「原溝」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

スライド部材が停止保持状態から原姿勢に回動してガイド溝始端部に戻った状態で、移動体を通常通り操作することによってスライド部材を受け部材の前方に自動的に導いて正常な状態にリカバリーする。例文帳に追加

To automatically guide a sliding member to the front side of a receiving member to recover it into a normal state by operating a moving body as usual in a state of the sliding member returned to a guide groove starting edge part by turning into the original attitude from the stop holding state. - 特許庁

床板を根太に固定する際、特殊な機械が必要であったり、多大な時間を要する溝加工を床板に施すことなく、また、床板表面より木ネジなどが飛び出てけがの原因にならない床板の固定具と固定方法を提供する。例文帳に追加

To provide a fixture and a fixing method of a floor board, for eliminating the need of a special machine or execution of groove processing requiring enormous time to the floor board when fixing the floor board to a floor joist, and preventing a wood screw or the like from projecting from a floor board surface and causing an injury. - 特許庁

原点位置または所定角度回動位置で連通する溝を設け、偏心状ピン孔をもつ連結ピン用軸受け筒１９の所定角度回動によりピン孔の偏心位置を変え任意の位置のチェーンピッチを調節してチェーン伸びを調整する。例文帳に追加

The chain extension is regulated by adjusting the chain pitch at an optional position by changing an eccentric position of the pin hole by specified angular revolution of the bearing cylinder 19 for the connecting pin having the eccentric pin hole by providing the groove communicated at an original point position or at a specified angular revolving position. - 特許庁

ノズル基板本体２にインク吐出口となる開口部１を有するノズル基板を製造するに際し、ガラス原板４の表面に、前記開口部１まわりを除いて微細な網目状の溝６を微小ピッチで連続状に形成する。例文帳に追加

When a nozzle substrate having an opening 1, i.e., an ink ejection opening, in a nozzle substrate body 2 is produced, micro meshed grooves 6 are formed continuously, at micro pitch, on the surface of a glass original plate 4 except the periphery of the opening 1. - 特許庁

この発明は、原盤への情報記録用の溝の形成速度を高速化して生産性を向上させる手法に基づいて形成された情報記録媒体を提供することと、上記した情報記録媒体に対して情報の記録再生を行なう情報記録再生装置を提供することとを目的としている。例文帳に追加

To provide an information recording medium formed on the basis of a method for improving productivity by accelerating a speed of forming a groove for recording information in an original, and to provide an information recording and reproducing apparatus for recording and reproducing information in the information recording medium. - 特許庁

走査装置１０を移動させて、プラテン２４上にセットした原稿の画像を読み取るに際して、フレームの底板から突出させ、頂部を円弧状に構成したガイドレール２７を、前記走査装置１０に設けた溝状の被ガイド部１９に挿入する状態で案内する。例文帳に追加

In reading the image of an original set on a platen 24 by moving the scanner 10, the scanner 10 is guided in a state where a guide rail 27 projecting from the bottom plate of the frame and constituted so that its top becomes circular-arc shape is inserted in a groove-shaped part to be guided 19 provided to the scanner 10. - 特許庁

金属の酸化物、水酸化物または炭酸塩等からなる原料粉末を混合し、成形して成形体とした後、焼成してセラミックス焼結体を製造する方法において、成形体を穴又は溝が設けてあるセラミックス平板上に置いて焼成を行なう。例文帳に追加

In the method for manufacturing the ceramic sintered compacts by mixing raw material powder consisting of the oxide, hydroxide, carbonate, etc., of metals, molding the mixture to form moldings, then firing the moldings, the moldings are placed on a ceramic flat plate provided with holes or grooves and are subjected to firing. - 特許庁

Ｕ溝筒体への流動性樹脂原料の供給量を定量化でき、長尺樹脂発泡体の製造を適正に行うことができるとともに、製造コストを低減することができる長尺樹脂発泡体の製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus for manufacturing a long resin foamed body, which stabilizes the amount of feeding of a fluid resin raw material to a U-shaped channel cylindrical body, appropriately manufactures the long resin foamed body and decreases the manufacturing cost. - 特許庁

これにより、シール用原材料２１を湾曲させてシール溝７，１２に装着したときには、湾曲動作によるチップシール２０の断面形状の歪み等を補償することができ、装着後のチップシール２０を長方形または正方形に近い断面形状に保持することができる。例文帳に追加

Consequently, distortion and the like of a section shape of the tip seal 20 due to bending action can be compensated when the seal material 21 is bent and installed in the seal grooves 7, 12, and the tip seal 20 can be maintained in a section shape close to a rectangular or a square after installation. - 特許庁

基材の表面に、水素を１２〜３０原子％含み、残部が炭素からなるアモルファス状ＤＬＣ膜を被覆形成し、その後、該ＤＬＣ膜の表面に直接、レーザビームを照射して、幾何学模様などからなる彫刻溝を彫刻することによってインプリント部材を製造する。例文帳に追加

The method for producing the imprinting member comprises the steps of: depositing an amorphous DLC (diamond-like carbon) film containing 12-30 atomic% hydrogen and the balance of carbon on the surface of a base material; and irradiating the surface of the DLC film directly with a laser beam to form the engraved groove consisting of a geometrical pattern or the like. - 特許庁

原稿搬送部８１の手前側の端面は上端より下端が奥側に位置する傾斜部８１ａが形成されている他、圧板部８２の手前側の端面に奥側に向け彎曲している断面形状を形成した凹溝部８２aが形成されている。例文帳に追加

An inclined part 81a, where a lower end is positioned on an inner side than an upper end, is formed on an end face on a front side of the document feeding part 81, and besides a recess groove part 82a formed in cross-sectional shape curved toward the inner side is formed on an end face on the front side of the document cover part 82. - 特許庁

高強度かつ延性の低い材料からなる被加工物に動圧発生溝を形成する場合でも、トラブルの原因となる被加工物表面の亀裂等を発生せず、高精度な転造加工を維持することのできる加工方法を提供する。例文帳に追加

To provide a working method capable of maintaining high-accuracy forming by rolling of the work composed of a material having high strength and low ductility without giving rise to cracking etc., on the surface of the work to be the cause for trouble even when dynamic pressure-generating grooves are formed on the work. - 特許庁

この後各小割り板１３の端部に実部２を形成することで、床材１を複数枚製造するにあたって、板状主材９の片面における前記床原板１１から小割り板１３を形成するために切断される部位ｂに凹溝部１５を形成する。例文帳に追加

Afterwards, when manufacturing the floor material 1 in a plurality by forming the tongue part 2 in the end part of the respective slats 13, a recessed groove part 15 is formed in a part (b) cut for forming the slats 13 of the floor original plate 11 in one surface of the plate-like main material 9. - 特許庁

基板の素子分離用溝を埋め込んで酸化シリコン膜と窒化シリコン膜を交互に積層させ、酸化シリコン膜と窒化シリコン膜との積層体に熱を印加し、積層体の組成が均一化する方向に原子を移動させて、酸窒化シリコン膜を形成する。例文帳に追加

The oxynitrided silicon film is formed by alternately laminating a silicon oxide film and a silicon nitride film filling the element isolating groove of the substrate, applying heat to a laminated material of the silicon oxide film and silicon nitride film, and moving atoms in the direction for attaining uniformity in composition of the laminated material. - 特許庁

凹部（溝）３が形成されている層間絶縁膜２を有する半導体基板１に対して、溶質となるＲｕ（ルテニウム）原子が含有されている溶液５を塗布し、その後、還元性環境下において、当該溶液５が塗布された半導体基板１の乾燥処理を施す。例文帳に追加

A semiconductor substrate 1 is equipped with an interlayer insulating film 2 where recesses (grooves) 3 are provided, a solution 5 containing Ru (ruthenium) elements as a solute is applied on the semiconductor substrate 1, and thereafter, the semiconductor substrate 1 where the solution 5 is applied is subjected to a drying process in a reducing atmosphere. - 特許庁

レジスト原盤１０の外周にある偏芯検出用溝をピックアップ１６によって検出し、偏芯量をｎ周期×設定ピッチとして偏芯量演算回路２２で演算し、駆動制御回路２１へスライダユニット１４へのオフセット信号として加算する。例文帳に追加

Grooves for detecting the eccentricity on the outer periphery of the resist master disk 10 is detected by a pickup 16 and the eccentricity is calculated as (n) period × set pitch by an eccentricity calculating circuit 22 and is added to a drive controlling circuit 21 as an offset signal to a slider unit 14. - 特許庁

下部が閉塞されて濾過すべき原液が収納されたのち上部が閉塞される筒状の濾材１を押圧し、かつ、濾材対向面に、上記濾材を通過する濾液を下方に落下させるように水平方向に対して斜め下向きに傾斜した横溝３５ａ，３１ａを備える。例文帳に追加

A cylindrical filter medium 1, of which the lower part is closed to house a raw liquid to be filtered and the upper part is subsequently closed, is pressed and lateral grooves 35a and 31a, which are inclined downwardly with respect to a horizontal direction so as to drop a filtrate passing through the filter medium downwardly, are provided to the opposed surfaces of the filter medium. - 特許庁

ＡＤＦの読取ローラ装置３３、３４の間に設ける読取部２２において、ＡＤＦ用プラテンガラス４とペーパーガイド３６の間に、原稿から分離される紙粉等が落下することを防止するために、ペーパーガイド３６に掘り込んだ状態で、溝部３７を設けている。例文帳に追加

A groove 37 burrowed into a paper guide 36 between an ADF platen glass pane 4 and the paper guide 36 is provided to a read section 22 between read rollers 33, 34 of the ADF to prevent paper powder or the like separated from the original from falling down. - 特許庁

環状溝４３は、球頭部２２におけるロッド２３よりの位置において球頭部２２の周方向に沿って形成され、ボールスタッド１７が揺動原点に位置する状態で樹脂シート１６の外側に位置するように配置されている。例文帳に追加

The annular groove 43 are formed in the circumferential direction of the spherical head part 22 at a position closer to a rod 23 in the spherical head part 22 and arranged outside the resin sheet 16 in a way that the ball stud 17 is positioned at the rocking source. - 特許庁

カバーＢ１の左右の側板部９・１０の間隔を原状にしたままカバーＢ１を本体Ａ１に被せ、カバーを本体に対して移動させると、爪部１５が小溝６に入り込んでから、爪部１５が小凹部７に引っ掛かる。例文帳に追加

The cover B1 is made to cover the main body A1, while the interval between the left and right side plate parts 9 and 10 of the cover B1 is held as it is, and the cover is moved over the main body so that the claw part 15 enters into the small groove 6 and is then caught by the small recessed part 7. - 特許庁

特定の長繊維強化熱可塑性樹脂ペレットを製造原料とし、棒状成形品の一端に相当する部位に設けられたゲートを介して射出成形すると共に、棒状成形品の長手方向に一本又は複数本の溝部を形成した棒状成形品。例文帳に追加

The rod-like molding is obtained by injection-molding pellets of a specific filament-reinforced thermoplastic resin as the raw material through a gate arranged at the position corresponding to one end of the rod-like molding and has one or more grooves extending in the longitudinal direction of the molding. - 特許庁

ボルトが付設された下部カバーと、前記ボルトのねじ部自由端が装通される孔を備える上部カバーと、前記ボルトのねじ部に螺合されたナットと、前記両カバーの間の周囲において形成された断面U字状の環状溝と、前記環状溝内に保持されるシールリングとからなり、前記ナットを回動することにより前記両カバーの相対位置を調節して、前記シールリングを変形せしめることを特徴とする原子炉圧力容器のフランジ部のねじ孔を密閉する密閉装置。例文帳に追加

The sealer device for the screw-holes in the flange of the nuclear reactor, comprising a lower cover on which bolts are born, an upper cover bearing the bolt holes through which said bolts, the nuts screwed onto the said bolts, a circular U-grooves placed on the circumferences of said covers and the seal-ring to be placed in the said grooves, in which the placement of said covers are adjusted by means of said nuts to deform the configuration of the seal ring in order to seal the vessel.  - 特許庁

該ターゲット棒１を用いて大型の多孔質ガラス母材を製造する際には、少なくともケイ素化合物を含有するガラス形成原料を酸水素火炎で加水分解してガラス微粒子を生成させ、前記ガラス微粒子を、回転する前記ターゲット棒１の環状溝２を含む領域に堆積させる。例文帳に追加

When producing a large-size glass preform by using the target rod 1, a glass-forming raw material containing at least silicon compound is hydrolyzed by oxyhydrogen flame to produce glass fine particles and the glass fine particles are deposited on an area including the annular groove 2 of the rotating target rod 1. - 特許庁

曲面を含んだ３次元形状の表面に原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の機能を利用して微細形状を形成するときの加工時間を大幅に短縮することを目的とし、そのために多数の切れ刃となるプローブ（探針）によって多数の微細溝を同時に高精度で加工できる新規な加工用カンチレバーを工夫すること。例文帳に追加

To provide a new cantilever for processing, wherein a great number of fine grooves are simultaneously processed with high accuracy by probes as a great number of cutting blades, in order to drastically shorten a process time for forming fine shapes by using functions of an atomic force microscope on a three-dimensional surface including a curved face. - 特許庁

本発明は、ターンテーブル移動型又は光学系移動型の光ビームあるいは電子ビームを用いた光ディスク原盤露光装置においてＣＡＶフォーマット情報を露光する際に、露光光量一定のまま、すなわちＣＬＶ駆動状態で、安定したピットあるいはトラック溝形状形成を可能とする。例文帳に追加

To provide a formatter drive clock generating method of a formatter apparatus generating and outputting exposure pit information by which stable pit or track groove shape forming can be performed in a CLV drive state, a formatter drive command pulse column generating method, an original optical disk exposing apparatus, and an optical recording medium. - 特許庁

また、誘導結合型プラズマエッチング装置において加工条件範囲内でエッチング加工を行なうことで、原材料がシリコン単結晶であるノズルウェハ３上にノズル穴２ａまたは供給口７ａ等の溝部を形成する際にエッチング深さに対する垂直性を維持しつつ且つウェハ面内のエッチング深さバラツキを低減できる。例文帳に追加

Additionally, etching depth dispersion on a wafer surface is reduced while maintaining verticality for etching depth in forming a nozzle hole 2a or the groove part of a supply port 7a, etc. on a nozzle wafer 3 an original material of which is a silicon monocrystal by carrying out the etching process within a working condition range on the inductively coupled plasma etching device. - 特許庁

レーザ同位体分離装置において、製品回収電極の表面に溝部を設け、電圧を上げることなく、前記製品回収電極の側面下端部でのイオン回収量を増加させ、且つイオン入射により前記製品回収電極からはじき飛ばされた原子をその回収電極自身で再回収することにより、製品回収効率を向上させる。例文帳に追加

In the laser isomer separation device, the product recovery efficiency is improved by providing a groove part 11 on the surface of a product recovery electrode 10, increasing the ion recovering quantity at the side lower end part of the product recovery electrode 10 and re-recovering atoms sputtered from the product recovery electrode 10 with the recovery electrode itself. - 特許庁

硫化亜鉛原料粉体をホットプレス法にて焼結して成形される複数の第１乃至第３赤外線レンズ２１，２２，２３を鏡筒１内に挿嵌してなるレンズユニットＡにおいて、レンズ挿嵌時にレンズ間で圧縮される空気を逃がす溝部２２ａ，２３ａを第２及び第３赤外線レンズ２２，２３の鍔部２２ｂ，２３ｂに形成する。例文帳に追加

In the lens unit A composed by inserting a plurality of first to third infrared lenses 21, 22, 23 formed by sintering zinc sulfide raw material powder by a hot press method in the lens barrel 1, there formed are groove parts 22a, 23a releasing compressed air between lenses in lens insertion on flange parts 22b, 23b of second and third infrared lenses 22, 23. - 特許庁

その際、パウダボックス２にクランプされて閉鎖された金型３の加熱状態での回転後に、金型３に付着した原料パウダ２ａを溶融させるアフタメルト工程中に、開放した金型３に開口ラインに対応し形状の加工刃１０を押し付けてインストルメントパネル表皮の裏面に破断用溝９ａを形成する。例文帳に追加

At this time, a processing blade 10 having the shape corresponding to the opening line is pressed to an opened mold 3 during an after-melt process for melting the raw material powder 2a bonded to the mold 3 after the mold 3 clamped to a powder box 2 to be closed is rotated in a heated state to form the breaking groove 9a in the back surface of the skin of the instrument panel. - 特許庁

２条植プランタ１００は、苗投入口２１ａ，２１ｂから投入されたさとうきびの原料苗を各々切断し、種苗として排出する苗切断部２０と、耕作用トラクタが走行する圃場に対し、該走行方向に沿って２条の植え溝を同時に形成可能なブレード４１ａ，４１ｂを有する畦立部４０を具備する。例文帳に追加

A two-row planter 100 is provided with a seedling cutting part 20 to receive the seedling of sugar cane charged through seedling charging ports 21a, 21b, cutting the seedling and discharging as a stock seedling and a ridging part 40 having blades 41a, 41b capable of forming two rows of planting groove along the traveling direction at the same time. - 特許庁

シリコン窒化膜１２及びシリコン酸化膜１１をパターン化するためのレジストパターン１３を用いたドライエッチングにおいて、オーバーエッチング時にシリコン基板１０における分離用溝形成領域の表面部を掘り下げることにより、円錐状パターン欠陥の原因となるシリコン基板１０中の成長時導入欠陥を除去する。例文帳に追加

In dry etching employing a resist pattern 13 for patterning a silicon nitride film 12 and a silicon oxide film 11, a defect introduced into a silicon substrate 10 at the time of growth to cause a conical pattern defect is removed by digging down the surface of an isolation trench forming region on a silicon substrate at the time of overetching. - 特許庁

本発明は、微細溝を形成するために露光光として紫外レーザ光を用いる場合であっても、露光光学系の光軸調整を容易かつ安全に行うことが可能であると共に、正確かつ高精度にフォーカスずれを検出することが可能な光ディスク原盤の露光装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an exposure device for an optical master plate capable of easily and safely adjusting the optical axis of an exposure optical system and detection focus deviation accurately with high precision even when an exposure light and an ultraviolet laser beam are used for forming a microgroove. - 特許庁

シリコン窒化膜１２及びシリコン酸化膜１１をパターン化するためのレジストパターン１３を用いたドライエッチングにおいて、オーバーエッチング時にシリコン基板１０における分離用溝形成領域の表面部を掘り下げることにより、円錐状パターン欠陥の原因となるシリコン基板１０中の成長時導入欠陥を除去する。例文帳に追加

In dry etching for patternizing a silicon nitride 12 and silicon oxide film 11 by using a resist pattern 13, introduction defects at the time of growth in a silicon substrate 10, which cause conical pattern defects, are removed by digging the surface part of the groove formation region of the silicon substrate 10 at overetching. - 特許庁

成形溝及び内部加熱装置を備えた成形ドラムを用いて、合成樹脂を成形用原料とするブレード用シートを連続成形する方法において、合成樹脂として一般式[Ｉ]で表される水酸基を含有するアミジン化合物を反応触媒とする２液性の熱硬化性ポリウレタン樹脂を用いるたブレード用シートを製造する。例文帳に追加

This production method comprises continuously forming a sheet for the blade using a synthetic resin as a molding raw material by using a forming drum provided with a forming groove and an internal heating apparatus, and is characterized by using, as the synthetic resin, a two-pack thermosetting polyurethane resin including a reactive catalyst being an amidine compound containing a hydroxy group represented by general formula [I]. - 特許庁

シリコン窒化膜１２及びシリコン酸化膜１１をパターン化するためのレジストパターン１３を用いたドライエッチングにおいて、オーバーエッチング時にシリコン基板１０における分離用溝形成領域の表面部を掘り下げることにより、円錐状パターン欠陥の原因となるシリコン基板１０中の成長時導入欠陥を除去する。例文帳に追加

In dry etching using a resist pattern 13 for patterning a silicon nitride film 12 and a silicon oxide film 11, introduction defects in growth in the silicon substrate 10, which cause conical-pattern defects, are removed by digging a surface part of a separation groove forming region of the silicon substrate 10 at overetching. - 特許庁

フォトレジスト付き原盤からニッケルメッキによりスタンパを複製し、このスタンパから表面に光ヘッド案内溝及びアドレス等を表わすピットやセクタ・マークあるいは記録情報などの凹凸パターンを有する光ディスク用基板を複製する方法においては、フォトレジスト膜表面およびニッケルメッキ膜表面に意図せずに生じる微細な凹凸が、複製された基板の表面に複製される。例文帳に追加

To reduce an unintentionally produced fine surface roughness of a substrate by irradiating ultraviolet rays on an original plate with a photo resist having an embossed pattern or a transferred substrate for optical discs. - 特許庁

（昭和44年廃止）池田町、掛落町、庄境町、溝端町、六条町、郡浅代町、郡大宮田町、郡構エ町、郡北裏町、郡北堂ノ後町、郡南堂ノ後町、郡五反田町、郡衣手町、郡三反田町、郡四条縄手町、郡七反田町、郡芝土井町、郡下河原町、郡新上坊町、郡隅明町（こおりすみあけちょう）、郡大波町（こおりだいはちょう）、郡附洲町、郡佃町、郡辻堂町、郡鍋淵町、郡二反田町、郡浜ノ本町、郡樋渡町、郡平尻町（こおりへいじりちょう）、郡宮ノ後町、郡六条町例文帳に追加

(abolished in 1969) Ikedacho, Kakeochicho, Shozakaicho, Mizobatacho, Rokujocho, Kori Asashirocho, Kori Omiyatacho, Kori Kokocho, Kori Kitauracho, Kori Kitadonoatocho, Kori Minamidonoatocho, Kori Gotandacho, Kori Koromodecho, Kori Mitandacho, Kori Shijonawatecho, Kori Shichitandacho, Kori Shibadoicho, Kori Shimokawaracho, Kori Sinjobocho, Kori Sumiakecho, Kori Daihacho, Kori Fuzucho, Kori Tsukudacho, Kori Tsujidocho, Kori Nabefuchicho, Kori Nitandacho, Kori Hamanomotocho, Kori Hiwataricho, Kori Heijiricho, Kori Miyanoatocho and Kori Rokujo-cho  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス