキコキシ基又は炭素数が1以上6以下のアルキル基である。 - 特許庁

例文

The method for manufacturing vibration-proof rubber comprises a coating step of forming a para-xylylene resin layer on the surface of the vulcanized rubber of a rubber composition comprising a rubber component based on natural rubber, preferably, depositing the para-xylylene resin layer on the surface of the vulcanized rubber by using a vapor deposition polymerization method.例文帳に追加

天然ゴムを主成分とするゴム成分を含有するゴム組成物の加硫ゴム表面にパラキシリレン樹脂層を形成するコーティング工程を含むことを特徴とする防振ゴムの製造方法であって、好ましくはコーティング工程が、気相蒸着重合法により加硫ゴム表面にパラキシリレン樹脂層を形成するものであることを特徴とする防振ゴムの製造方法。 - 特許庁


例文

To provide a method and an apparatus for freeze-drying where a liquid material is frozen on an internal surface of a vertical tube forming a hollow pipe and freeze-dried under vacuum, and freezing the liquid supplied into the tube on the internal surface of the tube forming a hollow pipe is performed leaving an amount of unfrozen liquid very trifling at the end of a freezing step.例文帳に追加

液材料を竪方向のチューブの内壁面に、中空のパイプ状に凍結させ、これを真空下で凍結乾燥させる凍結乾燥手段において、チューブ内に供給した液材料を、チューブの内壁面に中空のパイプ状に凍結させるのが、凍結行程の終了時に未凍のまま残す未凍液の量を、極く少なくして行えるようにする。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device includes steps of blowing a fluid on a surface of a processing-target substrate including a semiconductor substrate; forming a protective layer on the surface of the processing-target substrate, after the fluid blowing step; and performing removing and processing operation with respect to a region of the substrate with the protective film being selectively removed.例文帳に追加

半導体基板を含む被処理基板の表面に流体を吹き付ける工程と、前記流体を吹き付ける工程の後、前記被処理基板の表面に保護層を形成する工程と、前記保護層をエネルギービームにより選択的に除去する工程と、前記被処理基板における、前記保護膜が選択的に除去された領域に対して、除去加工を行う工程と、を具備する。 - 特許庁

In the laminating step of the parallel plates, the parallel plate having a thickness of a reference value or more and the parallel plate having a thickness below the reference value are selected from among a plurality of ranks and laminated such that the misalignment of the contact surface in each cutting surface falls within a prescribed range in every cutting position.例文帳に追加

平行平板の積層工程では、各切断面に対する前記接合面の位置ズレが、いずれの切断位置においても所定範囲内に収まるように、厚さが前記基準値以上または前記基準値よりも大きいランクに属する前記平行平板と厚さが前記基準値未満または前記基準値以下のランクに属する前記平行平板とを選択して積層する。 - 特許庁

A method for manufacturing the slider is provided with a stage for forming an air bearing surface 30 to base materials for slider including a thin film magnetic head element 22 and a stage for etching at least a part of the air bearing surface 30 using a convergent ion beam 100 so that the step between a part corresponding to the thin film magnetic head 22 and the other part is decreased.例文帳に追加

本発明のスライダの製造方法は、薄膜磁気ヘッド素子22を含むスライダ用の素材に対してエアベアリング面30を形成する工程と、エアベアリング面30において、薄膜磁気ヘッド素子22に対応する部分と他の部分との間の段差が減少するように、エアベアリング面30の少なくとも一部を集束イオンビーム100によってエッチングする工程とを備えている。 - 特許庁

例文

The manufacturing method of the semiconductor device 1 comprises a step of mounting of a second semiconductor substrate 30 having a second through electrode 40 on the first semiconductor substrate 10 having a first through electrode 20, and connecting the first surface 22 of the first through electrode 20 and the second surface 42 of the second through electrode 40 face each other through a conductive member 50 electrically.例文帳に追加

半導体装置1の製造方法は、第1の貫通電極20を有する第1の半導体基板10に、第2の貫通電極40を有する第2の半導体基板30を搭載して、第1の貫通電極20の第1の面22と第2の貫通電極40の第2の面42とを導電部材50を介して対向させて電気的に接続することを含む。 - 特許庁

例文

To provide a liquid crystal display wherein a sealing material can be applied along a glass surface when sealing material coating human operation is performed, instability of the sealing material coating human operation is improved and it can be avoided that the sealing material leaks to contaminate the surface of a glass substrate and a trouble is generated in a successive outer frame assembling step by positioning a liquid crystal injection port on a connection terminal side.例文帳に追加

液晶注入口を接続端子側に位置させることにより、封止材人工塗布作業の際ガラス表面に沿い塗布することができて、封止材の人工塗布の不安定性を改善し、封止材が漏れてガラス基板表面が汚染されたり後続の外枠組立の際トラブルが生じたりすることを避ける液晶ディスプレーを提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of coating a photoresist covering a pattern-formable region for protecting the surface of the wafer, completely removing only the unwanted films, after the photoresist coating step, by the use of chemicals capable of removing the unwanted films causing the peel off, and peeling off the photoresist for protecting the surface of the wafer.例文帳に追加

ウェハー表面保護のために、パターン形成可能領域をフォトレジストで覆うフォトレジスト被覆工程と、フォトレジスト被覆工程に続いて、剥がれの原因となる不要膜を除去できる薬液を用いて、不要膜のみを完全に除去する不要膜除去工程と、その後、前記ウェハー表面保護用のフォトレジストを剥離するフォトレジスト剥離工程とを有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The surface modifying method of the molded product comprising the polymer resin material includes a step of applying a coating solution containing one or more kinds of hydrophilic high polymer selected from a group of polyvinyl sulfates, polyethylene glycol and polyvinyl alcohols and a silane coupling agent on the surface of the molded product comprising the polymer resin material and drying the coating film at100°C and ≥70% humidity.例文帳に追加

高分子樹脂材料からなる成形体の表面に、ポリビニル硫酸塩、ポリエチレングリコール、及びポリビニルアルコールからなる群から選ばれる1種以上の親水性高分子と、シランカップリング剤とを含む塗布溶液を塗布し、該塗布膜を湿度70%以上、100℃以下で乾燥する工程を含むことを特徴とする高分子樹脂材料からなる成形体の表面改質方法。 - 特許庁

A second thermal oxidation film is formed even at the surface of the thin oxide film 20, and the same conditions are selected for interfaces between the first thermal oxide film and second thermal oxidation films, and the substrate to form a flat substrate having no step on the surface after the first thermal oxide film and second oxide film are removed.例文帳に追加

この第二の熱処理により薄い酸化膜20の表面部分にも第二の熱酸化膜が形成され、このとき第一の熱酸化膜及び第二の熱酸化膜の基板との界面が等しく条件を選択することによって、第一の熱酸化膜と第二の熱酸化膜を除去した後には表面には段差のない平坦な基板を形成することが可能となる。 - 特許庁

The method for manufacturing the fluorescent lamp comprises a step, which forms a fluorescent substance particle layer 3 on an inner wall surface of a translucent bulb 1 with an electrostatic coating, where the electrostatic coating is performed with a grounded conductor 2 located on the outer surface of the transparent bulb 1 and with fluorescent substance particles ejected from electrostatic coating nozzle 4.例文帳に追加

透光性バルブ1の内壁面に静電塗装法で蛍光体粒子層3を形成する工程を具備する蛍光ランプの製造方法であって、前記透光性バルブ1の外周面に接地した導体2を配置して、蛍光体粒子を静電塗装ノズル4から吐出させて静電塗装を行うことを特徴とする蛍光ランプの製造方法である。 - 特許庁

In the method for manufacturing the polarizing plate having an adhesive layer, an easy adhesive layer, and a thermoplastic resin film laminated in this order on at least one surface of a polarizer, the thermoplastic resin film is coated with an easy adhesive agent and an adhesive consecutively in this order without a drying step, and the surface coated with the adhesive and the polarizer are dried after being press-fitted to each other.例文帳に追加

偏光子の少なくとも片面に接着層、易接着層、および熱可塑性樹脂フィルムがこの順で積層された偏光板の製造方法であって、熱可塑性樹脂フィルムに易接着剤、接着剤を乾燥工程なくこの順で連続的に塗工し、この接着剤塗工面と偏光子を圧着後乾燥する偏光板の製造方法。 - 特許庁

A semiconductor device manufacturing method includes a step of irradiating a proton several times from either one of main surfaces of a p-type wafer 15 while changing acceleration energy, forming proton injection regions 24 with different depths so as to be linked from the one main surface to the other main surface, and then forming an n-type isolation layer 25 by donating the proton injection regions 24 via heat treatment.例文帳に追加

p型ウエハ15のいずれか一方の主面からプロトンを複数回、加速エネルギーを変えて照射し、深さの異なるプロトン注入領域24を、前記一方の主面から他方の主面にかけて繋がるように形成し、その後、熱処理によりドナー化することによりn型分離層25を形成する工程を有する半導体装置の製造方法とする。 - 特許庁

In a step of anode-bonding a glass substrate 35 to the surface of a silicon wafer 32 with a plurality of ink channel patterns 31 produced, an ink channel formed therebetween is maintained in a state opened to the atmosphere via a through hole 41 formed on the silicon wafer 31 and communication grooves 42, 43 formed on an electrode glass substrate 33 laminated on the rear surface of the silicon wafer 32.例文帳に追加

複数のインク流路パターン31が作り込まれたシリコンウエハ32の表面にガラス基板35を陽極接合する工程では、これらの間に形成されるインク流路は、シリコンウエハ32に形成されている貫通穴41およびシリコンウエハ32の裏面に積層されている電極ガラス基板33に形成されている連通溝42、43を介して、大気開放状態に保持される。 - 特許庁

The water-repellent elastic body composition 10 is produced by the method of production including the step of covalently bonding the molecule 14 for forming a water-repellent coating to the surface of the inorganic filler 12 exposed to the surface of an elastic body formed product 13 formed in a predetermined shape by mixing a resin 11 having elasticity with the inorganic filler 12 to form the water-repellent coating 15.例文帳に追加

撥水性弾性体組成物10は、弾性を有する樹脂11と無機充填剤12とを混合し所定の形状に成形した弾性体成形物13の表面に露出した無機充填剤12の表面に撥水性被膜形成分子14を共有結合させ、撥水性被膜15を形成する工程を有する製造方法により製造される。 - 特許庁

The curb 3 buried in the boundary between the sidewalk and the carriageway is continually cut by a rotary cutting blade 7 of a cutter 6, and an inclined surface 8 is formed at the corner of the curb 3, thereby eliminating the step corresponding to the height of the curb 3 between the sidewalk 2 and the carriageway 1.例文帳に追加

切削装置6を使用して、歩車道境界上に埋設した縁石3を切削装置6の回転切削刃7で連続的に切削し、縁石3の角部に傾斜面8を形成して、車道2と歩道1との間には縁石3の高さだけの段差を無くす。 - 特許庁

To provide a container for housing piezoelectric vibrator which can prevent an adhesive agent from spilling to a step section on which a piezoelectric vibrator in the container is mounted and on a top surface of an insulated board to which a cover is joined, and which can normally activate the piezoelectric vibrator housed therein.例文帳に追加

容器内部の圧電振動子を載置する段差部間や蓋体が接合される絶縁基体上面への接着剤の流出を防止し、内部に収容する圧電振動子を正常に作動させることが可能な圧電振動子収納用容器を提供すること。 - 特許庁

In the second step, a laser light L3 with an ultrashort pulse of 1 to 1,000 fs in an ultraviolet range is used as a predetermined light L, and a boundary surface between the semiconductor layer 3 and the transparent substrate 2 is abraded, so as to easily separate the transparent substrate 2 from the semiconductor layer 3.例文帳に追加

第2工程は、所定の光Lとして、紫外領域の1fs〜1000fsの極短パルスのレーザ光L3を用いて、半導体層3と透明基板2との界面をアブレーション加工することにより、透明基板2を半導体層3から容易に分離することができる。 - 特許庁

An exterior front cover is provided with a slanted surface or a step difference on its end face opposed to a cosmetic cover and with a manually detaching means on an end face opposed to the cosmetic cover, so that a user can hold and remove it with spaces provided on the left and right sides.例文帳に追加

外装に備えられた前面カバーの飾りカバーと対向する端面に斜面、又は段差を設け、一方飾りカバーの対向する端面に手で着脱する為の手段を施し、左右に空間を設け人間が保持して着脱できる構造とする事により達成される。 - 特許庁

To provide a method for producing toner by polymerization method using a stirring blade of such optimum shape as to produce a circulating flow rate sufficient to prevent the formation of a thermal distribution in a stirring tank in a polymerization reaction step and as not to cause a vortex or suction of bubbles from a liquid surface.例文帳に追加

重合反応工程において撹拌槽内に熱的分布を生じない十分な循環流量を生じ、かつボルテックスや液表面からの気泡の巻き込みなどを生じないような最適な形状の撹拌翼を用いる重合法トナーの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The method for producing the short fiber-containing rubber includes a step for kneading a mixed material containing the short fiber having the surface covered with a process oil and/or a plasticizer, and obtained by kneading the process oil and/or the plasticizer with the short fiber in a closed kneader, and the base rubber by the closed kneader.例文帳に追加

プロセスオイル及び/又は可塑剤と短繊維とを密閉式ミキサーで混練して、プロセスオイル及び/又は可塑剤で表面被覆された短繊維と、ベースゴムとを含む混練材料を密閉式混練機により混練する工程を備える短繊維含有ゴムの製造方法。 - 特許庁

The method comprises: a film deposition process for depositing an SiC epitaxial film 2 on an off-cut SiC single crystal substrate 1; and a heating process for reducing crystal defects by heating the deposited SiC epitaxial film 2 so as to generate step bunching 3 on the surface of the SiC epitaxial film 2.例文帳に追加

オフカットされたSiC単結晶基板1上にSiCエピタキシャル膜2を成膜する成膜工程と、SiCエピタキシャル膜2を加熱することでSiCエピタキシャル膜2の表面にステップバンチング3を発生させて結晶欠陥を減少させる加熱工程とからなる。 - 特許庁

To form a common electrode with high precision in a liquid crystal display panel with a system which has the common electrode for each pixel solidly formed on a principal surface of an insulating substrate, and has a comb-shaped pixel electrode arranged on the common electrode via an insulating film, without using sputter deposition and a photolithography step.例文帳に追加

絶縁基板の主面に、画素毎にべた形成した共通電極を有し、その上に絶縁膜を介して櫛歯状の画素電極を設ける形式の液晶表示パネルにおける当該共通電極を、スパッタ成膜とホトリソ工程を用いずに高精度に形成する。 - 特許庁

The side wall of the step of the semiconductor device constituted of the principal surface and side wall of the device is etched, by controlling an impressing direction of a magnetic field or impressing directions of a magnetic field and an electric field upon etching species and by utilizing the reaction between the etching species and side wall.例文帳に追加

主表面と側壁とから構成される段差を有する半導体装置の段差の側壁を、エッチング種に磁界又は磁界と電界の印加方向を制御すること、エッチング種と側壁の反応を利用することで、エッチングすることにより上記課題を解決する。 - 特許庁

A liner (a sealant) is provided on the metal cap, and a secondary lining step can be dispensed with by using the resin-covered metal sheet having a seal portion of a predetermined shape designed for the sealing effect after the manufacture on the surface as a material for manufacturing the cap.例文帳に追加

金属製キャップにはライナー(密封材)が付与されるが、キャップ製造用の素材として、表面に製造後の密封効果を目的として設計された特定の形状のシール部を有する樹脂被覆金属板を用いることにより、二次的に行われているライニング工程を省くことができる。 - 特許庁

When pixels are formed on a substrate with partitions for partitioning a surface of the substrate into many regions, by applying ink between the partitions, an initial ink hardening step of hardening the ink by heating the substrate and exposing the substrate to UV is interposed between steps of applying the ink by the inkjet printer, to make the pixels flat.例文帳に追加

多数の領域に区分けする隔壁を有する基板にインクジェット印刷装置にて隔壁内にインクを塗工することにより画素を形成する際に、基板の加熱とUV露光による初期インク硬化工程をインクジェット塗工の間にはさむことで画素が平坦となる。 - 特許庁

Curing systems 20 are provided which include a planar support surface 22 for supporting a substrate 24 having at least one layer 26, at least one curing device 28 for curing the at least one deposited layer, and a control system 32 for controlling the overall curing step.例文帳に追加

少なくとも1つの堆積層26を有する基板24を支持する平坦な支持面22と、少なくとも1つの堆積層26を硬化させる少なくとも1つの硬化装置28と、全体的な硬化過程を制御する制御システム32とを含む硬化システム20が提供される。 - 特許庁

The method for manufacturing a droplet ejection head comprises a step of spray coating the nozzle plate surface before a nozzle 33 for ejecting droplets is formed with a water repellent containing a solvent and a fluororesin to form a coating film 48, wherein the solvent has a boiling point of 120°C or higher.例文帳に追加

液滴を吐出するためのノズル33を形成する前のノズルプレート表面に、溶剤とフッ素樹脂とを含む撥水剤をスプレー塗布して塗膜48を形成する塗布工程を有し、前記溶剤の沸点が120℃以上であることを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a ceramic heater having excellent productivity capable of forming a laminate by screen printing without thinning of a printing element formed at a stepwise part even by screen printing a printing surface having a step and having excellent productivity.例文帳に追加

段差のある印刷面にスクリーン印刷を施しても、この段差部分に形成した印刷体の細りが発生したり、スクリーンが破損したりすることがなく積層体をスクリーン印刷にて形成することができ、生産性に優れるセラミックヒーターの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for producing a fiber, capable of preventing the reduction of the yield and the quality of the product caused by the influence of solid salt deposits derived from a neutralizing agent remaining on the surface or in the inside of the fiber in a drying step of the fiber produced by a wet spinning method; and to provide a method for producing the fiber.例文帳に追加

湿式紡糸法により製造される繊維の乾燥工程において、繊維表面あるいは内部に残留する中和剤由来の固形塩堆積物の影響による歩留まりの低下や製品品位低下を防止し得る繊維の製造装置および製造方法提供する。 - 特許庁

A plurality of protrusive step-shaped swirling current generating portions 6, which generate the swirling current in wastewater flowing into the drain outlet 1 via the garbage collecting member 3, are formed on the top surface of the flange member 2 in such a shape as to be curved almost like a spiral bevel gear in a view from immediately above them.例文帳に追加

このゴミ捕集用部材3を介して上記の排水口1に流れ込む排水に渦流を起こさせる凸段差状の渦流発生部6を、上記のフランジ部材2の上面に、真上から見てほぼ曲がりば傘歯車状に湾曲して複数形成する。 - 特許庁

To provide a chassis frame and body construction capable of restraining growth of a step difference due to a floor side member on a floor surface of a car room without using a spacer even in extending the floor side member on the vehicle cabin side of a floor panel and arranging a member to reinforce the floor side member at an effective position.例文帳に追加

フロアパネルの車室側にフロアサイドメンバを延設しても、スペイサを用いることなく車室の床面にフロアサイドメンバによる段差が生じることを抑制することができ、かつフロアサイドメンバを補強する部材を効果的な位置に配置することが可能な車体構造を提供する。 - 特許庁

Therefore, the step 14d formed between the press-fitting part 14b and the fixed part 14c is locked to each corner of the assembling hole 13d while the press-fitting part 14b is projected to the surface side of the plate 13b, thus preventing the lip 14a from slipping off from the assembling hole 13d.例文帳に追加

これにより、圧入部14bがプレート部13bの表面側へ突き出た状態で、圧入部14bと固定部14cとの間に形成された段差14dが組付け孔13dの角部に係止されることにより、組付け孔13dからリップ部14aが外れることを防止できる。 - 特許庁

The semiconductor package heat sink 1A is a heat sink 10 for the flat oblong semiconductor package and has a recessed portion 15 on one surface thereof, a step portion 18a provided on the internal side wall of the recessed portion, a plated portion 50 plating the whole internal bottom 16 of the recessed portion 15.例文帳に追加

平面矩形状の半導体パッケージ用放熱板10であって、一面に設けた凹部15、前記凹部の内側壁部に設けた段差部18a、及び前記凹部15の内底面部16の全面に施されためっき部50、を有する半導体パッケージ用放熱板1Aとする。 - 特許庁

To improve the throughput of removal of foreign particles in a hole or in a wiring trench which are adhered at the time of etching or resist removal, and to remove an oxide film on the surface of lower wiring which is exposed from the hole or the wiring trench with respect to a method for manufacturing a semiconductor device including a cleaning step.例文帳に追加

洗浄工程を含む半導体装置の製造方法に関し、エッチング時やレジスト除去時に付着したホール内又は配線溝内の異物除去のスループットを向上するとともに、ホールや配線用溝から露出した下側配線表面の酸化膜を除去すること。 - 特許庁

In the second step, the fiber reinforced resin layer 21 is induction-heated by arranging an induction heating coil 40 on the outer circumference of the fiber reinforced resin layer 21 around the axis of the container 20 and moving the induction heating coil 40 along the surface of the fiber reinforced resin layer 21 in the axial direction of the container 20.例文帳に追加

第2の工程では、内容器20の軸周りの繊維強化樹脂層21の外周に誘導加熱コイル40を配置し、当該誘導加熱コイル40を繊維強化樹脂層21の表面に沿って内容器20の軸方向に移動させて、繊維強化樹脂層21を誘導加熱する。 - 特許庁

This plasma processing apparatus includes a quartz plate 3 transmitting the microwave, a base 13 of aluminum supporting the quartz plate 3, and a step 17 that is formed in an inward direction on an under surface of the quartz plate 3 and formed at a position separated from the contact of the base 13 and the quartz plate 3.例文帳に追加

このプラズマ処理装置は、該マイクロ波を透過させる石英板3と、該石英板3を支持するアルミニウム製のベース13と、該石英板3の下面に内向きに形成され且つ該ベース13と該石英板3との接点から離れた位置に形成された段差17と、を具備するものである。 - 特許庁

To provide a new supporting structure for a shield having effects on the security of shock absorbing properties and aerodynamic characteristics and good comfortableness to wear, further suppression of a wind noise with a traveling wind and prevention of falling off of the shield due to a step part thereof caught with a road surface, or the like even if overturn is caused.例文帳に追加

ヘルメットの衝撃吸収性と空力特性及び良好な被り心地を確保した上で、走行風による風切り音の抑制と、万一の転倒の際、シールド等の段差部が路面等に引っ掛って脱落することを防ぐ効果のある新規なシールドの支持構造の提供。 - 特許庁

The rod 16 is attached with a snap ring 39 for preventing slipping-out of the wear ring 37, by arranging a cross-sectional circular arc-shaped engaging groove 38 in a position opposed to an under surface of its wear ring 37 in a state of allowing the wear ring 37 to abut on a step part arranged in an intermediate part in the longitudinal direction of its rod 16.例文帳に追加

ロッド16には、そのロッド16の長さ方向の中間部に設けた段部にウエアリング37が当接する状態で、そのウエアリング37の下面と対向する位置に断面円弧状の係合溝38を設け、ウエアリング37を抜止めするサークリップ39を取付ける。 - 特許庁

To provide a drill-punched waste suction device which sucks the drill-punched waste occurring in a drilling step using a drill punch, to prevent the waste from spattering on the cut surface of a cut object, and reduces the labor and cost for cleaning the waste, and also to provide a cutter having the suction device.例文帳に追加

ドリルポンチによる穿孔工程において発生する抜き屑を吸引し、被裁断物の裁断面にこの抜き屑が散乱することを防止し、抜き屑を清掃するための手間とコストを低減することが可能なドリルポンチ抜き屑吸引装置及びこれを備えた裁断機を提供する。 - 特許庁

To propose an advantageous method of manufacturing a laminated wafer without causing not only flaws on a surface in the stop of the grinding at the oxygen ion implanted layer and further the non-uniform thickness of the top layer in the vicinity of the outer peripheral portion of the wafer in the stop of the grinding or the step of the etching at the oxygen ion implanted layer, when laminateing is performed.例文帳に追加

貼り合わせに際し、酸素イオン注入層で研磨Stopする際の表面傷、さらには酸素イオン注入層で研磨StopまたはエッチStopする際のウェーハ外周部近傍におけるTop層の膜厚不均一を生じることのない貼り合わせウェーハの有利な製造方法を提供する。 - 特許庁

Ribs 38 which extend in the moving direction of the light blocking lid 15 closing an aperture 13 formed on the film bag 4 are provided at both the edges of the light blocking lid 15 and a reception surface which is close to a step is provided in a groove 43 of a movement passage 44 for the light blocking lid 15 which is formed on a bag main body.例文帳に追加

フイルムバック4に形成されたアパーチャー13を塞ぐ遮光蓋15の両側縁に、遮光蓋15の移動方向に沿って延びたリブ38を設け、バック本体に形成された遮光蓋15の移動通路44の溝43に前記段差に近接する受け面を設ける。 - 特許庁

To perform polishing having a small step and no scratch scar, by improving an optical characteristic of a polishing end surface using a polishing sheet and a polishing liquid having a combination having a high polishing characteristic and by setting a return loss to be not more than -57 dB, further about -65 dB, when an optical fiber ferrule is finished and polished.例文帳に追加

光ファイバーフェルールの仕上げ研磨において、研磨特性に優れた組み合わせの研磨シートと研磨液を使用して研磨端面の光学特性を向上し、リターンロスが−57dB以下、さらには−65dB程度となり、かつ段差が小さくスクラッチ傷のない研磨が行えるようにする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a stencil mask and a method of cleaning the stencil mask by which the variation of the position or dimension of the pattern of a stencil mask can be prevented by controlling the surface tension of a cleaning liquid in a cleaning step in which the position or dimension of the pattern is possibly varied.例文帳に追加

ステンシルマスクのパターンの位置や寸法が変動する可能性が高い洗浄工程において、洗浄液の表面張力を制御することにより、パターンの位置や寸法の変動を防止したステンシルマスクの製造方法および洗浄方法を提供する。 - 特許庁

After a wooden decorative material 2 such as a veneer and a sliced veneer is stuck on the surface of a base material 1 with an adhesive 4, a synthetic resin layer 3 is formed on the decorative material 2 and successively, specified regions k on the end edge parts of the base material 1 are cut to form thin thickness parts L and step parts 1b.例文帳に追加

基材1の表面に単板やつき板等の木質の化粧材2を接着剤4で貼着した後、化粧材2の上に合成樹脂層3を形成し、続いて基材1の端縁部の所定領域kを切削し薄肉部Lと段部1bとを形成する。 - 特許庁

例文

When the travel guide deck 21 is driven by a driving mechanism 30, a front end of the travel guide deck 21 moves up and down, and a step between the front end of the travel guide deck 21 and a floor surface 18a of the container 18 is eliminated when loading and unloading the a load in the container 18.例文帳に追加

走行案内台21を駆動装置30によって駆動すると、走行案内台21の先端部は上下方向に移動し、コンテナ18内に荷物を積み卸しする際に、走行案内台21の先端とコンテナ18の床面18aとの間の段差が無くなる。 - 特許庁




  
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