「whole step」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

An injection rate of a resin is brought into 1.2 cm^3/sec or more when filling a cavity CV, and the resin is thereby prevented from being solidified under the condition where the resin is not filled sufficiently into micro-fine structure SS corresponding to the ring-band-like step difference structure over the whole of the cavity CV.例文帳に追加

キャビティＣＶの充填時の樹脂の射出率を１．２ｃｍ^３／ｓｅｃ以上とするので、キャビティＣＶの全体にわたって輪帯状の段差構造に対応する微細構造ＳＳに樹脂が十分入りきらない状態で固化することを防止できる。 - 特許庁

The semiconductor package heat sink 1A is a heat sink 10 for the flat oblong semiconductor package and has a recessed portion 15 on one surface thereof, a step portion 18a provided on the internal side wall of the recessed portion, a plated portion 50 plating the whole internal bottom 16 of the recessed portion 15.例文帳に追加

平面矩形状の半導体パッケージ用放熱板１０であって、一面に設けた凹部１５、前記凹部の内側壁部に設けた段差部１８ａ、及び前記凹部１５の内底面部１６の全面に施されためっき部５０、を有する半導体パッケージ用放熱板１Ａとする。 - 特許庁

The damage given to the element by the plasma process is reduced to the utmost by reducing the density of electric charges accumulated in a gate electrode during the course of anisotropic etching performed in the LDD forming step, by forming an LDD in a state where a conductive protective film is formed to cover the whole surface of a substrate.例文帳に追加

基板全面を覆うように導電性保護膜を形成した状態でＬＤＤを形成することで、ＬＤＤ形成工程の異方性エッチングにおいて、ゲート電極に蓄積される電荷密度を低減し、プラズマによる損傷を極力低減する。 - 特許庁

To provide a rocking device in which the body can obtain rocking motion effectiveness by riding on a rocking step, wherein not only rocking motion in a conventional up and down directions but also rocking in right and left directions are also carried out and the rocking motion effectiveness is brought on the whole body with a sufficient balance.例文帳に追加

揺動する踏み台に乗って身体に揺動運動効果が得られる揺動装置に関し、従来の上下方向における揺動運動に限らず、左右方向における揺動をも実施して、全身にバランスよく揺動運動効果をもたらすようにした揺動装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the fine articles comprises the step of adding an enzyme decomposing the amphiphilic substance to the dispersing element in which fine particles stabilized by the amphiphilic substance are dispersed in a solvent, and of decomposing a part or the whole of the amphiphilic substance.例文帳に追加

両親媒性物質により安定化された微粒子が溶媒に分散してなる分散体に対し、前記両親媒性物質を分解する酵素を添加することにより、前記両親媒性物質の一部又は全部を分解する工程を含むことを特徴とする微粒子の製造方法に係る。 - 特許庁

The image processing apparatus is provided with a determination means for determining a color temperature from a white balance control state and a correction means for correcting a quantization step calculated based on a target code amount of the whole image on the basis of a determined result of the determination means.例文帳に追加

画像処理装置は、ホワイトバランス制御状態から色温度を判定する判定手段と、判定手段の判定結果に基づき画像全体の目標符号量を元に算出された量子化ステップを補正する補正手段とを備える。 - 特許庁

An ion implantation regulation step portion 14 with a predetermined thickness is formed at a film thickness variation portion 13 formed in a border region of the element separation oxide film 5 to an element formation region 6, thereby, whole region of the film thickness variation portion 13 is configured with the predetermined thickness regulating ion implantation.例文帳に追加

素子分離酸化膜５の、素子形成領域６との境界領域に形成される膜厚変化部位１３に所定の厚さのイオン注入規制段部１４を形成することにより、膜厚変化部位１３が全域に亘りイオン注入を規制する所定の厚みで構成されるようにする。 - 特許庁

The temperature rise ranging over the whole circumferential direction is leveled by forming a step-cut part in an iron core thereby reducing the temperature rise in the circumferential position, where the current phase of the coil of the axial end inside the stator iron core changes.例文帳に追加

固定子鉄心の内径側軸方向端部のコイル電流位相が変化する周方向位置において、鉄心に段落し部を形成することによりその位置での温度上昇を低減し、周方向全体にわたる温度上昇を平均化する。 - 特許庁

During the online stage, the parts of an object are searched not in the whole image but in a limited part of a parameter space defined by the relation among the object parts in the hierarchical model that facilitates an efficient search and eliminates the need for a subsequent validity inspection step.例文帳に追加

オンライン段階中には、物体の部分は全体イメージ中ではなく、効率的な検索を容易にしてその後の妥当性検査ステップを不要にする階層型モデル内の物体部分間の関係によって定義される、パラメータスペースの制限された部分でのみ検索される。 - 特許庁

The system avoids the false convergence in an echo canceller, having an adaptation step size controlled to allow a set of filter tap values to converge and having an adaptive filter to estimate a channel response over a whole operation frequency range.例文帳に追加

１組のフィルタタップ値が集束できるように制御された適応ステップサイズを備え、動作周波数範囲全域にわたってチャネル応答を推定する適応フィルタを有するエコーキャンセラにおいて，誤集束を回避するシステム。 - 特許庁

After a step of forming a gate electrode 3 of a MOS transistor, a silicon oxide film 2 having a film thickness of 400 nm or more is formed on the whole surface of a wafer, and ion implantation 6 is performed through the silicon oxide film 2 to form an offset drain region.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタのゲート電極３形成工程後に、膜厚が４００ｎｍ以上のシリコン酸化膜２をウェハ全面に形成し、シリコン酸化膜２上からイオン注入６をすることによりオフセットドレイン領域を形成する。 - 特許庁

After a sheet 16 is stuck to the whole surface of a semiconductor Si wafer 11 on the pattern forming side, chemical etching is performed to the no-pattern forming side (rear surface side) of the Si wafer 11 to the bottom face of a step 15 formed by performing reactive ion etching.例文帳に追加

半導体Ｓｉウエハ１１のパターン形成側全面に、シート１６を貼り付けた後、半導体Ｓｉウエハ１１の非パターン形成側（裏面側）に対して、リアクティブイオンエッチングを行って形成した段差１５の底面までケミカルエッチングを行う。 - 特許庁

When an element 21, a Hall element, is formed on a slope 16a having a large step, an n-type impurity ion is implanted on the whole surface of the substrate 12 from an oblique direction in parallel with or having a sharp angle β° with the slope 16a by the use of the oblique ion implantation.例文帳に追加

段差の大きな斜面１６ａ上にホール素子であるエレメント２１を形成する際に、斜めイオン注入法を用い、斜面１６ａに対して平行か又は鋭角の角度β゜を成すように斜め方向から、基板１２全面にＮ形不純物イオンを注入する。 - 特許庁

Here, the step of forming the thin film layer having different thicknesses includes steps of forming a thin film layer having a uniform thickness as a whole on the silicon wafer and etching the thin film layer successively to form the thin film layer having different thicknesses corresponding to the plurality of U-shaped grooves.例文帳に追加

ここで、相異なる厚みを持つ前記薄膜層を形成する工程は、前記シリコンウェーハに全体的に均一な厚みの薄膜層を形成する工程と、該薄膜層を順次に食刻して前記複数のＵ溝に対応して相異なる厚みを持つ前記薄膜層を形成する工程とを備えるものである。 - 特許庁

In the step, according to grain size composition data in different positions upstream of the dam, the total ratio of each grain size in each of the positions is calculated and the ratio of the total value to the whole is calculated to produce a natural grain size composition, which is stored in the storage part 15.例文帳に追加

この処理では、ダムの上流側の各位置における粒度組成のデータから、各粒径に関して各位置における割合を合計し、その合計値の全体に対する割合を計算し、自然な粒度組成として記憶部１５に記憶する。 - 特許庁

Thereby, as the output grayscale value of at least one sub-pixel has the different step width of the grayscale value from the grayscale values of the other sub-pixels, by combining grayscales of the plurality of sub-pixels, multi-grayscale display becomes possible by increasing the number of grayscale which is displayed as one whole pixel.例文帳に追加

これにより、少なくとも当該１つのサブピクセルの出力階調値は、他のサブピクセルの出力階調値とは異なる階調値の刻み幅を有するので、それら複数のサブピクセルの階調組み合わせにより、１画素全体として表示できる階調数を増加させ、多階調表示を可能とする。 - 特許庁

After the releasable wafer 12 is obtained by separating the wafer 13 from the thin film 17 on the whole surface of the ion-implanted region 13b so that no step may be formed in the periphery of the wafer 12, a regenerated wafer 32 is obtained by polishing the separation surface 12a of the wafer 12.例文帳に追加

周囲に段差が生じないようにイオン注入領域１３ｂの全面で半導体ウェーハ１３を薄膜１７から分離して剥離ウェーハ１２を得て、剥離ウェーハ１２の分離面１２ａを研磨して再生ウェーハ３２を得る。 - 特許庁

This method has a circulation heating step 22 for heating the whole furnace to a temperature sufficiently higher than an evaporating temperature of moisture and not oxidizing/coloring the heated object, while circulating an inert gas in the furnace in a state of closing the furnace door as a pre-process or a post-process of the vacuum heat treatment 21 of the treated object.例文帳に追加

被処理物の真空熱処理２１の前工程及び／又は後工程として、炉扉を閉じたままで炉内に不活性ガスを循環させながら炉内全体を水分の蒸発温度よりも十分高く被処理物が酸化・着色しない温度まで加熱する循環加熱ステップ２２を有する。 - 特許庁

At least one RF radiation pulse is applied and then, a phase encoded inclining magnetic field pulse and a read-out inclining magnetic field pulse are applied and a step for detecting m pieces of nuclear magnetic resonance signals (echos) is repeated to obtain the whole echos necessary for reconstitution of an MR image.例文帳に追加

少なくとも一つのRF照射パルスを印加し、ついで位相工ンコード傾斜磁場パルスと読み出し傾斜磁場パルスを印加しｍ個の核磁気共鳴信号(エコー)を検出するステップを繰り返し、MR画像再構成に必要な全エコーを取得する。 - 特許庁

To provide a lighting device or the like capable of downsizing iron core of a transformer without deteriorating transformer efficiency by suppressing occurrence of magnetic saturation of a step-up transformer occurring with the passage of lighting time at the time of blink-dimming lighting, and thereby capable of downsizing the whole device.例文帳に追加

点滅調光点灯させた際に点灯時間の経過とともに生じる昇圧トランスの磁気飽和の発生を抑制することによって、トランス効率を落とすことなくトランス鉄芯の小型化を可能にし、装置全体を小型化することができる放電ランプの点灯装置等を提供する。 - 特許庁

A circular step part 22, projecting toward one side of axial direction L1 where the inner peripheral edge 31 and the peripheral edge 21 are overlapped, are formed at the sites arranged adjacent to the inner peripheral edge 31 (deforming end part) in a radial direction R2 on whole circumference of the peripheral edge 21 (fixing end part).例文帳に追加

外周端部（固定用端部）２１の全周には、内周端部（変形用端部）３１に対して径方向内方Ｒ２に隣接して配置された部位に、内周端部３１を外周端部２１に重ねた軸方向一方側Ｌ１へ突出する円環状段部２２が形成してある。 - 特許庁

When performing an adjustment using the tracking error signal as the index in starting the optical disk device, the optical disk device turns off automatic gain control of the tracking error signal (refer to Step S130) in the adjustment of the whole recording layers of the optical disk.例文帳に追加

光ディスク装置は、光ディスク装置の起動時にトラッキングエラー信号を指標とする調整を行うときには、光ディスクの全記録層での調整において、トラッキングエラー信号の自動利得制御をＯＦＦ状態にする（ステップＳ１３０参照）。 - 特許庁

For this reason, whether or not an amendment that changes special technical features of the inventions is determined based on whether or not all of the inventions that were examined in terms of the requirements for patentability, such as novelty and inventive step, in the claims before the amendment and all of the inventions in the claims after the amendment meet the requirements of unity of invention as a whole. 例文帳に追加

このことから、発明の特別な技術的特徴を変更する補正であるか否かは、補正前の特許請求の範囲の新規性・進歩性等の特許要件についての審査が行われたすべての発明と、補正後の特許請求の範囲のすべての発明とが、全体として発明の単一性の要件を満たすか否かにより判断する。 - 特許庁

In addition, where two or more notices of reasons for refusal have been given before an amendment, the above determination is made based on whether all of the inventions that were examined in terms of the requirements for patentability, such as novelty and inventive step, in the first notice of reasons for refusal and all other notices of reasons for refusal given before the amendment and all of the inventions in the claims after the amendment meet the requirements of unity of invention as a whole. 例文帳に追加

また、補正前に拒絶理由通知が複数回なされている場合には、一回目の拒絶理由通知を含めその補正前までになされたすべての拒絶理由通知において新規性・進歩性等の特許要件についての審査が行われたすべての発明と、当該補正後の特許請求の範囲のすべての発明とが、全体として発明の単一性の要件を満たすか否かにより判断する。 - 特許庁

The method enables to limit the processing time and power needed for carrying out the characterization step, which only requires to examine detection windows defined by a signature of a transmitter by using sinusoidal signals, instead of mapping the whole pulse sequence by means of a correlation with expected pulses.例文帳に追加

特徴付けステップを実行するのに必要とされる処理時間及びパワーを制限することを可能にし、予想されるパルスとの相関付けによって、全パルスシーケンスをマッピングする代わりに、正弦波信号を使用することによって、送信機のシグネチャによって規定される検出窓を調べることのみを必要とする。 - 特許庁

To solve the problem with a conventional electronic tag with a structure housing a magnetic tag in a casing and equipping a contactless IC tag simultaneously, wherein the contactless IC tag is configured to be housed in the casing, so that the communication capability of the contactless IC tag is deteriorated and a work step is increased even in manufacture thereof, and further the whole configuration becomes thick and big because of the configuration itself of the casing.例文帳に追加

従来、ケーシング内に磁気式タグを収容した構造にあって非接触式ＩＣタグを同時に装備する場合、この非接触式ＩＣタグをケーシング内に入れる構成とされるため、その非接触式ＩＣタグの通信機能性が低下してしまい、また、これを製作するについても作業工程が増加してしまい、加えて、ケーシングの構成そのものから全体が厚く大きなものとなってしまうという点である。 - 特許庁

To provide a method of evaluating the cultured cells that can partially evaluate the monolayer culture step of an adhesion dependence cell and additionally can readily attain the clear apprehension of the whole culture process, a method of predicting the culture cell proliferation and a method of suitably controlling the culture cell proliferation.例文帳に追加

接着依存性細胞の単層培養過程を部分的に定量評価できるうえ、その培養過程全体を容易に把握できる培養細胞評価方法、その細胞の増殖過程を的確に予測できる培養細胞増殖予測方法、及びその細胞の増殖を適切に制御できる培養細胞増殖制御方法を提供する。 - 特許庁

A rectifying circuit 12 is connected to a relay switch 9 performing ON/OFF-control and a step-down transformer 11 from a three-phases AC power source 10 of a supply source of charging voltage, so that a DC voltage output therefrom may form charging voltage source of the whole battery voltage.例文帳に追加

充電電圧の供給源である３相交流電源１０からオン・オフ制御を行うリレースイッチ９および降圧用のトランス１１を介して整流回路１２が接続され、そこからの直流電圧出力がバッテリ全電圧の充電電圧源を構成すべくバッテリ１の両端電極に接続する。 - 特許庁

The lid block 3 includes the first upper surface 11 constructing the drainable pavement on the whole surface, the second upper surface 12 formed by providing a step section 13 to a position higher than the first upper surface 11 and without constructing any drainable pavement and a collecting hole 14 communicated with the first upper surface 11 and the drain 21 inside of the side ditch.例文帳に追加

蓋ブロック３は、排水性舗装が全面に施される第１の上面１１と、この第１の上面１１よりも高い位置に段差部１３を設けて形成され、排水性舗装が施されない第２の上面１２と、第１の上面１１と側溝１内部の排水路２１とを連通する集水孔１４とを有する。 - 特許庁

The induction of an immunological response against pathologic microorganisms includes a step of administration of a whole microbiological bacterial composition including inactivated pathogenic microorganisms by infection of a bacteriolysis deficit bacteriophage to a subject liable to be influenced by infectious disease due to pathogenic microorganisms, wherein the administration is carried out at an effective amount inducible of immunogenic response to the pathogenic microorganisms in a host.例文帳に追加

病原菌に起因する疾患による感染の影響を受けやすい対象に、溶菌欠損バクテリオファージの感染により無力化された病原菌を含む全菌体細菌組成物を投与する段階を含み、該投与は宿主において病原菌に対する免疫応答を誘発するのに効果的な量で行い、病原菌に対する免疫応答を誘発する。 - 特許庁

In new creation processing of a medium production support system 1, as a first step of supply processing, a terminal 3 requires a server 2 to supply product information and layout information according to an advertisement template 23, the server 2 supplies the information (S101) allowing the terminal 3 to create a layout file 25 (S102) to display a whole layout screen 27 (S103).例文帳に追加

媒体制作支援システム１は、新規作成処理では、第１段階の流し込み処理として、端末３がサーバ２に対してカンバンテンプレート２３に従った商品情報およびレイアウト情報の流し込みを要求し、サーバ２が流し込みを行い（Ｓ１０１）、端末３がレイアウトファイル２５を作成し（Ｓ１０２）、全体レイアウト画面２７を表示する（Ｓ１０３）。 - 特許庁

To provide a square paper cup less easily deformed on the whole with a top curl portion forming a straight portion largely reinforced as a flange in a general flange-pressing step which is a method of forming the flange by squeezing the top curl portion by using the heat, the ultrasonic wave, etc., for reinforcement to form the flange without any problems in forming the square paper cup.例文帳に追加

角型紙カップの成型加工上問題がなく、さらに、トップカール部を熱、超音波などを用いて押しつぶして強化してフランジ部を形成する方法である一般的なフランジプレスの加工工程で直線部となるトップカール部がフランジ部として大きく強化され、全体として変形の起きにくい角型紙カップを提供することである。 - 特許庁

In this parallel imaging method, the whole sensitivity image is deformed using a function for recessing in the phase encoding direction, whereby weighting for extrapolation of background area of a sensitivity distribution is converted to reflect the characteristics of the central part of the sensitivity distribution of each coil strongly on extrapolation to improve S/N after matrix calculation and restrain step of S/N.例文帳に追加

パラレルイメージング法において、全体感度画像を位相エンコード方向に凹型となる関数を用いて変形することにより、感度分布の背景領域の外挿を行うときの重み付けを変換し、各コイルの持つ感度分布の中心部の特徴を外挿に強く反映させることによって、行列演算後のＳ／Ｎを改善すると共にＳ／Ｎの段差を抑制する。 - 特許庁

In the step, if the CPU 101 determines that the parameter is added, the processing order of the electronic document data is processed in page serial, and if determining that the parameter is not added, the CPU 101 switches a drawing processing method to whole page set processing for the processing order of the electronic document data (S606-S608).例文帳に追加

ここで、パラメータが付加されているとＣＰＵ１０１が判断した場合は、電子文書データの処理順序をページシリアルで処理させ、パラメータが付加されていないと判断した場合は、電子文書データの処理順序を全ページ一括処理させるように描画処理方法を切り替える（Ｓ６０６〜Ｓ６０８）。 - 特許庁

The manufacturing method has steps (S101, S102) of forming etching grooves XX on boundary lines between semiconductor chips CP from the main surface of a semiconductor wafer WF, for example in a former process, and a back-grinding step (S1042) as a subsequent process of grinding the whole rear surface of the semiconductor wafer WF to the etching grooves XX.例文帳に追加

例えば、前工程プロセスにおいて、半導体ウエハＷＦの主面から各半導体チップＣＰ間の境界ラインにエッチング溝ＸＸを形成し（Ｓ１０１，Ｓ１０２）、次いで後工程となるバックグラインド工程において、半導体ウエハＷＦの裏面全体をエッチング溝ＸＸに到達するまで研削する（Ｓ１０４２）。 - 特許庁

Then, the client computer determines whether rotational printing is executed or not on every page data based on the amount of driving the ink corresponding to respective partitioned regions, and changes a result of determination related to the rotational printing determined to the whole page data included in the printing data based on the result of determination on the rotational printing to respective page data, to the same content of determination (step S303).例文帳に追加

次いで、クライアントコンピュータは、各区分領域に対応するインク打ち込み量に基づいて、ページデータ毎に回転印刷を実行するか否かを決定し、各ページデータに対する回転印刷の決定結果に基づいて、印刷データに含まれる全ページデータに対して決定された回転印刷に係る決定結果を同一の決定内容に変更する（ステップＳ３０３）。 - 特許庁

In the method for producing a polyphenylene sulfide by reacting an alkali metal sulfide with a dihaloaromatic compound at a temp. of 200°C or higher but lower than 290°C in an organic amide solvent in the presence of a polymerization assistant, the water content in at least a part of the whole polymerization step is set in a specified range and the ratio of the amount of water to that of the polymerization assistant is specified.例文帳に追加

有機アミド溶媒中で、重合助剤の存在下、アルカリ金属硫化物とジハロ芳香族化合物とを２００℃以上２９０℃未満の温度範囲内で反応させてポリフェニレンスルフィドを製造する方法において、全重合工程の少なくとも１部分における水分量を特定の範囲にするとともに、水分量と重合助剤量を特定の割合に規定する。 - 特許庁

A whole device can be stably installed and the lubricant can be uniformly applied by installing on an upper surface of a step 1 a base part 9 provided with a spacer 9a to incline a storage part 6 so that the lubricant is sprayed in the vicinity of a center position in the height direction of a bottom surface of the storage part of the spray 5.例文帳に追加

スプレー５の収納部底面に高さ方向中央位置近傍に噴射されるよう前記収納部６を傾斜させるスペーサ９ａを設けたベース部９をステップ１上面に敷設することにより装置全体を安定した状態で設置できムラなく均一に潤滑剤を塗布することができる。 - 特許庁

The method enables to limit the processing time and power needed for carrying out the characterization step, which only requires to examine detection windows defined by the signature of a transmitter, by using the sinusoidal wave signals, instead of mapping the whole pulse sequence by means of a correlation with expected pulses.例文帳に追加

本発明による方法は、特徴付けステップを実行するのに必要とされる処理時間およびパワーを制限することを可能にし、予想されるパルスとの相関付けによって、全パルスシーケンスをマッピングする代わりに正弦波信号を使用することによって、送信機のシグネチャによって規定される検出窓を調べることのみを必要とする。 - 特許庁

To provide a die cooling method and a die cooling device which can detect troubles such as the clogging of cooling hoses and breakage of core pins at an early stage independently for each cooling passage and also almost over the whole process in a casting step, even if there are many cooling passages for circulating cooling water and purge air therethrough.例文帳に追加

冷却水及びパージエアが流通する冷却通路が多数あっても各冷却通路毎に独立して且つ鋳造工程のほぼ全ての工程にわたって、冷却ホースの詰まりや鋳抜きピンの損壊等のトラブルを早期に検出することが可能な金型冷却方法及び冷却装置を提供。 - 特許庁

This designing method for a housing for electronic equipment calculates the relation between a prescribed frequency and the radiating quantity of radio waves by computer simulation, while changing the resistance value of a terminating resistance, until the quantity of radio waves becomes equal to the case of the matched resistance value of the terminating resistance or optimum as the electronic equipment as a whole (step S1 to S3).例文帳に追加

電子機器用筐体の設計方法では、電波量が終端抵抗の整合抵抗値の場合と同等、または電子機器全体として最適となるまで、終端抵抗の抵抗値を変化させながら、コンピュータ・シミュレーションにより所定の周波数と電波の放射量の関係を求める（ステップＳ１〜Ｓ３）。 - 特許庁

In a step A2, a circuit simulator 13 performs DC analysis of the whole semiconductor integrated circuit based upon the net list to calculate operation points thereof, and performs AC analysis of all nodes included in the semiconductor integrated circuit in sequence based upon the operation points and the net list to output impedance information on each node to an impedance determination unit 14.例文帳に追加

ステップＡ２では、回路シミュレータ１３は、ネットリストを基に、半導体集積回路の全体について、ＤＣ解析を行うことにより、その動作点を算出し、その動作点とネットリストを基に、半導体集積回路に含まれる全てのノードについて、順次、ＡＣ解析を行うことにより、各ノードのインピーダンス情報をインピーダンス判定器１４に出力する。 - 特許庁

Since the flow is efficiently convected in straightening like this, after nitrogen is dissolved in the melt liquid near the gas/liquid interface, the melt liquid can be rapidly supplied in the whole growing vessel, and a step-flow growth occurs on the growing surface of the seed crystal substrate and a flat and smooth nitride single crystal of good quality is formed.例文帳に追加

このように、整流でかつ効率よく対流させることができるため、気液界面付近で窒素を融液に溶解させた後に、その融液を育成容器の全体にすみやかに供給することができ、種結晶基板の育成面にステップフロー成長がおこり、品質の良い平滑な窒化物単結晶が形成される。 - 特許庁

Timing adjustment using the clock signal as a reference is executed in a signal path of the reset signal based on a set-up time and a holding time of the reset signal specified to the reset input terminal of the circuit block (step S30), in supervising hierarchical design for designing the whole of the semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路の全体を設計する上位階層設計において、回路ブロックのリセット入力端子にそれぞれ規定されるリセット信号のセットアップ時間およびホールド時間に基づいて、リセット信号の信号パスに対してクロック信号を基準としたタイミング調整を実施する（ステップＳ３０）。 - 特許庁

The method enables to limit the processing time and power needed for carrying out the detection step, which only requires to scan detection windows defined by the signature of a transmitter, by using the sine wave signals for the correlation with an expected pulse instead of mapping the whole pulse sequence.例文帳に追加

本発明による方法は、検出ステップを実行するのに必要とされる処理時間およびパワーを制限することを可能にし、予想されるパルスとの相関付けによって、全パルスシーケンスをマッピングする代わりに正弦波信号を使用することによって、送信機のシグネチャによって規定される検出窓を調べることが必要とされるだけである。 - 特許庁