「thermal processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a drill for cast iron processing capable of having a long life by considerably reducing thermal stress generated in the drill, processing with high efficiency at high cutting velocity, and further performing dry machining or semi-dry machining with less damages for the environment in the drilling of cast iron.例文帳に追加

鋳鉄の穴明け加工において、ドリルに発生する熱的応力を大きく低減することで、ドリルの長寿命化ができ、または高い切削速度での高能率な加工ができ、さらには環境への負荷が少ないドライ加工やセミドライ加工を行うことのできる鋳鉄加工用ドリルを提供する。 - 特許庁

The printer is provided with: an antenna means for sending an electromagnetic wave for generating a power; a data transmission/reception means for transmitting/receiving the data with the external device; a central arithmetic processing means for processing the data; and a thermal head means for additionally writing or rewriting the image data by heating, and for recording the image data on the print sheet.例文帳に追加

プリンタ装置は、電力を発生させるための電磁波を送出するアンテナ手段と、外部装置とデータの送受信をするデータ送受信手段と、データの処理を行う中央演算処理手段と、加熱により画像データを追記又は書き換えて印刷シートに記録するサーマルヘッド手段と、を有する。 - 特許庁

To provide a technique capable of setting a developing condition, a reading condition and an image data processing condition optimized to difference in the processability (negative film state) of negative films according to classification in simplification of a developing condition, particularly in adoption of thermal development or un-desilvering processing, whereby a high quality digital image data is obtained.例文帳に追加

現像処理条件の簡易化、とりわけ熱現像処理や未脱銀処理とすることに伴うネガフィルムの種別毎の処理性（ネガフィルム状態）の違いに最適化させた現像処理条件、読み取り条件、画像処理条件とを設定することが出来、高画質なデジタル画像データが得られる技術を明らかにする。 - 特許庁

After a thin film 2 is formed of an organic material on a substrate 1 and a portion of the thin film to be removed is irradiated with laser light to perform pattern processing by thermal abrasion, the entire surface on which the lasers abrasion is carried out is subjected to ashing processing 8 to form a pattern from which even a remaining film 7 is also efficiently removed.例文帳に追加

基板１上に有機材料からなる薄膜２を形成し、その薄膜のうち除去すべき部分にレーザー光４を照射して熱アブレーションによるパターン加工を行った後、レーザーアブレーションが施された表面全面にアッシング処理８を施すことにより、残膜７も効率的に除去されたパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a method of removing, from hydrocarbon processing equipment, hydrocarbon foulants including heavy oil, tars, asphaltenes, polycyclic aromatic hydrocarbons, coke, polymers, light oil, oxidized hydrocarbon, thermal decomposition products and the like, which are to be deposited onto metallic surfaces of columns, vessels, lines, and overheads in a hydrocarbon processing plant.例文帳に追加

炭化水素処理プラントの塔、導管、管路、オーバーヘッドほかの金属表面に堆積する重油、タール類、アスファルテン類、多環芳香族炭化水素類、コークス、ポリマー類、軽油、酸化炭化水素、熱分解産物類等を含む炭化水素汚染物質を炭化水素処理装置から除去する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of patterning a dielectric film which allows patterning and reduces or fully removes a residue after etching paste thermal treatment, by etching the dielectric film having such a thickness not capable of being etched in single etching paste processing through simple processing using the etching paste to form a patterned film.例文帳に追加

一度のエッチングペーストによる処理ではエッチングできない程度の厚さを有する誘電体膜を、エッチングペーストを用いた簡単な処理でエッチングしてパターニングを形成できるとともに、エッチングペーストの熱処理後に発生する残渣を低減もしくは完全に除去できる誘電体膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminate capable of reducing or preventing microcracks to be generated at the interface of a reinforcing base material and a matrix resin at the time of application of a thermal shock or mechanical processing and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

熱的衝撃負荷時あるいは機械的加工負荷時に補強基材とマトリクス樹脂の界面に発生するマイクロクラックを低減あるいは防止することのできる積層体およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To keep the appearance and designability of a product good by eliminating thermal damage applied to the ultrasonic welding point of the product in a method and apparatus for joining two parts by ultrasonic processing.例文帳に追加

超音波加工により２部品を接合する超音波溶着方法並びに超音波溶着装置において、製品の超音波溶着ポイントに加わる熱的ダメージを排除することにより、外観意匠性を良好に保つ。 - 特許庁

To provide a mounting structure which is advantageous to a reduction in thickness and is capable of reducing the number of processes, a manufacturing lead time, a material cost, a processing cost, and a repair cost; is resistant to shock stress and thermal stress; and is capable of improving a reliability and a quality and facilitates a repair work.例文帳に追加

薄型化に有利であり、作業工程、製造リードタイム、材料コスト、加工コスト、修理コストを低減でき、衝撃ストレス、熱的ストレスに強く、信頼性、品質の向上が期待でき、修理が容易にできる。 - 特許庁

To provide a stencil mask which holds a prescribed strength and effectively avoids deforming due to a thermal stress, even if the mask is made fine and as a thin film, and has a pattern having a precise processing accuracy.例文帳に追加

微細化され且つ薄膜化されたステンシルマスクに於いても、所定の強度を保持すると同時に熱応力による変形を有効に防止すると共に、精密な加工精度を有するパターンを有するステンシルマスクを提供する。 - 特許庁

To quickly heat an optical waveguide at excellent thermal efficiency in relation to an optical device and an optical device unit which are constructed so as to vary the optical function by applying heat processing to the optical waveguide.例文帳に追加

本発明は光導波路に対し加熱処理を行なうことにより光学的機能を変化させる構成とされた光デバイス及び光デバイスユニットに関し、光導波路を急速かつ熱効率よく加熱することを課題とする。 - 特許庁

To provide a vinylidene fluoride based laminated resin film which has conductivity in a surface layer, excels in weather-proofness, workability with a substrate such as adhesiveness, and thermal processing nature, and is useful for a surface protective film of a steel sheet or a decorative sheet.例文帳に追加

表面層に導電性を有し、耐候性に優れ、かつ基材との接着性等の加工性に優れ、熱加工性に優れる、鋼鈑や化粧シートの表面保護フィルムに有用なフッ化ビニリデン系樹脂積層フィルムを提供する。 - 特許庁

To obtain a vinyl chloride resin composition having a little increase of torque, excellent in processability and thermal coloration resistance, and especially useful for hard extrusion or inkjet processing which is carried out under heavy process conditions by formulating a specific compound to a vinyl chloride resin.例文帳に追加

トルクの上昇が小さく、加工性、耐熱着色性に優れ、特に、過酷な加工条件下に曝される硬質の押出し加工あるいはインジェクション加工用途に適用できる塩化ビニル系樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A temperature of the laser light permeation center o of protection glass 5 attached in a head housing 10 as the laser processing head 1A is measured, and a monitoring mechanism capturing the thermal lens phenomenon of the protection glass 5 is added on the basis of the measurement value.例文帳に追加

レーザ加工ヘッド１Ａとして、ヘッドハウジング１０内に装着された保護ガラス５のレーザ光透過中心部ｏの温度を計測し、この計測値に基づいて保護ガラス５の熱レンズ現象を捉えるモニタリング機構を付属する。 - 特許庁

In executing the software control processing, a control system corresponding to the combination of a portion on which the thermal error is generated and the sort of the application in operating is acquired from a reaction table 118 and the software is controlled by the acquired control system.例文帳に追加

ソフトウェア制御処理を行うのにあたっては、サーマルエラーが発生した部位、および動作中のアプリケーションの種別の組合せに応じた制御方式をリアクションテーブル１１８から取得して、取得した制御方式で制御する。 - 特許庁

To provide glass paste which can realize a coating film having a reflectance with less variation even after execution of coating and thermal treatment and which can offer a pattern with less variation in its bottom width when using the glass paste as an underlying layer in pattern processing by a photolithographic method.例文帳に追加

塗布、加熱処理を行った後も塗布膜の反射率のばらつきが少なく、フォトリソグラフィ法によりパターン加工を行う際の下地層として用いた場合に、パターンの底部幅のばらつきの少ないガラスペーストを提供する。 - 特許庁

A heating section for heat-treating an exposed substrate is provided in a development processing block 4, thus preventing thermal influence to the projection aligner STP by interposing an interface block 5 between the heating section and the projection aligner STP.例文帳に追加

露光された基板を加熱処理する加熱部を現像処理ブロック４に設けることにより、この加熱部と露光装置ＳＴＰとの間にインターフェイスブロック５を介在させて、露光装置ＳＴＰに熱的影響が及ばないようにする。 - 特許庁

To provide a wiring board incorporating an electric element of a structure that the electrical connection of thermal electrodes on the electric element with wiring circuit layers and via hole conductors in the wiring board can be modified without processing via holes, and to provide a method of manufacturing the wiring board incorporating the electric element.例文帳に追加

電気素子の端子電極と配線基板の配線回路層やビアホール導体と、ビアホールを加工することなく電気的接続を改善できる電気素子内蔵配線基板およびその製法を提供する。 - 特許庁

To raise reliability to thermal stress and a heat cycle and enable etching processing to be applied to the formation of a circuit pattern, and reduce a manufacturing cost in a ceramic circuit board formed by joining a ceramic substrate and a metallic circuit board.例文帳に追加

セラミックス基板と金属回路板とを接合したセラミックス回路基板において、熱応力や熱サイクルに対する信頼性を高めた上で、回路パターンの形成にエッチング加工を適用可能にすると共に、製造コストの低減を図る。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition excellent in thermal stability in molding processing and giving molded products causing ductile fracture by impact and excellent in flexibility and weather resistance, and to provide molded products comprising the thermoplastic resin composition.例文帳に追加

成形加工時の熱安定性に優れ、衝撃により延性破壊となり、柔軟性、耐候性に優れた成形品を与える熱可塑性樹脂組成物、並びに、この熱可塑性樹脂組成物からなる成形品を提供する。 - 特許庁

This planetary gear transmission includes a considerably large clearance to cause the shaft core on a planetary gear 1 to absorb a combined error relating to processing accuracy and assembling accuracy, and a thermal expansion, rolling rings 1a and 1b for securing a rotation position, and bearing internal rings 3 and 4 at the end on the internal tooth gear side.例文帳に追加

遊星歯車の軸芯に加工精度組立精度等総合誤差及び熱膨張を吸収せしめる相当おおきな間隙を設け且つ、回転位置を確保する為の転動輪と内歯歯車側端に軌道内輪 - 特許庁

To provide a thin film resistor excellent in the specific resistance, resistance temperature characteristics, high-temperature stability, and salt water resistance even by thermal processing at relatively low temperature, a resistor material for manufacturing the same, and a manufacturing method.例文帳に追加

相対的に低い温度の熱処理によっても、比抵抗、抵抗温度特性、高温安定性、耐塩水性のいずれにも優れた薄膜抵抗器、およびその製造のための抵抗体材料および製造方法を提供する。 - 特許庁

Precipitation quantity is controlled by the nitrogen quantity of the nitride gas contained in the ambient gas of RTA (Rapid Thermal Annealing) processing, wherein the nitride gas is in the range of 0.05% or more and less than 0.5%, or more than 1 sccm (standard cubic centimeter per minute) and 10 sccm or less.例文帳に追加

ＲＴＡ処理における雰囲気ガスに含まれる窒化ガスを０．０５％以上０．５％未満、又は１ｓｃｃｍを越えて１０ｓｃｃｍ以下の範囲として、この窒素量により析出量をコントロールする。 - 特許庁

By referring to an elongation ratio table 173 in which the elongation ratio of the paper by thermal fixing is stored, an RIP part 171 performs rasterize processing to a page data PD by setting the inverse of the elongation ratio of the paper as a variable power ratio.例文帳に追加

加熱定着による用紙の伸縮率を格納した伸縮率テーブル１７３を参照して、用紙の伸縮率の逆数を変倍率としてＲＩＰ部１７１がページデータＰＤに対するラスタライズ処理を行う。 - 特許庁

To provide a punching tool for processing a lead of a semiconductor device with which no diamond film is peeled even if a deformed portion of a base material which is caused by thermal expansion at forming of the diamond film is removed and adjusted to a specified dimension.例文帳に追加

ダイヤモンド膜形成時の熱膨張による基材の変形部分を除去して所定の寸法に調整しても、ダイヤモンド膜の剥離を生じさせることがない半導体装置のリード加工用パンチ工具を提供する。 - 特許庁

To provide an information recording medium which can be easily manufactured and can suppress influence of thermal disturbance in high density recording, and can store recording information for a long period of time, to provide the manufacturing method of the information recording medium and a recording medium processing apparatus.例文帳に追加

容易に製造可能な、高密度記録における熱擾乱の影響を抑制し、長期的に記録情報を保持できる情報記録媒体、情報記録媒体の製造方法、および、記録媒体処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film base material which is excellent in dimensional stability, does not occur wrinkle or the like in a thermal processing and is suitably used for a green sheet for a ceramic capacitor excellent in flatness, a transfer film, a protective film for optical use or the like.例文帳に追加

寸法安定性が良好で、熱加工時においてシワなどが発生せず、平面性が良好なセラミックコンデンサ用のグリーンシートや、転写用フィルム、光学用途のプロテクトフィルムなどに好適に使用できるフィルム基材の提供。 - 特許庁

The V-ribbed belt is constituted so that short length fibers 6a may be buried in the rubber rib 5 by processing in thermal contraction the short length fibers 6a projecting from the rubber rib surface 5a, by friction heat between the rubber rib side surface 5 and the pulley V-groove at the time of slipping.例文帳に追加

ベルトスリップ時におけるゴムリブ側面５びプーリＶ溝間の摩擦熱によりゴムリブ側面５ａに突出する短繊維６ａを熱収縮させて、該短繊維６ａがゴムリブ５の内部に埋没するように構成させる。 - 特許庁

A thermal processing apparatus 1 comprises: a cylindrical reaction tube 3; a boat 5 for loading a wafer W to hold it; a heater 2 installed at an outer periphery of the reaction tube 3; and a vacuum insulating layer formation body 10 installed at an outer periphery of the heater 2.例文帳に追加

熱処理装置１は筒状の反応管３と、ウエハＷを装填して保持するボート５と、反応管３の外周に設けられたヒータ２と、ヒータ２の外周に設けられた真空断熱層形成体１０とを備えている。 - 特許庁

When the temperature detected by all thermal detection elements constituting the infrared image sensor 9 rises substantially uniformly, the signal detecting/processing circuit 19 makes a decision that a scattering visible light entered into the sensor 9 and invalidates an acquired data.例文帳に追加

そこで、信号検出・処理回路１９は、赤外線イメージセンサ９を構成する全ての熱検知素子の検知温度が略均一に上昇したときは散乱可視光が入射したと判断して取得データを無効化する。 - 特許庁

The present invention further provides an organic polymer material composition produced by compounding an organic polymer with the stabilizer composition for organic polymer material and a stabilized organic polymer material composition having excellent thermal stability in processing, extremely useful for industrial use and produced by using the stabilizer composition as the stabilizer for the organic polymer material.例文帳に追加

本発明の安定剤組成物を有機高分子材料の安定化剤として使用することにより、加工時熱安定性に優れた、極めて工業的に有用な安定化された有機高分子材料組成物。 - 特許庁

After a Ti film 6 is formed on the semiconductor wafer 1, a first film-forming gas containing TiCl4 and NH3 as a main component is introduced into a processing chamber, a first TiN film 7 is formed on the Ti film by a thermal CVD method.例文帳に追加

半導体ウェハ１上にＴｉ膜６を成膜した後、処理チャンバ内にＴｉＣｌ_4とＮＨ_3を主成分とする第１の成膜ガスを導入し、Ｔｉ膜上に第１のＴｉＮ膜７を熱ＣＶＤ法により成膜する。 - 特許庁

Thereafter, it is heated at temperatures higher than the thermal processing temperatures, and aluminum and boron are diffused in an N-type semiconductor substrate 1 to form first and second P-type semiconductor regions 9, 10 having different impurity concentrations.例文帳に追加

しかる後、この熱処理温度よりも高い温度で熱処理してアルミニウム及びホウ素をＮ形半導体基板１内に拡散させて不純物濃度の異なる第１及び第２のＰ形半導体領域９、１０を形成する。 - 特許庁

In the voltage correction processing, print density of ink in the thermal head 20 is corrected to be constant regardless of the magnitude of supply voltage from the battery 8 in correspondence with the acquisition voltage value for voltage correction.例文帳に追加

このとき、電圧補正処理においては電圧補正用の取得電圧値に対応してサーマルヘッド２０におけるインクの印刷濃度をバッテリ８からの供給電圧の高低に関わらず一定となすべく補正を行うように制御する。 - 特許庁

To provide a system that stably carries out carbonization/combustion/gas formation and has high thermal efficiency and generating efficiency even in the case of comprising not only woody biomass but also waste-based biomass such as municipal waste in a processing object.例文帳に追加

木質系バイオマスのみならず都市ゴミのような廃棄物系バイオマスを処理対象に含めた場合にも安定して炭化・燃焼・ガス生成を行うことができ、尚かつ熱効率と発電効率の高いシステムを提供する。 - 特許庁

In the formation of the silicon nitride thin film onto the surface of the silicon wafer by the supply of a material gas to the surface of the silicon wafer heated in a reduced pressure atmosphere and by thermal decomposition, a hydrogen gas is added to a processing gas for forming the silicon nitride thin film.例文帳に追加

減圧下で加熱されたシリコンウェハ表面に原料ガスを供給し熱分解によりシリコンウェハ表面にシリコンナイトライド薄膜を形成するにあたり、シリコンナイトライド薄膜形成用の処理ガスに水素ガスを添加する。 - 特許庁

To provide a heat treatment method of a silicon wafer which is capable of suppressing worsening of surface roughness even when rapid thermal processing (RTP) is performed at a high temperature with a high void defect annihilation power and which is further capable of suppressing occurrence of a recessed pit.例文帳に追加

ボイド欠陥の消滅力が高い高温下でＲＴＰを行っても、表面粗さの悪化を抑制することができ、更に、凹形状のピットの発生も抑制することができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pilot type solenoid valve free of the influence on the sliding motions of a plunger or a valve element by engaging a guide pipe with the valve element without increasing the number of component parts or the man-hours for processing and eliminating a distortion due to thermal deformation at the time of engagement.例文帳に追加

部品点数や加工工数を増加させることなく、ガイドパイプと弁本体を締結させ、締結時の熱変形歪みをなくして、プランジャや主弁体の摺動に影響ないパイロット型電磁弁を提供する。 - 特許庁

In manufacturing the semiconductor device (e.g. ferroelectric film), for example, a film applied with a metal alkoxide used as the ferroelectric film is formed on a substrate 100, and thermal processing using a thermal source of flames of a gas burner using a mixed gas of hydrogen and oxygen as a fuel is performed to bake the film applied with metal alkoxide and to modify the ferroelectric film (metal oxide film) to be formed.例文帳に追加

半導体装置（例えば、強誘電体膜）の製造において、基板１００上に例えば強誘電体膜となる、金属アルコキシド塗布膜を形成し、水素及び酸素の混合ガスを燃料とするガスバーナーの火炎を熱源とした熱処理を施し、金属アルコキシド塗布膜を焼成するとともに、形成される強誘電体膜（金属酸化膜）の改質を行う。 - 特許庁

To effectively shield the radiation heat from an exothermic heat source so that the thermal expansion heat to a sheet film can be effectively suppressed and to perform, for example, optical processing (for example, optical transfer, exposure, etc., of an image) to the sheet film with high accuracy.例文帳に追加

発熱源からの輻射熱を有効に遮断するようにして、シートフイルムの熱膨張を効果的に抑制することができ、シートフイルムへの例えば光学的な処理（例えば画像の光学的な転写や露光等）を高精度に行う。 - 特許庁

To provide a useful film which reduces curling due to the thermal history undergone in the annealing treatment and processing steps for improving antistatic properties, the prevention of dust and the like from attaching thereto, and dimensional stability and excels in workability and the adhesion to a hard coat layer.例文帳に追加

帯電防止性、ごみ等の付着防止、寸法安定性向上のためのアニール処理や加工工程中に受ける熱履歴によるカールが少なく、作業性に優れ、ハードコート層との接着性に優れた有用なフィルムを提供する。 - 特許庁

Since the thermal electromotive force is stored after being boosted or is supplied to a processing part 9, the electromotive voltage of the thermoelectric element 10 can be set low so that the number of semiconductor units composing the thermoelectric element 10 is reduced.例文帳に追加

熱起電力を昇圧してから蓄積する、あるいは処理部９に供給することにより、熱電素子１０の起電圧を低く設定することができるので、熱電素子１０を構成する半導体ユニットの数量を低減できる。 - 特許庁

The heated and fused colored opaque glass 10 is cooled in contact with the transparent glass 20 in a solidified state, the colored opaque glass 10 is solidified to be layered and integrated and in that case, thermal tempering processing is performed.例文帳に追加

加熱し溶融した前記着色不透明ガラス１０を固化状態の前記透明ガラス２０に接触させた状態で冷却し、前記着色不透明ガラス１０を固化することにより積層して一体化し、その際に熱強化処理とする。 - 特許庁

To provide a heating assembly which is used for rapid thermal processing a semiconductor substrate, hardly deteriorated in performance even when operated in a vacuum, and capable of keeping an optimal output in accordance with controlling a substrate temperature much better.例文帳に追加

半導体基板の急速熱処理で使用される加熱アセンブリであって、真空中で動作した場合であってもヒータアセンブリの劣化がなく、基板の温度をよりよく制御しながら最適の出力を維持できる加熱アセンブリを提供する。 - 特許庁

By providing the non-adhesive resin 12 between the capacitor element 10 and the lid prepreg 13b, a tension stress can be prevented from being applied on the capacitor element 10 when thermal stress such as reflow processing is applied, and an increase in ESR is prevented.例文帳に追加

コンデンサ素子１０と蓋状のプリプレグ１３ｂとの間に非接着性樹脂１２を設けることで、リフロー等の熱ストレス時において、コンデンサ素子１０に引っ張り応力が加わることを抑制でき、ＥＳＲの増大を防止する効果がある。 - 特許庁