「ベースライン」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

ベースラインスキャンＢが終了した後、領域に造影剤が到達したか否かを検出するための造影剤到達検出スキャンＣが実行され、断面に造影剤が到達したと判断されたら、本スキャンＤを開始すると決定する。例文帳に追加

After the baseline scan B ends, a contrast medium arrival detection scan C for detecting whether or not the contrast medium has arrived at the area is executed, and if it is decided that the contrast medium has arrived at the area, it is determined that an actual scan D will be started. - 特許庁

モニタリングされた生体情報を個人のベースライン状態と比較して、その逸脱度合を元に、個人の業務負荷や健康状態を可視化し、コミュニケーションを円滑化するための負荷モニタリング用ネームプレートシステムを提供する。例文帳に追加

To provide a load-monitoring name plate system for smoothing communication by comparing monitored bioinformation with a baseline state of an individual and visualizing a business load or a health condition of the individual based on a deviation degree thereof. - 特許庁

血流の速度計測等を用いた定量的解析において、前方方向及び後方方向のうちのいずれを選択するかについて、ドプラ波形の表示スケールを制御するためのベースラインと、操作者が任意に位置設定可能な基準線との位置関係に応じて判定する。例文帳に追加

In the quantitative analysis using blood flow velocity measurement and the like, whether to select the forward direction or reverse direction is determined in accordance with the positional relationship between a baseline for controlling the display scale of a Doppler waveform and a reference line which can be arbitrarily set by an operator. - 特許庁

バイスタティック受信局Ｒは、送信局Ｔと受信局Ｒとで定まるベースラインＢＬの両側の２個の円弧状のデュアルドップラー解析範囲を１台の受信機で観測する２面切換アンテナＡＴａ及びＡＴｂを有する。例文帳に追加

The bistatic receiving station R has the two-plane switching antenna ATa and ATb for observing by one receiver, two arc-shaped dual Doppler analysis ranges on both sides of a base line BL determined by the transmitting station T and the receiving station R. - 特許庁

ベースライン補正された周波数領域のＭＲＳデータ解析のめのフィッティング処理時間を短縮しかつフィッティング精度を向上したＭＲＳ計測および計測されたＮＭＲのスペクトルデータを処理，解析する機能を備えたＭＲＩ装置を提供する。例文帳に追加

To provide an MRI apparatus or a magnetic resonance imaging apparatus which reduces the time required for fitting processing for MRS (magnetic resonance spectroscopy) data analysis of a frequency domain where a base line correction is performed and has features of MRS measurement with enhanced fitting accuracy and of the processing and the analysis of measured spectral data of NMR (nuclear magnetic resonance). - 特許庁

この反射画像４２は、カメラ１０が反射鏡２０に反射したイメージカメラ１０’の位置で撮影したのと同等の、かつ左右反転した画像であり、実画像４１に対してベースラインＢに応じた視差を有する画像になる。例文帳に追加

The reflected image 42 is a laterally inverted image, which is equal to that photographed in a position of an image camera 10' reflected on the reflecting mirror 20 by the camera 10, and which is an image having parallax, according to the base line B with respect to the real image 41. - 特許庁

静電容量検出部３が、検知電極２ａ〜２ｅと指８の間の静電容量値を検出し、近接・接触検出部４が、静電容量値とベースライン値の差分値を近接基準容量値及び接触基準容量値と比較して、指８の近接及び接触状態を検出する。例文帳に追加

A capacitance detection part 3 detects a capacitance value between detection electrodes 2a-2e and a finger 8, and a proximity/contact detection part 4 compares a difference value between the capacitance value and a baseline value with a proximity reference capacity value and a contact reference capacity value, and detects a proximity and contact state of the finger 8. - 特許庁

刺激性物質の電気生理学的評価において知覚神経線維を評価対象外の刺激要因から有効に保護し、経時的計測においてベースラインの太さを安定的に維持する神経線維保護剤組成物と、これを用いた刺激性物質の評価方法及び評価システムを提供する。例文帳に追加

To provide a nerve fiber protective agent composition which effectively protects sensory nerve fibers from irritating factors other than the objects of evaluation in electrophysiological evaluation for irritating materials, and stably retains the thickness of a base line in measurement with the lapse of time, and an evaluation method and an evaluation system for irritating materials using the same. - 特許庁

カチオン交換液体クロマトグラフィーによるヘモグロビンの測定方法において、溶離液の塩濃度をベースラインが変動しない程度に一致させ、ｐＨの変化だけでヘモグロビン類の溶出力を制御させるヘモグロビン類の測定方法。例文帳に追加

In this measuring method for hemoglobins by cation-exchange liquid chromatography, the salt concentration of an eluate is made to agree to such an extent that a baseline is not changed, and the elution force of the hemoglobins is controlled only by changing a pH value. - 特許庁

ビードベースラインＢＢＬが基準とされたトレッド端Ｔｅまでの半径方向高さＨＴに対するこのコア２２の半径方向外側面からエイペックス２４の上端２６までの半径方向高さＨＡの比ＨＡ／ＨＴは、０．３０以上０．４０以下である。例文帳に追加

The ratio HA/HT should be 0.30-0.40, including the limits, where HA is the radial direction height from the outer side face in the radial direction of a core 22 to the top 26 of the apex 24 and HT is the radial direction height to the tread end Te with the bead base line BBL used as the reference. - 特許庁

基準マーク板ＦＭには、アライメント系ＡＬＧのベースライン計測用の４つの基準マークＷＭ_１，ＷＭ_２，ＷＭ_３，ＷＭ_４の平均位置が、レチクルアライメントマークＲＭを検出する計測用パターンＳＴの位置と一致するような配置で形成されている。例文帳に追加

On a reference mark plate FM, four reference marks WM_1, WM_2, WM_3, WM_4 for measuring the base line of an alignment system ALG are disposed in such a layout that the mean position of these marks aligns with the position of a measuring pattern ST for detecting a reticle alignment mark RM. - 特許庁

タイヤ最大巾位置から前記中央面部の半径方向中間点までの半径方向距離Ｌ１を、ビードベースラインからカーカス最大高さ点までの半径方向高さＨｃの１５〜２０％、しかも前記中央面部の巾Ｗを１５〜２５ｍｍの範囲とした。例文帳に追加

A radial distance L1 from the tire maximum width position to the radially intermediate point in the central surface section is set within 15 to 20% of the radial height Hc which is the distance from a bead baseline to the maximum height position of a carcass, while the width W of the central surface section is set within a range of 15 to 25 mm. - 特許庁

前記巻上げ部１２のビードベースラインＢＬからの巻上げ高さＬｃは、タイヤ断面高さＬの６０％以下、かつ前記本体部１３の内端の巻下ろし高さＬｄは、前記ビードエーペックスゴム８の高さＬ１の６０％以下とする。例文帳に追加

A winding-up height Lc from a bead base line BL of the winding part 12 is lower than 60% of a tire cross-section height L, and a winding-down height Ld of the inner end of the main body 13 is lower than 60% of a height L1 of the bead apex rubber 8. - 特許庁

ビードベースラインが基準とされたとき、この突起２４の中心までの半径方向高さＨｃの、この側面６４の軸方向最大幅となる点までの半径方向高さＨｍに対する比（Ｈｃ／Ｈｍ）が、０．３５以上０．４５未満である。例文帳に追加

When a bead base line is made as a reference, a ratio (Hc/Hm) of the height Hc in a radial direction to the center of the projection 24 to the height Hm in a radial direction up to a point of the axially maximum width of a side surface 64 is 0.35 or more and less than 0.45. - 特許庁

レム期導出部（41）は、標準偏差算出部（35）により算出された心拍ベースラインの１０分毎の標準偏差が上位２０％となる就寝期間をレム期として導出し、レム所定期間検出部（42）は、周期成分の変化に基づいてレム期の所定期間を検出する。例文帳に追加

The REM period deriving part (41) derives a sleeping period during which the standard deviation of every 10 minutes of the heart rate baseline calculated by the standard deviation calculation part (35) becomes higher 20% as the REM period, and the REM prescribed period detection part (42) detects the prescribed period of the REM period on the basis of the change of the periodic components. - 特許庁

全時相データの処理後にラインメモリに書き込まれた累積一次元データは、最大ＰＲＦにおけるドプラ波形の実質的な幅を反映したものであり、この一次元データを表示座標に線形投射することによりベースラインのオフセット量及び最適ＰＲＦを算出する。例文帳に追加

The cumulative one-dimensional data written in the line memory after processing the whole time-phase data reflect the substantial width of the Doppler waveform in the maximum PRF and the offset quantity of the base line and the optimal PRF are calculated by linearly projecting the one-dimensional data on display coordinates. - 特許庁

スイッチ５がオフした状態でトランジスタＱ１〜Ｑ４のベースラインの電位が下がると、ツェナーダイオードＤ１のリーク電流が増大するので、ツェナーダイオードＤ１はベース電位の低下を抑えるように作用する。例文帳に追加

When the potential of the base line of the transistors Q1 to Q4 lowers under the state in which the switch 5 is turned off, the Zener diode D1 works so as to suppress the lowering of the base potential because the leakage current of the Zener diode D1 increases. - 特許庁

本発明の実施形態によって、リソグラフィ装置の性能及び／又はリソグラフィ工程のパラメータを、事前定義されたベースライン条件の実質的に近辺に維持することで、プロセスウィンドウの最適化及びより高い歩留まりが可能になる。例文帳に追加

Embodiments of the present invention enable optimized process windows and higher yields by keeping performance of a lithography apparatus and/or parameters of a lithography process substantially close to a pre-defined baseline condition. - 特許庁

隣接するデータトラック２１、２１間に、ヘッド１３の進行方向に交互に磁束の向きが変化する磁性部材１４を配置し、この磁性部材１４からの磁束によって生じる、再生波形のベースライン電圧レベルの変化から、ヘッドの位置の検出を行う。例文帳に追加

The magnetic member 14 wherein the direction of magnetic flux is alternately changed in the advancing direction of a head 13 is arranged between adjacent data tracks 21, and the position of the head is detected from the change of the base line voltage level of the reproduced waveform generated by magnetic flux from the magnetic member 14. - 特許庁

モニタ用途などの簡易、コンパクト化が求められる分野に適したガスセンサユニットについて、雰囲気環境の温度や風などを受ける状況が変化しても、信号ベースライン値の温度補正方法が簡易なガスセンサの提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a gas sensor allowing easy signal baseline value temperature correction even when a temperature/wind receiving condition of an atmospheric environment is changed in a gas sensor unit suitable for a filed such as usage as a monitor requiring simplification and reduction in the size. - 特許庁

操作卓部29により設定されたスイッチ部100がＯＮ状態の場合は、トレース演算描画手段27で得られた最高血流速度はサンプル周波数算出手段101に、ドプラスペクトラムはベースライン算出手段102に出力される。例文帳に追加

When a switch portion 100 set by a console portion 29 is in the on state, the maximum blood flow rate provided by the trace arithmetic drawing means 27 is outputted to a sample frequency calculating means 101 and the Doppler spectrum is outputted to a base line calculating means 102. - 特許庁

当該データセットが有効な増殖を表すと決定されるならば、当該データをさらに処理して、シグモイド又は増殖曲線における転移値、例えばベースライン領域の末端、又はＰＣＲ増幅曲線のエルボー値又はＣｔ値を決定する。例文帳に追加

If the data set is determined to represent the valid growth, the data is further processed to determine a transition value in the sigmoid or the growth curve, such as the end of the baseline region or the elbow value or Ct value of the PCR amplification curve. - 特許庁

突起部１０は、その半径方向内端１０ｅのビードベースラインＢＬからの高さＬａを１５〜１８ｍｍ、半径方向の突起巾Ｗを１０〜１５ｍｍ、ビード外側面Ｓ３からの突出高さＴを１．０〜２．０ｍｍとする。例文帳に追加

The projection 10 has the height La from a bead base line BL of a radial inner end 10e set to 15 to 18 mm, the radial projection width W set to 10 to 15 mm, and the projection height from the bead outside surface S3 to 1.0 to 2.0 mm. - 特許庁

内プライ部９ｉと本体部６ａとの間のインスレーションゴム１１のゴム厚さは、ビードベースラインＢＬからの高さｈが内プライ部９ｉの外端高さＺの６９％以上の範囲Ｓにおいて、６９％未満の厚さより大である。例文帳に追加

The rubber thickness of an insulation rubber 11 between the inner ply part 9i and the body part 6a is determined so that the height h from the bead base line BL is larger than the thickness below 69% in the range S of ≥ 69% of the outer end height Z of the inner ply part 9i. - 特許庁

銅や黄銅からなる基材にスズめっき層を形成した試料から選択的にスズめっき層を溶解できるとともに、鉛の測定波長でのベースラインの変動を抑えてより正確に定量できる剥離液及び定量方法を提供する。例文帳に追加

To provide a stripper and a quantitative analysis method, capable of selectively dissolving a tin plated layer in a sample obtained by forming the tin plated layer on a base material made up of copper or brass, and carrying out a quantitative analysis more accurately by suppressing a fluctuation of a baseline at a measurement wavelength of lead. - 特許庁

観測対象であるシステムの負荷を定期的に測定し、予め用意されたベースラインと単純に比較するのみならず、将来における異常状態の発生を予測可能とするシステム負荷監視方法、システム負荷監視装置、システム負荷監視装置用プログラムを提供する。例文帳に追加

To provide a system load monitoring method and device for periodically measuring the load on a system that is an observation target to estimate the occurrence of abnormal conditions in the future in addition to simple comparison with a prepared base line, and to provide a program for the system load monitoring device. - 特許庁

その後、信号強度の大きさの順に並べ替えられたデータＤ１〜Ｄ２４の中から、中央に位置するデータＤ９を検出し、中央に位置するデータＤ９に基づいて最終的にベースラインを決定するために使用されるデータＤ３〜Ｄ１９を決定する。例文帳に追加

Then, data D9 positioned at the center is detected from data D1-D24 which are newly arranged in descending order of the signal strength, and data D3-D19 is determined for finally determining a base line from data D9 positioned at the center. - 特許庁

遺伝子解析データの処理方法であって、以下のステップ：（ａ） 遺伝子解析データのノイズをフィルタリングするステップ、（ｂ） ベースラインサブトラクションを実行するステップ、（ｃ） カラーセパレーションを実行するステップ、（ｄ） 解析データ曲線のピークを検出するステップ、及び（ｅ） グローバルアラインメントを実行するステップを含む方法。例文帳に追加

The processing method of the gene analysis data includes the steps of filtering noise of the gene analysis data (a), of implementing base line subtraction (b), of implementing color separation (c), of detecting the peaks of analysis data curve (d) and of implementing global alignment (e). - 特許庁

たとえば、ＤＳＣ曲線、出力温度曲線からの外挿接線と、過冷却状態を含む液体状態である範囲のベースラインまたは延長線との交点の出力温度を読み取り、この交点の温度を試料の凝固点とするＤＳＣ曲線、出力温度曲線の解析方法を発見し採用した。例文帳に追加

For example, the output temperature at the intersection of the extrapolation tangent from the DSC curve and output temperature curve and the baseline or extension line of the range of liquid state, including the supercooling state, is read, and the DSC curve and output temperature curve using the temperature at this intersection as the freezing point of the sample is analyzed. - 特許庁

参加者間で取引を行う方法は、ベースラインと削減レベルとを確立し、排出量枠およびオフセットの情報を含む排出量情報を獲得し、必要購入量および許容販売量を個々の参加者毎に決定し、決定された上記必要購入量および許容販売量を満足する参加者間の取引を管理する。例文帳に追加

The method of conducting trades among participants includes establishing baselines and reduction levels, obtaining emissions information including emissions allowance and offset information, determining on an individual participant basis required purchases and allowed sales, and managing trades among participants to meet the determined required purchases and allowed sales. - 特許庁

本装置は、記憶部と、アドレスブロックごとに統計情報を生成し、記憶部に格納するベースライン生成部と、記憶部の統計情報と前記ネットワークのトラフィック情報とから主成分分析を行なう主成分分析部と、この主成分分析部の分析結果からネットワークの異常を検出する判定部とを設けたことを特徴とするものである。例文帳に追加

The device is provided with a storage unit, a base line generator which generates statistical information by address blocks and stores the information in the storage unit, a main component analyzer which analyzes a main component from the statistical information in the storage unit and traffic information on the network, and a decision unit which detects abnormality of the network from the analysis result of the main component analyzer. - 特許庁

払出し球検出回路８３のベースライン８３ａの入力端部を入力ライン９１ａによりコンパレータ９２の＋入力端子に接続し、分圧抵抗９３，９４の中点をコンパレータ９２の−入力端子にし、コンパレータ９２の出力端子を集積回路３９ａの入力ポート３９ｃに接続する。例文帳に追加

The input end part of the base line 83a of a payout ball detection circuit 83 is connected to the positive input terminal of a comparator 92 by an input line 91a, the middle point of voltage dividing resistors 93 and 94 is turned to the negative input terminal of the comparator 92 and the output terminal of the comparator 92 is connected to the input port 39c of an integrated circuit 39a. - 特許庁

本発明のワックス状オルガノポリシロキサンは、特定の化学構造を有する変性オルガノポリシロキサンであって、示差走査熱量計により測定される第２の昇温過程での吸熱曲線において、吸熱最大ピーク温度（Ｔｍ）が３０℃以上であり、かつ、当該吸熱曲線とそのベースラインとにより区画される全ての面積に対する、（Ｔｍ−２０）℃以下の部分の面積の比率が１０％以下である。例文帳に追加

The waxy organopolysiloxane is a modified organopolysiloxane having a specific chemical structure and shows an endothermic curve measured by differential scanning calorimeter during a second temperature elevation process, wherein the maximum endothermic temperature (Tm) is ≥30°C, and the area between the endothermic curve and its baseline to that below (Tm-20)°C accounts for ≤10%. - 特許庁

入力補償型と同等以上の応答性を得ながら熱流束型の特長であるベースラインの安定性を得る構造の示差走査熱量計の構成を維持しながら、試料および参照物質の昇降温も熱溜の昇降温に対して応答良く追従する示差走査熱量計を提供すること。例文帳に追加

To provide a differential scanning calorimeter, enabling temperature rise or drop of a sample and a reference material to follow temperature rise or drop of a heat reservoir with superior responsiveness, while maintaining constitution of the differential scanning calorimeter which has a structure for acquiring baseline stability, characteristic of a heat flux type, while simultaneously acquiring responsiveness similar to or higher than the input compensation type. - 特許庁

ビードエーペックスゴム８に連なり、かつタイヤ最大巾位置ＭのビードベースラインＢＬからの高さＨｍの半径方向外方、内方各３０％の領域Ｘまでカーカス６のプライ本体部１０とプライ折返し部１１との間を通って半径方向にのびる三日月状の硬質ゴム層２０を設ける。例文帳に追加

A crescent hard rubber layer 20 is disposed which is connected to the bead apex rubber 8 and extends radially to a region X of 30% of each of outside and inside of the radial direction of height Hm from the bead baseline BL of the tire maximum width position M through the gap between a ply body section 10 of a carcass 6 and a ply folding section 11. - 特許庁

ＭＲヘッドのノイズに対して測定効率がよくかつ測定精度を向上することができ、あるいはＭＲヘッドのノイズ、特に、その読出信号のベースラインのポッピングノイズやピークノイズを定量的に測定きる磁気ヘッドのノイズ特性測定方法および測定装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a method for measuring the noise characteristics of a magnetic head of which the measurement efficiency of a MR head noise is good and the measurement accuracy can be improved or which can measure quantitatively the MR head noise, especially the pumping noise of a base line of the read-out signal and peak noise and to provide a measuring device. - 特許庁

削減パターン選択部１７は、単位期間における資源の使用が使用削減目標を達成するように、基準量取得部１４で取得されたベースライン消費量と、使用予定量演算部１５で求められた最終予測消費電力量とに応じて、記憶部１６の複数の削減パターンから削減パターンを選択する。例文帳に追加

The reduction pattern selection section 17 selects a reduction pattern from among the plurality of reduction patterns in the storage section 16 in accordance with baseline consumption acquired by the reference amount acquiring section 14 and final predictive power consumption determined by the use planned amount arithmetic section 15 in such a manner that use of resources within the unit term achieves the use reduction target. - 特許庁

高周波集積回路の高周波部７の電流源となる電流ミラー回路を構成する各トランジスタ２、６の制御電極ライン（ベースライン）を、パッケージ８の外部に導出する構成とし、この制御電極ラインに外部端子１１を接続して、外部端子１１に外付けの大容量のコンデンサ１２を接続する。例文帳に追加

Control electrode lines (baseline) of respective transistors 2 and 6 constituting a current mirror circuit to be a current source of the high-frequency part 7 of a high-frequency integrated circuit are led out to the outside of a package 8, an external terminal 11 is connected to the control electrode line, and the exterior capacitor 12 of the large capacity is connected to the external terminal 11. - 特許庁

削減量算出手段２４では、コージェネレーション設備のインプットであるガスの供給量からコージェネレーション設備の運転に伴う炭酸ガス排出量であるプロジェクト排出量を求め、コージェネレーション設備のアウトプットである電気量および熱量から従来設備での炭酸ガス排出量であるベースライン排出量を推算する。例文帳に追加

Project amounts of emission as carbon dioxide gas accompanied with the operation of the cogeneration facilities is calculated from the supply quantity of gas as the input of the cogeneration facilities by a reduction amount calculation means 24, and base line amounts of emission as the carbon dioxide emissions in the conventional facilities is estimated from the electric quantity and the heat quantity as the output of the cogeneration facilities. - 特許庁

ポンプの送液量を容易に変化できるように２台以上の一連ポンプを使用し、しかも前記した従来技術の課題である反応試薬液と溶離液の混合割合の変動を抑制してベースラインに擬似的なピークが生じるのを防止し得るホストカラム反応型クロマトグラフ用送液装置を提供すること。例文帳に追加

To provide the subject liquid feed apparatus using a series of two or more pumps so as to be capable of easily changing the liquid feed amount of the pumps and capable of preventing the generation of a false peak in a base line by suppressing the fluctuations of the mixing ratio of a reaction reagent solution and an eluate being the subject of conventional technique. - 特許庁

リードチャネル３２は、可変利得増幅器３１１、ローパスフィルタ３１２、ＡＧＣ３１７、アナログ／ディジタル変換器３１３、周波数シンセサイザ３１４、フィルタ３１５、ソフト出力検出部３２０、ＬＤＰＣ復号部３２２、同期信号検出部３２１、ランレングス制御復号部３２３、デスクランブラ３２４、第１ベースライン変動補正部（ｆｉｒｓｔ ｂａｓｅｌｉｎｅ ｗａｎｄｅｒ ｃｏｒｒｅｃｔｏｒ）３３０とから構成されている。例文帳に追加

A read channel 32 is constituted of a variable gain amplifier 311, a low pass filter 312, an AGC 317, an analog/digital converter 313, a frequency synthesizer 314, a filter 315, a soft output detection part 320, an LDPC decoding part 322, a synchronizing signal detection part 321, a run length controlled decoding part 323, a descrambler 324, and a first baseline variation correction part 330. - 特許庁

本発明の投影露光装置は、ウェハ１をロード・アンロードする際のウェハステージ１１の位置と、オフアクシス方式のアライメント光学系によってベースライン計測する際のウェハステージ１１の位置とが同じ位置であるので、ウェハステージ１１が移動することがなく、処理時間を短縮することができる。例文帳に追加

The wafer stage 11 of the projection aligner does not move and, accordingly, the aligner can shorten processing time, because the position of a wafer stage 11 when a wafer 1 is loaded and unloaded on and from the stage 11 is the same as that of the stage 11 when the base line measurement is made by means of an off-axis alignment optical system. - 特許庁

車両の側部に撮像装置を備え、この撮像装置より後側方に存在する物体を検知する車両用物体検知装置において、複数のカメラをドアミラー等で上下方向に配置して、前方視野を塞ぐことなく、カメラ間距離（ベースライン）を長く取り、距離検知精度を向上することにある。例文帳に追加

To improve distance detection accuracy in an object detector for vehicle including an image pickup device at sides of a vehicle and detecting an object existing at a side rear part by the image pickup device, by arranging a plurality of cameras in a vertical direction with a door mirror or the like to achieve a long inter-camera distance (baseline) without blocking the front view. - 特許庁

例えばフーリエ変換赤外分光（ＦＴ−ＩＲ）法において、参照スペクトル及び不純物を含む測定スペクトルを取り込み、測定スペクトルに含まれる不純物による赤外吸収スペクトルのベースラインを平坦化するために、参照スペクトルに対して周波数シフトを含む補正を実施し、差スペクトルを算出する。例文帳に追加

For example, in Fourier transformation infrared spectroscopy (FT-IR), a reference spectrum and a measurement spectrum including an impurity spectrum are measured, and correction including a frequency shift of the reference spectrum is performed on the reference spectrum to flatten the baseline of the impurity infrared absorption spectrum in the measurement spectrum, and thereby a differential spectrum is calculated. - 特許庁

製造に入ると、ＣＰＣはウェーハ計測技術及びフィードバックループを活用することで特定のパターン又はレチクルに合わせてスキャナを最適化し、とりわけ、時間経過と共にオーバレイ及び／又はＣＤの均一性（ＣＤＵ）性能をモニタ及び制御してシステムをベースライン条件近くに連続して維持する。例文帳に追加

Once in manufacturing, the CPC optimizes a scanner in accordance with specific patterns or reticles by leveraging wafer metrology techniques and feedback loop, and monitors and controls, among other things, overlay and/or CD uniformity (CDU) performance over time to continuously keep the system close to the baseline condition. - 特許庁