「最小グラフ」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

スロットマシン４が１日稼動した場合に得られる差玉の最大差と最小差とを棒グラフの両端（単位ドットＤが積み重ねられた数量）で表示する。例文帳に追加

The maximum and minimum differences of the number of differential balls (put-out balls minus entry balls) gained by one full-day operation of the slot machine 4 are displayed at both ends of a zigzag line graph (by the number of stacked unit dots D). - 特許庁

Ｆが最小リソグラフィ寸法である場合に４．５Ｆ２以下のサイズを有する半導体メモリ・セルに関する構造および製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a structure related to a semiconductor memory cell whose size is less than 4.5F2 in a case where F denotes the minimum dimension of a lithography techinique, and a manufacturing method thereof. - 特許庁

リソグラフィ投影装置において、機械的振動による不必要な外乱をもたらすことなく、液体の圧力変動および／または温度変化を最小限に抑えた液体供給システムを提供すること。例文帳に追加

To provide a liquid supply system which minimizes voltage variation and/or temperature variation of liquid without causing unnecessary disturbance due to mechanical vibration, in a lithographic apparatus. - 特許庁

放射ビーム検査構成では、基板Ｗに露光される放射のパターンと基板に露光する必要のある放射のパターンの相違を最小化するために、リソグラフィ装置の動作が修正される。例文帳に追加

In the radiation beam inspecting configuration, the operation of the lithographic apparatus is modified in order to minimize the difference between the pattern of radiation exposed on the substrate W and the required pattern of radiation to be exposed on the substrate. - 特許庁

本発明は、自動的に自己回復が可能であり、かつ、基板テーブルに取り付けられた導管にかかる機械的負荷を最小限に抑える平面磁気位置決め手段を備えたリソグラフィ投影装置を提供する。例文帳に追加

To provide a projection apparatus for lithography having a planar magnetic positioning means that can be automatically self-recovered and that suppresses mechanical load applied to guide pipes that are mounted on a substrate table to the smallest extent. - 特許庁

以上の手法により長波長光源のフォトリソグラフィーの解像最小寸法によらず、記録ヘッドのポール部を形成する磁性膜の膜厚により書き込みトラックを決めることが可能となる。例文帳に追加

By the above method, the writing track is determined by the film thickness of a magnetic film forming the pole part of the recording head, independently of the resolving minimum dimension of the photo-lithography of a long wavelength light source. - 特許庁

３次元グラフィックスの描画性能を向上させなくても表示対象とすべき物体が欠落することを最小限に抑えることができ、また、現実の景観に符号する映像を表示することができる表示装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a display device capable of minimizing omissions of an object to be a display object even without improving a plotting performance of three-dimensional graphics and displaying video images matched with an actual scene. - 特許庁

単一のリソグラフィ・ステップを利用して自己整合デバイスを生産する時間とコストを最小限に抑えたＴＦＴの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for TFT by utilizing a single lithography step to suppress the time and cost for manufacturing a self-matching device to minimum. - 特許庁

試料の拡散が最小限に抑えられ、その結果、生体試料などの複雑なマトリックスから目的物質を分離可能な高理論段数を有する高分離性能の液体クロマトグラフィーチップを提供すること。例文帳に追加

To provide a liquid chromatography chip with high separation performance having a large number of theoretical stages capable of suppressing minimally dispersion of a sample, and resultantly separating an object material from a complicated matrix such as a biosample. - 特許庁

更新パッケージ間のパスを含むグラフデータを処理して更新の妥当性を検証し、同じバージョンに到達する２つ以上のパスが通っている場合には、重み（コスト）が最小であり、装置上の既存イメージに適用することができる最小かつ最適なパッケージ群の判定を行い、要求される更新を生成する。例文帳に追加

The graph data including paths between update packages are processed to validate the updates and to determine a minimal and optimal set of packages that can be applied to the existing image on the device to produce the desired updated when more than one path can be used to get to the same version. - 特許庁

アデノウイルス感染細胞を細胞溶解し、クロマトグラフィ材料との接触から生ずる、ウィルスに対する、特にウィルスの表面成分に対する何らかの損傷が最小にされるかまたは排除されるような様式で、そのようなウィルスを適当なクロマトグラフィ材料と接触させるための改良された方法。例文帳に追加

The present invention provides an improved method for performing cytolysis of an adenovirus-infected cell and bringing a virus into contact with a suitable chromatographic material in a fashion to minimize or eliminate any damage to the virus, particularly to surface components thereof, resulting from the contact with such chromatographic material. - 特許庁

人間関係グラフを構成する全ノードのうち一部のノードの指標の値（例えばストレス度）がアンケートやその他の推定方法によりわかれば、処理部はそれらを入力して、上記人間関係グラフデータを用いてエネルギー関数を最小化する処理により、その他のノードの状態を決定する。例文帳に追加

When the index value of a node (for example, the degree of stress) of a part among the whole node constituting the human relation graph is found by questionnaire and other method for estimation, a processing part inputs them, and determines the other node condition by using the human relation graph data and by a minimizing processing of the energy function. - 特許庁

各レイヤのネットワークでそれぞれのトポロジに基づき経路を仮想的に設定した仮想グラフを作成する際に、各レイヤの仮想グラフを構成する線分のうち、同一点間を結ぶ線分が一つのレイヤにのみ存在する場合は、このレイヤの線分を用い、複数レイヤに存在する場合は、この中からコストが最小のものを選択する。例文帳に追加

If a segment connecting between identical points out of segments constituting the virtual graph of each layer exists only in one layer, the segment of that layer is employed in drawing a virtual graph where a route is set virtually on the basis of each topology in the network of each layer, and a segment of lowest cost is selected if that segment exists in a plurality of layers. - 特許庁

入力あるいは記憶された関数式に従って表示部に表示されるグラフに対し（ステップＡ１１〜Ａ１３）、そのグラフの特徴点（最大値、最小値、極大値、極小値）を検出して（ステップＡ１４〜Ａ１６）、その特徴点にポインタを表示すると共にその座標値を表示する（ステップＡ１７，Ａ１８）。例文帳に追加

The minutiae of its graphic (the largest value, the least value, the maximum value, the minimum value) are detected (steps A14-A16) relative to graphic displayed on a display part according to a function expression inputted or stored (steps A11-A13), pointers are displayed on its minutiae and its coordinate values are also displayed (steps A17-A18). - 特許庁

最小の粒子発生及びガス放出の状態で、リソグラフィツール内の移送ステーションにレチクルをハンドオフするロボットの位置を正確にキャリブレーションするために、ロボット位置キャリブレーションツール（ＲＰＣＴ）を使用する。例文帳に追加

A robot position calibration tool (RPCT) is used to accurately calibrate a robot position for a reticle hand-off to a transfer station in a lithography tool with minimized particle generation and outgassing. - 特許庁

液浸流体が微粒子汚染領域に接触しないように、液浸流体に入る微粒子を最小に抑え、ウェーハ上のフォトレジストの画像及びパターンに歪みや欠陥が発生しないようにする液浸リソグラフィシステムを提供する。例文帳に追加

To provide a liquid immersion lithography system which minimizes the introduction of particles into the immersion liquid by preventing the immersion liquid from contact with the particulate contamination areas, and which prevents distortions and defects from occurring on the photoresist image and pattern on the wafers. - 特許庁

リソグラフィー或いは微細加工に伴うパターンの変換差やばらつきの問題を低減し、さらにそれがキャパシタの分極量に与える影響を最小にすることができ、微細化と共に高集積化をはかり、且つ信頼性の向上をはかる。例文帳に追加

To reduce the variety or difference in conversion of patterns, accompanying lithography or minute processing, furthermore to minimize its influence on the polarization quantity of a capacitor, and to attain minuteness, high integration and improve the reliability. - 特許庁

占有面積の低減とゲート幅の確保を簡単な方法を用いて実現でき、さらには、ホトリソグラフィーの能力で決定される最小加工寸法によらず微細化を可能とすることができる半導体装置およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device and a manufacturing method therefor in which reduction of occupied area and securement of gate width are realized by using a simple method, and miniaturization is made possible regardless of minimum working dimension decided by the capability of photolithography. - 特許庁

低い電圧および電流でプログラミングすることができ、ごくわずかなチップ・スペースしか消費せず、最小リソグラフィック・フィーチャ・サイズの間隔で配置された部品間の隙間に形成することができるアンチヒューズ構造を提供する。例文帳に追加

To provide an anti-fuse structure which can program at a low voltage and current, uses only in an extremely small chip base, and can be formed in a gap between parts which are disposed at intervals of a least lithographic feature size. - 特許庁

そして、この配線ライン６と交差する金属配線７５と、配線ライン６におけるコンタクト部としての幅広部６ａ，６ａとの間のスペース部６ｂ，６ｂを、リソグラフィ及びエッチング技術の最小加工限界値に設定する。例文帳に追加

And spaces 6b and 6b between metallic wiring lines 75 intersecting with the wiring lines 6 and wider-width parts 6a and 6a of the wiring lines 6 as contact parts are set at a minimum limit value processable by lithography and etching technique. - 特許庁

これにより、後に取得するスペクトルのキャリブレーション用モデル化スペクトログラフについて最もよく説明する一式の物理モデルパラメータを生成する反復処理において、観測したスペクトルと計算したスペクトルとの残差を最小にする。例文帳に追加

Hereby, a residual between an observed spectrum and a calculated spectrum is minimized in a repetition processing for generating one set of expression physical model parameters for explaining best a modeled spectrograph for calibration of a spectrum acquired thereafter. - 特許庁

本発明は，基本的には，描画対象を画像ＩＤにより識別子，この画像ＩＤに応じた処理を行うことで，ハードウェア規模を最小にしながら，高速かつ低消費電力で３次元コンピュータグラフィックスを得ることができるという知見に基づくものである。例文帳に追加

This invention is based on knowledge that a drawing target is identified by an image ID, and processing in correspondence with the image ID is executed, and the three-dimensional computer graphics can be achieved at high speed with low power consumption while minimizing a hardware scale. - 特許庁

コントローラは、所定数のショット毎に該所定数のショット内における実績値から得られる統計値、例えば前記所定数のショット内における実績値の最大値、最小値を時系列グラフにて前記表示部に表示させる。例文帳に追加

The controller allows the display part to display a statistical value obtained from the actual result values in a predetermined number of shots at every predetermined number of shots, for example, the maximum and minimum values of the actual result values in a predetermined number of the shots by the time series graph. - 特許庁

表面不完全性、並びに磨きおよび平坦化の間の下地となる構造へのダメージおよびトポグラフィー等の欠陥性を最小化する一方で、磨きおよび貴金属を含む基材の平坦化の間の望ましい平坦化効率、均一性、および除去速度を示す磨き系および磨き方法を提供する。例文帳に追加

To provide a grinding system and a grinding method for minimizing surface imperfection, damages to a structure forming a base during grinding and flattening, and topography failures, and showing desirable flattening efficiency, uniformity, and removing speed during grinding and flattening the base including precious metal. - 特許庁

隣接グラフは、矩形以外の直角多角形の形状固定ブロックを最小数の矩形に分割し、それら矩形を節で、矩形の隣接関係を左から右または下から上への有向枝で表し、さらに同一ブロックを成す節間には無向枝を設けたものである。例文帳に追加

In the adjacent graph, the fixed right-angled polygonal block other than a rectangular block is divided into the minimum number of rectangles each represented by nodes, the adjacent relation of the rectangle is represented by branches directed from left to right or directed upward from downward and a non-directed branch is provided between nodes forming one block. - 特許庁

コントロール／データフローグラフの直接マッピングにより、相互結合網の複雑さを最小化し配線モジュールを高性能化するとともに、ビットシリアルアーキテクチャに基づく専用演算回路により演算モジュールを高性能化する。例文帳に追加

The performance of the wiring module is made high by minimizing the complexity of an interconnect network through the direct mapping of a control/data flow graph, and the performance of the arithmetic module is made high by a dedicated arithmetic circuit based upon a bit-serial architecture. - 特許庁

フォトリソグラフィ技術を用いたパターン加工は、１μｍ以下（最小でも数十ｎｍ程度）の微細加工を高精度に制御可能であるため、はんだめっき法に比べて著しく微細なダムを安定して形成することが可能となる。例文帳に追加

The patterning employing the photolithography technique is capable of controlling the fine processing of less than 1 μm (in the degree of several 10 nm even at minimum) with a high accuracy whereby the remarkably fine dam can be formed stably compared with same dam formed through solder plating method. - 特許庁

最小長さを小さく抑えて伸縮障壁の大きな可動ストロークを確保しつつ、簡易な構成によってコスト増加を招くことなく高速動作における十分な耐久性を確保することができる工作機械用伸縮障壁のパンタグラフ機構を提供する。例文帳に追加

To provide a pantograph mechanism of a telescopic bulkhead for a machine tool securing a sufficient durability in high-speed operation without bringing about an increase in the cost by embodying it in a simple constitution while the minimum length is suppressed small and a large motion stroke is secured to the bulkhead. - 特許庁

これにより、グラフィックイコライザ２２のレベル変化特性に合わせて最小限のレベル減少のみで信号のクリップを防止するレベル補正ができるので、ダイナミックレンジが最大限に確保され、Ｓ／Ｎの悪化が抑制される。例文帳に追加

Since the level is corrected to prevent clipping of signal only in conformity with a minimum level reduction in matching with the level change characteristic of the graphic equalizer 22 in this way, the maximum dynamic range can be ensured and deterioration in the S/N can be suppressed. - 特許庁

頂点の集合とkの値が与えられた時に、通信網のトポロジーとして、k-edge-connectedであり、かつ、コスト最小のグラフを出力する回路であって、k-edge-connectedであることを自動的に保証するような次候補作成処理部を有している。例文帳に追加

A communication network design circuit is configured to be k-edge-connected as a topology of a communication network when a group of vertexes and a value of k are applied, and to output a graph whose costs are the minimum, and to have a next candidate preparation processing part for automatically ensuring that this circuit is the k-edge-connected. - 特許庁

ＣＰＵは、機種内最大値を上限（ｍａｘ）、機種内最小値を下限（ｍｉｎ）として、図中左から右側へと横方向に表示させる時間軸（ｔ）に対応させて、機種Ａの或る台の差玉データをグラフ５００として表示する。例文帳に追加

A CPU displays a differential ball data in a machine of a machine type A as a graph 500 to correspond to a time axis (t) displayed from a left side to a right side along a transverse direction in a figure, using the maximum value within the machine type as an upper limit (max) and using the minimum value within the machine type as a lower limit (min). - 特許庁

パッド層を形成して、先在するＣＭＯＳデバイスのソースおよびドレインに対して真性ベース層の高さを隆起させることにより、かつ選択的エピタキシを介して外因性ベースを形成することにより、表面の凹凸の影響は、外因性ベースのリソグラフィによるパターン形成時に最小になる。例文帳に追加

By forming pad layers and raising the height of an intrinsic base layer relative to the source and drain of preexisting CMOS devices and by forming an extrinsic base through selective epitaxy, the effect of surface variations is minimized during a lithographic patterning of the extrinsic base. - 特許庁

占有面積の低減とゲート幅の確保を簡単な構成で実現でき、フォトリソグラフィーの能力で決定される最小加工寸法に制限されることなくさらなる微細化が可能な半導体装置およびその製造方法および集積回路および半導体システムを提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device, in which the occupied area can be reduced and the gate width can be secured in a simple configuration and which can be made fine, without restricting the minimum machining dimensions decided by the capability of photolithography, and to provide a manufacturing method, an integrated circuit and a semiconductor system. - 特許庁

導電性支持体２と導電性支持体２上に配置された感光層３とを有する電子写真感光体１であって、 感光層３が１種又は２種以上の電荷発生材料と１種又は２種以上の電荷輸送材料とフッ素系樹脂粒子とフッ素系グラフトポリマーとを含有し、 上記電荷発生材料のうち最小のイオン化ポテンシャルを有するものよりも小さいイオン化ポテンシャルを有する電荷輸送材料の上記電荷輸送材料の総量に対する質量比Ｘと、上記フッ素系グラフトポリマーの上記フッ素系樹脂粒子に対する質量比Ｙと、が下記式（１）で示される条件を満たすことを特徴とする。例文帳に追加

An electrophotographic photoreceptor 1 has a conductive support 2 and a photosensitive layer 3 arranged on the conductive support 2. - 特許庁

１９３ｎｍ程度の波長で、かつマイクロリソグラフィー用光学系のほぼ加工エネルギー密度程度のエネルギー密度を有する紫外線を照射させた際に、照射線誘起密度変化に対して高い耐性を持つ石英ガラス材料の製造方法であって、石英ガラス材料中のペルオキソ基欠陥の量を最小化することを特徴とする石英ガラス材料の製造方法。例文帳に追加

The production method produces a quartz glass material which exhibits high resistance to radiation-induced density change when irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of around 193 nm and an energy density almost the same as the processing energy density of an optical system for microlithography. - 特許庁

液体クロマトグラフィーによりヘモグロビン類を測定するために用いられるカラム充填剤であって、平均粒径値が１〜３０μｍであり、粒度分布を測定した際に得られる度数分布のピークが２つ以上存在し、かつ、前記度数分布のピークのうち、最大粒径を示すピークの粒径値が、最小粒径を示すピークの粒径値の１．１〜３．０倍であるヘモグロビン類測定用カラム充填剤。例文帳に追加

The column filler used for measuring hemoglobins by liquid chromatography has an average particle size value of 1-30 μm and wherein two or more peaks of frequency distribution obtained when particle size distribution is measured are present and the particle size value of a peak showing the maximum particle size in the peaks of the frequency distribution is 1.1-3.0 times the particle size value of the peak showing the maximum particle size. - 特許庁

そのデジタル信号表現の数学的な積率が種々の基準実体に対し計算され、そして放射線写真画像の配向、例えばマンモグラフイー画像内の胸郭エッジの位置、に関する決定が該計算された積率の極値（最小値、最大値）に基づいて得られる、デジタル信号表現により表現された放射線写真画像の配向を決定する方法。例文帳に追加

In determining the orientation of the radiographic images in terms of the digital signal expression, mathematic moments in terms of the digital signal expression are calculated for various reference entities and the decision pertaining to the orientation of the radiographic images, for example, the position of the thorax edge within a mammographic image is accomplished based on the extremal values (minimum and maximum values) of the moments calculated. - 特許庁

本発明による新トポグラフ測定方法およびその装置は、カンチレバーと試料間の引力勾配を一定に維持しながらカンチレバーで試料表面を走査することにより計測する非接触型原子間力顕微鏡において、カンチレバーと試料間に作用する静電気力を検出し、該静電気力が最小となるカンチレバーバイアス電位をカンチレバーにフィードバックすることを特徴とする。例文帳に追加

This new topograph measuring method and its device are characterized by detecting the electrostatic force working between the cantilever and the sample, and feeding back a cantilever bias potential at which the electrostatic force becomes minimum to the cantilever, in the noncontact type atomic force microscope for scanning the sample surface by the cantilever to execute measurement, while maintaining an attraction gradient between the cantilever and the sample constant. - 特許庁

デジタル・グラフイックイコライザーが異なる中心周波数をそれぞれ有する所定数のイコライジング帯域を使用し、そして中心周波数が所定のオーディオ帯域幅をわたり、各イコライジング帯域に対してフイルタの最小組が提供されて、フイルタが連続するフイルタの間に所定の線形で均一な間隔を有する。例文帳に追加

This digital graphic equalizer uses a prescribed number of equalizing bands having different center frequencies, the center frequencies transmit over a prescribed audio band width, a minimum set of filters are offered to each equalizing band, and the filters have prescribed linear, homogeneous intervals between continuous filters. - 特許庁

画像の階調を補正するためのカーブデータを画像編集画面上に開いたＬＵＴカーブ作成ダイアログに基づいて作成する場合、前記ＬＵＴカーブ作成ダイアログ中のグラフ領域を最小座標（Ｘ＝０，Ｙ＝０）から最大座標（Ｘ＝１００，Ｙ＝１００）の範囲の第１領域とこの第１領域の範囲外の第２領域とし、これら第１領域及び第２領域に指示点を設定してカーブを作成し、作成したカーブ対応のカーブデータを登録する。例文帳に追加

Then the curve data corresponding to the drawn curve are registered. - 特許庁

各プロファイルグラフから各ラインパターンの濃度中心に対応する極値位置と、当該ラインパターンの左右両エッジに対応する第１エッジ位置及び第２エッジ位置を算出し、最小二乗法により、ライン中心近似直線、第１エッジ近似直線、第２エッジ近似直線を得る。例文帳に追加

Extreme value positions corresponding to the density center of each line pattern, and first edge positions and second edge positions corresponding to both right and left edges of the line patterns, are computed from the respective profile graphs, and a line-center approximation line, a first edge approximation line and a second edge approximation line are obtained by a least-square method. - 特許庁

センサ等で計測されたデータに基づく人間関係を表現する人間関係グラフデータが与えられた場合に（１０１）、職場組織などを構成する人と人の相互作用を記述するエネルギー関数を定義し、エネルギーを最小化する処理（１０３）により、組織のストレス度のような系のマクロな指標値（１０４、１０５）を求めることができるようにするものである。例文帳に追加

When human relation graph data for expressing a human relation based on data measured by a sensor or the like are given (101), an energy function describing the mutual action between human beings constituting a working place organization is defined to obtain such a macro index values (104 and 105) as the degree of stress of the organization by a process (103) minimizing the energy. - 特許庁

磁性物質からなる試料より外部に漏洩する磁場中ヘ電子線を入射し、前記磁場が漏洩していない空間中に形成された電子線の位相のズレが最小となる条件で、前記磁場が漏洩している空間中を通過する電子線の位相分布を電子線ホログラフィーを用いて検知することにより前記試料の漏洩磁場分布を求める。例文帳に追加

An electron beam is injected into a magnetic field that is leaked outside from a specimen comprising a magnetic material, and a phase distribution of the electron beam passing through a space with the leaked magnetic field is detected using the electron holography in a condition where a phase shift of the electron beam formed in the space without the leaked magnetic field is minimum, thereby obtaining distribution of the magnetic field leaked from the specimen. - 特許庁

そして、予め求めた上下加速度に対する接触力の周波数応答関数Ｈ´（ω）の計算結果と、走行中の車両における実測データを用いた車体上下加速度とパンタグラフ接触力の周波数応答関数Ｈ（ω）の計算結果との誤差が最小となるような、トロリ線の機械インピーダンスを推定する。例文帳に追加

A mechanical impedance of the trolley wire is estimated for minimizing the error between a calculation result of a frequency responding function H'(ω) of the contact force to a previously determined vertical acceleration and a calculation result of the frequency responding function H(ω) between the car body vertical acceleration using measured data of the running vehicle and the pantograph contact force. - 特許庁

ＴｉＯ_２を含有するシリカガラスからなり、屈折率の変動幅（Δｎ）が、光の入射方向に垂直な面において２×１０^−４以下であること、または、ＴｉＯ_２濃度が１質量％以上であるＴｉＯ_２を含有するシリカガラスからなり、光の入射方向に垂直な面において、ＴｉＯ_２濃度の最大値と最小値との差が、０．０６質量％以下である特徴とするＥＵＶリソグラフィ用光学部材。例文帳に追加

The silica glass constitutes the optical member for EUV lithography of ≤0.06mass% in the difference between the maximum value and minimum value of the TiO_2 concentration at the face perpendicular to an incident direction of light. - 特許庁