「surface steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To manufacture a vertical boat for heat treatment which can avoid generation of a surface defect called a slip in heat treatment steps of semiconductor substrate (silicon wafer) oxidization, CVD, annealing, etc.例文帳に追加

半導体基板（シリコンウェーハ）の酸化、CVD、アニール等の熱処理工程のいてスリップと呼ばれる表面欠陥の発生のない縦型熱処理用ボートを作成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the mattery goes via the steps of forming the protruding part on the surface of the mixture layer; and simultaneously pressurizing the protruding part and the mixture layer.例文帳に追加

その製造方法は、合剤層表面に凸部を形成する工程と、前記凸部と前記合剤層とを同時に加圧する工程とを経ることを特徴とする。 - 特許庁

Protrusions 4, steps 20 or grooves 6 are provided along peripheral edges of a substrate 1 on the outer sides of a region where the alignment layer 3 is provided on the surface of the substrate 1.例文帳に追加

基板１の表面上における配向膜３が設けられた領域よりも外側に、基板１の周縁に沿って、突起４または段差２０もしくは溝６を設ける。 - 特許庁

To provide a wheelchair, easily operated to facilitate going up steps and an attachment for the wheelchair, fitted to the wheelchair to facilitate going up to the upper step surface of the step.例文帳に追加

操作容易で段差を容易に上ることができる車椅子、及び、車椅子に取り付けて段差の上段面へ上がりやすくする車椅子用アタッチメントを提供する。 - 特許庁

To provide a method of embedding an underground pipe by which the underground pipe can be embedded in a short time at a low cost without damaging anything like steps in a housing site, a floor surface, a stone wall or plants.例文帳に追加

宅地内の階段や床面や石垣，植木等を何ら傷付けることなく、短時間で、低コストで地中管を埋設できる地中管埋設工法を提供する。 - 特許庁

To form a glass ceramic body which is easily cleanable, is smooth in spite of no need for additional manufacturing process steps, such as polishing and coating, and therefore has an easy-to-clean surface.例文帳に追加

清掃（掃除）が簡単で、研磨や被覆等の付加的製造工程を要せずとも円滑な、従って清掃が容易な面の備わるガラスセラミック体を作成する。 - 特許庁

The first tip face S14 is set at a forward position separated by a prescribed distance H from the surface S3 of the stamper 32 and forms steps on the surfaces of the disk substrates along with molding.例文帳に追加

第１の先端面Ｓ１４は、スタンパ３２の面Ｓ３より所定の距離Ｈだけ前方に設定され、成形に伴ってディスク基板の面に段差を形成する。 - 特許庁

To provide a surface treating device for a magnetic tape, capable of improving a yield by batch-processing without increasing the number of steps even for a wide tape.例文帳に追加

幅広のテープ幅であっても工程数を増やすことなく一括処理することによって、歩留まりを向上させることができる磁気テープの表面処理装置を提供する。 - 特許庁

The method also comprises the steps of applying a predetermined release force to the foamed sheet cushion, and separating the sheet cushion in which the first fastener member 22 is embedded, from the surface fastener 21 fixed to the mold.例文帳に追加

発泡したシートクッションに所定の剥離力を加えて、金型に固定された面ファスナー21から第１ファスナー部材22が埋設されたシートクッションを分離する。 - 特許庁

One side of the triangular pole of the structure 1 serves as the standard side of flat surface whereas each of the other two 3 and 4 has one or more steps.例文帳に追加

充填用繊維構造体１は三角柱の一つの側面が基準面２として面一に形成され、他の二つの側面３，４が段差を有するように形成されている。 - 特許庁

A touch sensor 3 is attached to the lower part of the inner wall surface of a bathtub 2, and the number of steps counted by the touch sensor 3 is displayed on a liquid crystal display panel 7.例文帳に追加

浴槽２の内壁面の下部にタッチセンサー３が取り付けられており、タッチセンサー３によってカウントされた歩数が液晶表示パネル７に表示される。 - 特許庁

To provide a method for producing a forming die made of concrete capable of preventing air bubbles in concrete from appearing on the fabrication surface and reducing a work term with a reduced number of working steps.例文帳に追加

コンクリート内の気泡の成形加工面への表出を防止し少ない作業工程数で工期を短縮できるコンクリート製成形型の製造方法を供する。 - 特許庁

The manual focusing ring 61 is pressed forward by a second web washer 65, and the rear end surface of a roller driving ring 63 is faced to the small size part of an idle roller with steps with a specified interval.例文帳に追加

マニュアルフォーカス環は、第２ウェーブワッシャにより前方に付勢され、ローラ駆動環の後端面と段付アイドルローラの小径部とは所定の間隙をもって対峙している。 - 特許庁

The method for manufacturing the pattern sheet comprises the steps of forming a partition wall 11 by the protrusion of a predetermined pattern on the surface of a base 10, and thereby forming liquid reservoirs 12 corresponding to ink layers of RGB of three colors.例文帳に追加

基体１０表面に所定パターンの凸部による隔壁１１を形成することにより、ＲＧＢ３色のインク層に対応する液溜まり部１２を形成する。 - 特許庁

The dilator has a passage through the full length to accept a guiding member, and a leading edge 2 of the distal end 3 at the patient side of the dilator shifts without steps against the surface of the guiding member.例文帳に追加

拡張器にわたる通路は、誘導部材を受け入れ、拡張器の患者側末端３の先端２は、誘導部材の表面に対して段のない移行を行う。 - 特許庁

The apparatus for manufacturing the semiconductor comprises the steps of detecting the foreign matter on the rear surface of the semiconductor wafer before exposing by the exposure device, deforming a semiconductor wafer supporting part of a stage of the exposure device, and exposing the wafer.例文帳に追加

露光装置により露光する前に半導体ウエハー裏面の異物を検出し、露光装置のステージの半導体ウエハー支持部分を変形させ露光を行う。 - 特許庁

In the thickness increasing steps, the outside peripheral surface of the metallic material 10 is bound by means of a press die so as not to deform the outside peripheral shape of the metallic material 10.例文帳に追加

前記増厚工程において、金属素材１０の外周形状が変形しないように金属素材１０の外周面をプレス型によって拘束する。 - 特許庁

The outer circumferential surface of a packaging part 131a is formed by forming the packaging part 131a and a smaller diameter leg part 122 in separate steps during cold forging.例文帳に追加

冷間鍛造加工時に包み部１３１ａと小径脚部１２２を別工程で加工することにより、包み部１３１ａの外周面をダイ２３により成形可能にしている。 - 特許庁

A method for forming the lens surface comprises the steps of inserting a core 24 led out from an end of an optical fiber 23 into a connector body 22, and filling a resin material 25 in its core site to embed the core 24.例文帳に追加

光ファイバ２３の端部から導出されたコア２４をコネクタ本体２２に挿入しそのコア部位に樹脂材２５を充填してコア２４を埋設する。 - 特許庁

To provide a method of marking a semiconductor wafer, which never has adverse influences on wafers under manufacturing and is hardly influenced by surface treatments applied in semiconductor wafer manufacturing steps.例文帳に追加

製造途中のウエハに悪影響を及ぼさず、かつ、半導体ウエハ製造の各工程で施される表面処理による影響を受けにくいマーキング方法を提供する。 - 特許庁

Discontinuities in the polymer coating on the top surface of the web of foil are automatically detected so that remedial steps can be taken to avoid processing defective sections of the web.例文帳に追加

フォイルのウェブの上面における重合体被覆の不連続は、ウェブの欠陥区分の処理を避けるために矯正段階が取られる如く、自動的に検出される。 - 特許庁

A device of this invention includes an impeller, which has vanes 5, 6 forming two pressure steps and directed in the radial direction and a circular disk 3 provided on each side surface.例文帳に追加

本発明による装置は、２つの圧力ステップを構成する、径方向に向いた羽根（５）および（６）を各側面上に備えた円形ディスク（３）を有するインペラを含む。 - 特許庁

The method comprises the steps of coating a thermoforming type fluororesin dispersion liquid, forming a fluororesin film on the surface, heating to provide an overheating state, and creating a void in the fluororesin film.例文帳に追加

熱成形型のフッ素樹脂分散液を塗布し、表面にフッ素樹脂皮膜を形成し、さらに加熱して過熱状態とし、フッ素樹脂皮膜に空隙を生じさせる。 - 特許庁

In steps S1-S4, the 3D surface data of the object are generated for each pair of adjacent subjects among plural subjects provided from different viewpoints.例文帳に追加

ステップＳ１〜ステップＳ４において、異なる視点から得られる複数の被写体画像の隣り合う被写体画像のペア毎に被写体の３次元表面データを生成する。 - 特許庁

The self-standing mesoporous carbon thin film having the regular mesoporous structure wherein mesopores are opened in the vertical direction to the film surface is obtained by combining following steps.例文帳に追加

下記工程を組み合わせることにより得られ、メソ細孔が膜面に対して垂直な方向に開口した規則的メソ多孔体構造を有する自立メソポーラスカーボン薄膜。 - 特許庁

The recess forming process comprises two steps of a step for digging each recess by dry etching, and a step for removing a surface deterioration layer of each recess inner wall, by wet etching using an acid.例文帳に追加

凹部形成工程は、ドライエッチングにより凹部を掘り下げるステップと、酸を用いたウエットエッチングにより凹部内壁の表面変質層を除去するステップの２段階からなる。 - 特許庁

This anticorrosion treatment method comprises the steps of: forming a dense oxidized layer with a thickness of 5 to 20 nm on the surface of aluminum or the aluminum alloy; and then forming a barrier-type anodic oxide coating.例文帳に追加

アルミニウム又はアルミニウム合金の表面に厚さ５〜２０ｎｍの緻密な酸化層を形成し、その後、バリア型陽極酸化処理をすることを特徴とする。 - 特許庁

A manufacturing method includes the steps of: bringing an acidic solution containing an oxidant into contact with the surface of the steel sheet; holding the steel sheet for 1-60 s after the contact treatment; washing the steel sheet with water; and drying the steel sheet.例文帳に追加

鋼板表面に、酸化剤を含有する酸性溶液を接触させ、接触処理終了後1〜60秒間保持した後、水洗・乾燥を行う。 - 特許庁

The connection part has: a third planar gear 53, in which surface structures 53a inclined in the rotation axis direction have steps and are formed radially; a fourth planar gear 62 which abuts on a plurality of surfaces 53a of the third planar gear 53, and has a surface structure 62a hooked to the steps; and a spring 56 biasing the link part.例文帳に追加

接続部は、回転軸方向に傾く面構造５３ａが段差を有して放射状に形成される第３平面状歯車５３と、第３平面状歯車５３の複数の面５３ａに当接するとともに、段差に引っ掛かる面構造６２ａを有する第４平面状歯車６２と、連結部を付勢するばね５６とを有する。 - 特許庁

The method comprises the steps of forming a surface layer of Si dope without affecting a device characteristic even though VI element such as Se attaches on the surface of an epitaxial by memory effect, or removing the surface in a very high Se concentration caused by the memory effect before proceeding to a device forming process.例文帳に追加

エピタキシャル表面にメモリー効果でＳｅ等のＶＩ族元素が付着しても、デバイス特性に影響を与えないＳｉドープの表面層を形成するか、メモリー効果によって表面のＳｅ濃度が非常に高くなっていても、その部分をデバイス作成プロセスに入る前に予め除去する。 - 特許庁

Subsequently, the Si wafer surface is coated with an oxide film to form an Si wafer with oxide film prior to the final polishing stage (S107) and then a surface of the oxide film is planarized, to obtain a planar substrate (Si substrate with oxide film) having no steps on the surface thereof (S108).例文帳に追加

そして、最終研磨段階に先立って予めＳｉウェハ表面を酸化膜で被覆して酸化膜付きＳｉウェハとし（Ｓ１０７）、この酸化膜表面を平坦化することで表面に段差のない平坦な基板（酸化膜付きＳｉ基板）を得ている（Ｓ１０８）。 - 特許庁

The method for treating a metal surface comprises the steps of forming a copper-plating layer 2 having a thickness of 50 to 2,000 μm on the surface, subjecting the layer 2 to predetermined machining, and forming a predetermined metal-plated layer 4 such as a nickel-plated layer, a chromium- plated layer or the like on the surface 21 of the cut layer 2.例文帳に追加

金属表面１に５０μｍ〜２０００μｍの厚膜の銅メッキ層２を形成し、この銅メッキ層２に所定の切削加工を施し、切削加工を施した銅メッキ層２の表面２１にニッケルメッキ層、クロムメッキ層等の所定の金属メッキ層４を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming a recess 2a on the surface of the GaAs active layer 2, then forming an organic film 10a made of, for example, a dioctyl phthalate on the entire surface, and coating on the exposed surface of the GaAs active layer.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、ＧａＡｓ活性層２の表面にリセス部２ａを形成した後、表面全面にたとえばジオクチルフタレートよりなる有機皮膜１０ａを形成してＧａＡｓ活性層２の露出面を被覆することを特徴とする。 - 特許庁

Disclosed is a method for etching the surface of an aluminum-based member obtained by casting and/or forging an aluminum-based material with a surface treatment liquid of pH ≤3 comprising inorganic acid, and includes feeding steps 2, 11 feeding F ions and alkali metal ions into the surface treatment liquid.例文帳に追加

酸エッチング方法は、アルミニウム系材料を鋳造及び／又は鍛造してなるアルミニウム系部材の表面を、無機酸を含むｐＨ３以下の表面処理液で酸エッチングする方法であり、Ｆイオンとアルカリ金属イオンとを上記表面処理液に供給する供給工程２，１１を含む。 - 特許庁

The method comprises steps of forming complexes of the metal existing on a surface of the semiconductor substrate 12 and cyanide ions by bringing the surface of the substrate 12 into contact with a solution 11 comprising the cyanide ions, and removing the solution 11 from the surface of the substrate 12.例文帳に追加

半導体を含む基板１２の表面をシアン化物イオンを含む溶液１１に接触させることによって、基板１２の表面に存在する金属とシアン化物イオンとの錯体を形成する工程と、基板１２の表面から溶液１１を除去する工程とを含む。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes the steps of: forming a substrate layer comprising a TiW film on a surface of an insulating layer including a fine shape after forming the insulating layer having the fine shape on a substrate surface; and forming a wiring layer comprising a tungsten film on a surface of the substrate layer.例文帳に追加

本発明は、基板表面に、微細形状を有する絶縁層を形成した後、この微細形状を含む絶縁層表面に、ＴｉＷ膜からなる下地層を形成する工程と、下地層の表面に、タングステン膜からなる配線層を形成する工程とを含む。 - 特許庁

A forming method of a silicon nitride film for forming the silicon nitride film on a surface of a workpiece forms a seed layer which serves as a seed of the silicon nitride film on the surface of the workpiece using at least aminosilane-based gas before forming the silicon nitride film on the surface of the workpiece (steps 2 to 4).例文帳に追加

被処理体の表面上に窒化シリコン膜を成膜する窒化シリコン膜の成膜方法であって、窒化シリコン膜を被処理体の表面上に成膜する前に、少なくともアミノシラン系ガスを用いて、被処理体の表面上に窒化シリコン膜のシードとなるシード層を形成する（ステップ２〜４）。 - 特許庁

This method includes the steps of regulating the figure of the molding tool 120 to have a predetermined mold surface 122, then applying an attenuating coating 124 to the predetermined mold surface 122 and removing the attenuating coating 124 while leaving the predetermined mold surface 122 with metal ions implanted therein.例文帳に追加

この方法は、所定の成型面１２２を有するように成型ツール１２０を形状規定、減衰コーティング１２４を所定の成型面１２２に塗布、および金属イオンが内部に注入された所定の成型面１２２を残して減衰コーティング１２４を除去の各ステップを含む。 - 特許庁

A method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming an insulating film 3 on an overall rear surface of a substrate 1, and then forming a metal electrode 4 on the overall surface of the film 3 to form a capacity C1 made of the substrate 1, the film 3 and the electrode 4 on the overall rear surface of a semiconductor chip SC.例文帳に追加

基板１の裏面全面に絶縁膜３を形成し、次いで絶縁膜３上の全面に金属電極４を形成することにより、基板１、絶縁膜３および金属電極４からなる容量Ｃ１を半導体チップＳＣの裏面全面に形成する。 - 特許庁

This manufacturing method comprises the steps of: continuously forming the surface-plating layer formed from tin or a tin alloy on the surface of a tape of a substrate made from an electroconductive metal, while moving the tape in a longitudinal direction; and heating the tape by irradiating the surface-plating layer with a laser beam while subsequently moving the tape in the longitudinal direction.例文帳に追加

基材である導電性金属からなるテープを長手方向に移動させながらその表面にスズ又はスズ合金からなる表面メッキ層を連続的に形成し、引き続きテープを長手方向に移動させながら表面メッキ層にレーザー光線を照射して加熱する。 - 特許庁

The method further comprises the steps of providing a resin-coating layer on one side surface of the base paper, providing an ink accepting layer containing inorganic fine particles and a hydrophilic binder on an opposite surface, forming the image on the ink accepting layer, and then providing a transparent resin protective layer on the image forming surface.例文帳に追加

また、基紙の片面に樹脂被覆層を設け、反対面に無機微粒子と親水性バインダーを含有するインク受容層を設け、インク受容層に画像形成後、画像形成面に透明樹脂保護層を設けることを特徴とするインクジェット記録材料の画像形成方法。 - 特許庁

The method for electrically insulating the surface of the powder particle of the magnetic conductor comprises the steps of: coating the surface of the powder particle of the magnetic conductor with a perhydropolysilazane solution; and oxidizing a resultant coating at room temperature to form a silica film on the surface of the conductor particle.例文帳に追加

磁性導電体粉末粒子表面をペルヒドロポリシラザン溶液に被覆させる工程と、その結果として形成された被膜を常温で酸化させて前記導電体粒子表面にシリカ膜を形成する工程とで磁性導電体粉末粒子の電気絶縁を行う。 - 特許庁

The construction method of the paving material comprises steps of spreading and leveling the drying and solidification accelerating material (lower layer) on a soil foundation, spreading and leveling the reinforced foundation material (intermediate layer) to be compacted and sprayed with water, and spreading and leveling the surface paving material to be roller compacted and surface finished for forming a pavement surface.例文帳に追加

施工方法は、土砂の基盤に当該乾燥固化促進材（下層）を敷き均し，その上に当該基盤強化材（中層）を敷き均し、締め固め・散水する工程と、当該表面舗装材を敷き均し、転圧、表面仕上げを行い、舗装面を形成する。 - 特許庁

A gliding surface 10 equipped with steps in the radial direction is provided outside in radial direction of the tilting segment 5 and arranged able to be fastened to two fastening positions by displacing manually the fastening surface 11 of the fastening sleeve 6 installed in such a way as to suit the gliding surface 10.例文帳に追加

傾動セグメント５の半径方向外方に半径方向に段差を付けた滑動面１０を設け、滑動面１０に適合するように設けた、係止スリーブ６の係止面１１を手動で変位することで、滑動面１０を２個の係止位置に係止可能とする。 - 特許庁

This method comprises the steps of forming the resist pattern on a surface of the glass substrate, charging a surface of the resist pattern to an electrically positive polarity, and irradiating gas cluster ion beams onto the glass substrate and the surface of the resist pattern to remove the development residue of the resist pattern.例文帳に追加

ガラス基板の表面にレジストパターンを形成する工程、前記レジストパターンの表面を電気的に正極性に帯電する工程、及び前記ガラス基板及びレジストパターンの表面にガスクラスターイオンビームを照射して、前記レジストパターンの現像残渣を除去する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁