「絶縁物」に関連した英語例文の一覧と使い方(162ページ目) - Weblio英語例文検索

少なくとも表面が絶縁性である基板３６上に銅層（銅配線）４０ａを形成し、該銅層（銅配線）４０ａをリン化銅、ホウ化銅、シュウ化銅のうちから選択されるいずれかの銅化合物層４０ｂによって被覆したことを特徴とする電子機器用基板３１を用いた液晶表示装置（電子機器）３０。例文帳に追加

A liquid crystal display device (electronic equipment) 30 uses the substrate 31 for electronic equipment characterized in that a copper layer (copper wiring) 40a is formed on a substrate 36 having insulating property at least on its surface and coated with a copper compound layer 40b of a copper compound selected out of copper phosphide, copper boride, and copper bromide. - 特許庁

絶縁表面上に膜厚が１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の第１の材料膜（六方晶の結晶構造を有する膜）を形成し、第１の材料膜を核として、六方晶の結晶構造を有する第２の材料膜（結晶性酸化物半導体膜）を形成し、第１の材料膜と第２の材料膜の積層を形成する。例文帳に追加

A first material film (film having a hexagonal crystal structure) is formed on an insulation surface with a film thickness of 1 nm or more and 10 nm or less and a second material film (crystalline oxide semiconductor film) having the hexagonal crystal structure is formed using the first material film as a nucleus to form a laminate of the first material film and the second material film. - 特許庁

絶縁層１上に配線パターン２ａが形成された配線層２に対し、熱硬化性樹脂を含有する接着性シート１２が多孔質膜１３に接着又はその少なくとも一部が含浸された複合シート１０を少なくとも積層した状態で、その積層物を加熱加圧又は加圧後に加熱加圧して一体化させる工程を含む配線基板の製造方法。例文帳に追加

The method for producing a wiring board comprises a step for laying a composite sheet 10, where an adhesive sheet 12 containing thermosetting resin is boded to or impregnated partially with a porous film 13, on a wiring layer 2 having a wiring pattern 2a formed on an insulation layer 1 and then integrating the multilayer by hot press or hot press following to press. - 特許庁

有機溶剤を使用しない水系の現像液で現像が可能で、基材への密着性など多層配線板の絶縁層に必要とされる諸特性に優れ、且つ、特に優れた耐熱性を持つ、回路層間接着剤用感光性樹脂組成物、及びそれを用いた信頼性の高いプリント配線板を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition for a circuit layer-to- layer adhesive developable with an aqueous developing solution using no organic solvent, excellent in various characteristics necessary for the insulating layer of a multilayer wiring board, e.g. adhesion to a substrate and having particularly superior heat resistance and to provide a high reliability printed wiring board using the composition. - 特許庁

微結晶半導体膜のうち、成膜を開始した当初に形成される結晶性の劣った層ではなく、その後に形成される結晶性の高い層においてチャネル形成領域が形成されるように、結晶性の高い層のうちゲート絶縁膜に近い層に、一導電型を付与する不純物元素を含ませる。例文帳に追加

An impurity element that gives one conductivity-type is contained in a layer closer to a gate insulating film out of highly crystalline layers so as to form a channel formation region in a highly crystalline layer to be formed later, not in a poorly crystalline layer to be formed at an initial stage when deposition is started, out of the microcrystal semiconductor films. - 特許庁

セラミック基板２の上面に金属回路板３を、下面に金属回路板３と対向するダミー金属回路板４を取着して成り、ダミー金属回路板４が伝熱性組成物６を介して放熱部材７に実装されるセラミック回路基板１であって、金属回路板３の回路間に対応するダミー金属回路板４の隙間に、ヤング率が20ＧＰａ以下の絶縁性樹脂５が充填されている。例文帳に追加

The ceramic circuit board 1 is composed of a metal circuit board 3 fixed onto the upside of a ceramic board 2 and a dummy metal circuit board 4 fixed onto the other side opposite to the circuit board 3, and the dummy board 4 is mounted on a heat radiating member 7 through a heat conductive composition 6. - 特許庁

本発明は集電体が非絶縁性の酸化物膜を形成したアルミニウムからなっているので、電解液または電極中の水分と集電体との反応を抑制することによって、電解液及び集電体の劣化を抑制し、８５℃以上での使用が可能となり、さらに長寿命特性を実現するという効果を有する。例文帳に追加

A current collector is made of aluminum having an oxide film formed, so that deterioration in an electrolyte and the current collector are suppressed by suppressing reaction between water in the electrolyte or an electrode and that the current collector provides the effect that the electric double-layer capacitor is used at ≥85°C and has long-life characteristics. - 特許庁

特定のＭＦＲを有するポリ４−メチル−１−ペンテンを含む樹脂組成物を含む絶縁層および導電体層を有する積層板が、低誘電率、低誘電正接、耐熱性、穴あけ加工性に優れ、さらに表面が滑らかで厚薄精度の安定した積層板および高周波回路用積層板を提供することができる。例文帳に追加

A laminate having an insulating layer and an electric conductor layer including a resin composition including poly 4-methyl-1-pentene having a specific MFR is excellent in low dielectric constant, low dielectric loss tangent, heat resistance, and drilling workability, and further a laminate and a laminate for a high frequency circuit having a smooth surface and stable accuracy of thickness are provided. - 特許庁

扉体９裏面に設けられたアルミニウム製の収納トレイ８上面に絶縁物であるアルミナセラミックス板７を貼付して、プリント基板６を前記アルミナセラミックス板７を介して積載した前記収納トレイ８を下部電極３の上方に所定間隔を存するように、真空チャンバー１内に扉体９を介して出し入れ可能に構成する。例文帳に追加

An insulation article alumina ceramic plate 7 is stuck on the upper face of an aluminum-made storing tray 8 provided on the rear face of a door 9, and the tray 8 placed with a printed circuit board 6 via the alumina ceramic plate 7 is set above a lower electrode 3 keeping a given space, allowing putting in and drawing out from a vacuum chamber 1 through the door 9. - 特許庁

次に、７６Ｔｏｒｒに減圧したＣＶＤチャンバ内で、上記ダイヤモンド結晶層１に、酸素ガス、水素ガス、トリメチルアルミニウムを供給し、ソース電極２とドレイン電極３との間のゲート部に厚さ８ｎｍのＡｌ（ＯＨ）_3またはＡｌ_1-x-yＯ_xＨ_y化合物からなる絶縁層４を形成する。例文帳に追加

Then, an oxygen gas, a hydrogen gas, and trimethyl aluminum are supplied to the diamond crystal layer 1 in a CVD chamber having been reduced in pressure to 76 Torr to form an insulating layer 4 of an Al(OH)_3 or Al_1-x-yO_xH_y compound at a gate portion between the source electrode 2 and drain electrode 3 into a thickness of 8 nm. - 特許庁

チャネル形成領域を具備する半導体膜と、半導体膜のチャネル形成領域上に絶縁膜を介して設けられた浮遊ゲートとを形成し、浮遊ゲートを半導体膜と仕事関数が異なる材料で設け、チャネル形成領域に不純物元素を導入することによって、書き込み電圧と消去電圧を概略同一とする。例文帳に追加

A semiconductor film having a channel forming region and a floating gate provided on the channel forming region of the semiconductor film through an insulating film are formed, the floating gate is provided by a material whose work function is different from the semiconductor film, and by introducing impurity elements to the channel forming region, a writing voltage and an erasing voltage is made roughly the same. - 特許庁

絶縁基板上に形成された非晶質あるいは粒状多結晶シリコン膜の所望の領域に、連続発振レーザ光を走査して帯状多結晶領域を形成するに際の対物レンズの熱レンズ効果発生に伴う照射レーザ光の集光ビーム形（短軸幅）の変化による結晶状態の変動を防止する。例文帳に追加

To prevent a variation of a crystal state due to a change of a collecting beam shape (width of minor axis) of radiating laser beam caused from a heat lens effect of an objective lens produced when forming a belt polycrystal, by scanning a continually oscillating laser beam onto a desired area of an amorphous or granular polycrystal silicon film formed on an insulating substrate. - 特許庁

導波路型半導体光デバイス２０は、半絶縁性基板１上に、ｎ型クラッド層２、３、ｉ型吸収層４及びｐ型クラッド層６とからなるｐｉｎ型接合構造を形成した導波路型半導体光デバイスであって、前記ｉ型吸収層における不純物濃度が１０^１６ｃｍ^−３以下である。例文帳に追加

The waveguide type semiconductor optical device 20 is a waveguide type semiconductor optical device with the pin type junction structure comprising n-type cladding layers 2, 3, an i-type absorption layer 4 and p-type cladding layer 6 formed on a semi-insulating substrate 1 wherein an impurity concentration in the i-type absorption layer is 10^16 cm^-3 or less. - 特許庁

静電容量型センサ１０は、検知対象物との間の静電容量を検知する検知電極１１と、検知電極１１の所定方向の検知をシールドするシールド電極１２と、これらの電極１１，１２を所定間隔Ｌだけ離間配置した状態で覆うとともに、ドア２の縁部２ａに取り付けられる絶縁性の被覆部材１３とを備える。例文帳に追加

A capacitance type sensor 10 includes: a sensing electrode 11 for sensing a capacitance between the electrode and an object to be sensed; a shield electrode 12 for shielding sensing of the sensing electrode 11 in a predetermined direction; and an insulative covering member 13 that covers these electrodes 11, 12 separated with a predetermined interval L and are mounted on an edge 2a of a door 2. - 特許庁

放電加工装置は、絶縁性の加工液１０と、加工液を蓄える加工槽１１と、加工槽の加工液中で加工対象物１３に放電加工を行う移動可能な加工電極１５と、加工電極の近傍に接近させて付近の加工液を振動させ波動を生じさせる超音波振動子１６を備える。例文帳に追加

This electric discharge machining device is provided with insulating working fluid 10, a machining vessel 11 storing the working fluid, a movable machining electrode 5 performing the electric discharge machining on the workpiece 13 in the working fluid in the machining vessel, and an ultrasonic vibrator 16 approached to the adjacent to the machining electrode, vibrating the working fluid nearby, and producing wave motion. - 特許庁

脂環式オレフィン重合体又は芳香族ポリエーテル重合体を含有する硬化性樹脂組成物が硬化してなる電気絶縁層の表面を、あらかじめ５０〜２５０℃に加熱し温度を保持しながらプラズマと接触させ、次いで乾式メッキし、次いで湿式メッキ又は乾式メッキすることによって、導電体層を形成することを含む多層回路基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

In the manufacturing method of the multilayer circuit board, the surface of the electrical insulating layer, where a curing resin composition containing an alicyclic olefin polymer or aromatic series polyether polymer is cured is heated to 50-250° for retaining the temperature and brought into contact with plasma, then is subjected to dry plating, and then wet plating or dry plating, thus forming the conductor layer. - 特許庁

多層プリント配線基板を構成する基板、接続ピン、絶縁層等の材料を環境、リサイクル性を考慮した材料としてポリカーボネート、ポリエチレン、ポリフェニレンサルファイド、フッ素樹脂等の熱可塑性樹脂、あるいは、脂肪族ポリエステル、セルロース混合物、乳酸、デンプン等の生分解性樹脂によって構成する。例文帳に追加

The materials for boards, connecting pins, insulating layers and the like, which constitute a multilayer printed wiring board, are constituted of a thermoplastic resin, such as a polycarbonate, a polyethylene, a polyphenylene sulfide and a fluororesin, or a biodegradable resin, such as an aliphatic polyester, a cellulose mixture, a lactic acid and a starch, as a material formed in consideration of a recycle property. - 特許庁

半導体装置は、埋め込み酸化膜によって支持基板から絶縁分離されるとともに、埋め込み酸化膜にまで達する厚さを有するフィールド酸化膜によって、第１および第２の領域を含む複数の領域に分離された活性層を有するＳＯＩ基板の、第１の領域に形成された不純物拡散領域をドレイン領域とするＭＯＳトランジスタと、第１の配線層とを有する。例文帳に追加

The semiconductor device includes: an MOS transistor whose drain region is an impurity diffusion region formed in the first region of the SOI substrate with an active layer insulated and separated from a support substrate by a buried oxide film and separated into a plurality of regions including the first and the second regions by a field oxide film having a thickness reaching the buried oxide film; and a first wiring layer. - 特許庁

アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）及び感光剤（Ｂ）を含む層間絶縁膜用感光性樹脂組成物であって、前記アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）が酸性基含有構成単位（ａ１）、架橋性基含有構成単位（ａ２）及びアルコキシシリル基含有構成単位（ａ３）を含む共重合体（Ａ１）を含む。例文帳に追加

The photosensitive resin composition for the interlayer dielectric comprises an alkali-soluble resin component (A) and a photosensitive agent (B), wherein the alkali-soluble resin component (A) comprises a copolymer (A1) comprising a constitutional unit (a1) containing an acidic group, a constitutional unit (a2) containing a crosslinking group and a constitutional unit (a3) containing an alkoxysilyl group. - 特許庁

本発明は窒化物半導体発光素子及びその製造方法に関し、本発明による発光素子は望まぬ方向に向かって消失される光を効果的に集束させ、発光効率を極大化させるばかりでなく、素子の側面にまで形成された電気的絶縁層により保護されるのでESD特性を大幅に向上させることができる。例文帳に追加

To maximize light-emitting efficiency by effectively converging light that is lost toward an undesired direction and to remarkably improve ESD characteristics by protecting an element by an electrically insulating layer formed to side surfaces of the element. - 特許庁

電気的に絶縁性のキャリア液中にトナーを分散させた電子写真用液体現像剤において、トナーは、着色剤としてＣｏｌｏｒ Ｉｎｄｅｘ Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １８０に分類される化合物及び（又は）その誘導体を含むとともに、体積平均粒径が０．５μｍ〜５μｍである電子写真用液体現像剤。例文帳に追加

In an electrophotographic liquid developer by disperding a toner in an electrically insulating carrier liquid, the electrophotographic liquid developer is constituted in such a way that the toner contains a compound and/or the derivative classified into Color Index Pigment Yellow 180 as a coloring agent and the volume average particle size is 0.5 μm to 5 μm. - 特許庁

それぞれアンテナ６に一体にして接続され、かつ、アンテナ６のループ長さ方向に間隔を取って配置された複数のアンテナ側の面状導体７と、それぞれ絶縁物質Ａを介してアンテナ側の面状導体７に対応配置されて互いに非接続の独立したパターンである複数の対向側の面状導体８とからなるキャパシタンス調整手段３を備える。例文帳に追加

This antenna is provided with a capacitance control means 3 composed of a plurality of antenna side planar conductors 7 individually and integrally connected to the antenna 6 and arranged with intervals in the loop length direction of the antenna 6 and a plurality of opposite side planar conductors 8 of mutually non-connected independent patterns respectively arranged corresponding to the antenna side planar conductors 7 through an insulating material A. - 特許庁

ポリオレフィン系重合体と二重結合を有する重合体とが架橋してなる架橋物を含有する多孔質フィルムよりなり、炭酸エチレン／炭酸エチルメチル＝１／２（重量比）の混合溶媒を含浸させたときの断面厚み方向の絶縁破壊強度が５０ＫＶ／ｍｍ以上である非水電解液電池用セパレータ。例文帳に追加

The non-aqueous electrolyte separator is made of a porous film that contains a cross-linking substance made by cross-linking polyolefine system polymer and a polymer having a double bond and that has a dielectric breakdown of 50 kV/mm or more in the direction of sectional thickness during impregnation of a mixed solvent made of carbonic acid ethylene/carbonic acid ethylmethyl = 1/2 (weight ratio). - 特許庁

積層物の一体化工程を同時に行うことで、積層数の多い多層配線基板でも簡易に製造でき、得られる多層配線基板も、絶縁層間の接着強度の問題や積層の位置合わせ精度の問題が生じにくい多層配線基板の製造方法、及びそれによって得られる多層配線基板を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a multilayer wiring substrate, with which even a multilayer wiring substrate having a high count of laminated layers can be easily manufactured by simultaneously performing a unifying process to form a laminate, and problems on adhesion strength between insulating layers and problems on aligning accuracy in lamination hardly occur in the obtained multilayer wiring substrate, and to provide a multilayer wiring substrate obtained by the method. - 特許庁

本デバイスは、下の基板で生成されたキャリアを分離するために埋込み絶縁物を利用して高帯域幅を、Ｇｅ吸収層を利用して広いスペクトルにわたった高量子効率を、薄い吸収層および狭い電極間隔を利用して低電圧動作を、さらに平面構造およびIV族吸収材料の使用によってＣＭＯＳデバイスとの共存性を、達成する。例文帳に追加

The device achieves high bandwidth by utilizing a buried insulating layer to isolate carriers generated in the underlying substrate, high quantum efficiency over a broad spectrum by utilizing the Ge absorbing layer, low voltage operation by utilizing a thin absorbing layer and narrow electrode spacings, and compatibility with CMOS devices by virtue of its planar structure and use of the group IV absorbing material. - 特許庁

炉壁を貫通して取付けられるＭｏＳｉ_２製棒状ヒーターにおいて、端子部に純度が高く低抵抗のＭｏＳｉ_２を、発熱部に絶縁性酸化物等を含有する高抵抗ＭｏＳｉ_２を使用し、かつ端子部の径を小さくして端子部の熱放散を抑制したことを特徴とする均熱性に優れたＭｏＳｉ_２製モジュールヒーター。例文帳に追加

For the rod-shaped heater made of MoSi2 mounted by penetrating a furnace wall, MoSi2 with high purity and low resistance is used for a terminal part, and MoSi2 including an oxide with insulation property with high resistance is used for a heat radiation part, and hat radiation at terminal part is restrained by making the radius of the terminal part small. - 特許庁

二酸化炭素冷媒と共に用いた場合に、潤滑性、シール性、冷媒相溶性、熱・化学的安定性、電気絶縁性等をバランスよく十分に満足し、圧縮機の潤滑不良や冷凍効率の低下を十分に防止することが可能な冷凍機油、並びにその冷凍機油を用いた冷凍機用流体組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a refrigerating machine oil having sufficiently satisfactory lubricity, sealing performance, compatibility to refrigerant, thermal and chemical stability, electrical insulation, etc., in balanced state in the case of using together with carbon dioxide refrigerant and capable of sufficiently preventing the deficient lubrication of a compressor and the lowering of the refrigeration efficiency and to provide a fluid composition for refrigerating machine using the refrigerating machine oil. - 特許庁

ＨＦＣ冷媒及び二酸化炭素やハイドロカーボン等の自然系冷媒と共に用いた場合に、潤滑性、熱・加水分解安定性、冷媒相溶性、電気絶縁性等の要求性能全てをバランスよく十分に満たし、冷凍システムの効率の向上と高い信頼性の維持とを可能にする冷凍機油組成物を提供すること。例文帳に追加

To obtain a refrigerating machine oil composition which sufficiently meets all required performances such as lubricity, heat/hydrolysis stability, refrigerant compatibility, and electrically insulating properties well in balance when used together with a hydrofluorocarbon(HFC) refrigerant or a natural refrigerant such as carbon dioxide and a hydrocarbon, and enables the improvement of the efficiency of a refrigerating system and the high reliability maintenance. - 特許庁

酸化ジルコニウムからなる絶縁体膜５５上にジルコニウムからなる密着層５６を形成する工程と、密着層５６上に第１電極６０を形成する工程と、第１電極６０上にビスマスを含む複合酸化物からなる圧電体層７０を形成する工程と、圧電体層７０上に第２電極８０を形成する工程と、を具備する。例文帳に追加

A manufacturing method of a piezoelectric element comprises: a step of forming an adhesion layer 56 composed of zirconium on an insulator film 55 composed of zirconium oxide; a step of forming a first electrode 60 on the adhesion layer 56; a step of forming a piezoelectric layer 70 composed of complex oxide containing bismuth on the first electrode 60; and a step of forming a second electrode 80 on the piezoelectric layer 70. - 特許庁

浸水検知構造３１は、金属保護管３２と、この金属保護管３２の内部に収納される複数本の浸水検知機能付きケーブル３３と、金属保護管３２の外側を覆う絶縁物３４と、金属保護管３２に接続される接地線３５と、この接地線３５に接続される電流検出手段３６とを備えて構成されている。例文帳に追加

The water infiltration detection structure 31 is composed of a metal protecting tube 32, a plurality of cables with water infiltration detection function 33 housed inside the metal protecting tube 32, an insulator 34 covering an outside of the metal protecting tube 32, a grounding wire 35 connected to the metal protecting tube 32, and a current detecting means 36 connected to the grounding wire 35. - 特許庁

透明性、滑り性、耐摩耗性に優れ、磁気記録媒体用、電気絶縁用、一般工業用、食品包装用等に好適に使用でき、特には食品包装用および飲料、食料用金属缶等のための金属板貼り合わせ用フィルムとして好適なフレーバ性、接着性、耐衝撃性等の各種特性を兼備したポリエステル組成物を得る。例文帳に追加

To provide a polyester composition which is excellent in transparency, slipperiness and wear resistance, can be used adequately for magnetic recording media, electrical insulation, general industries, food packaging and the like, and particularly combines various characteristics such as flavoriness, adhesion and impact resistance suitable as a film for food packaging and a metal plate laminating film for metallic cans for beverages and foods. - 特許庁

この半導体膜２２１は、ゲート絶縁膜１０５上の上記積層膜の一部からなる第１導電型領域１１１と、第２導電型の浅いウェル領域１０４の接続領域１２０上の第２の半導体薄膜１０７からなる第２導電型領域１１２と、それらの間に位置する上記積層膜からなる非不純物導入領域１１７とからなる。例文帳に追加

The semiconductor film 221 comprises: a first conduction type region 111 composed of part of the laminated film on a gate insulation film 105; a second conduction type region 112 composed of the second semiconductor thin film 107 on a connection region 120 of a second conduction type shallow well region 104; and a non impurity introducing region 117 composed of the layered film placed between them. - 特許庁

半導体シリコン基板上に形成した配線に起因する不良原因を解析する半導体装置の不良解析方法において、下層配線２や上層配線４との間で高いエッチング選択比を有するエッチングガス（例えば、ＣＨＦ_3）を用いて、半導体シリコン基板上の層間絶縁膜３をエッチング除去して、不良原因（異物５）を解析する。例文帳に追加

In the failure analysis method of a semiconductor device for a failure cause made by wiring formed on a semiconductor silicon board, a layer insulation film 3 is etched and removed on the semiconductor silicon board by using etching gas (for instance, CHF3) having a high etching selection ratio between a lower layer wire 2 and upper layer wiring 4, and the failure cause (foreign matter 5) is analyzed. - 特許庁

ＬＤＤ構造を有するＭＯＳトランジスタのソース・ドレイン領域の形成において、Ｐ型シリコン基板１０１上にゲート絶縁膜１０２を介して、ゲート電極１０３を形成後、ゲート電極１０３等をイオン注入マスクとして、イオン注入を行い、さらに熱処理によって、ｎ−低濃度不純物領域１０６を形成する。例文帳に追加

In a method of manufacturing a semiconductor device, when forming source and drain regions of a MOS transistor having LDD structure, after forming a gate electrode 103 on a p-type silicon substrate 101 via a gate insulation film 102, ion injection is performed with the gate electrode 103 and the like being an ion injection mask, and an n-type low concentration impurity region 106 is formed by thermal treatment. - 特許庁

上下に配置しているガラス１１２，１１４の間に、ＰＥＭ（固体高分子イオン伝導膜）１６０，触媒電極１５２，１５４，ＳｉＯ_２又はＳｉ_３Ｎ_４の絶縁膜１４０，ポーラス（多孔性）であるシリコン又はシリコン酸化物のガス拡散層１３０，シリコン層１２０で、燃料電池を構成している。例文帳に追加

The fuel cell is constructed by glass sheets 112, 114 arranged at the top and the bottom, and a PEM (solid polymeric ion-conductive membrane) 160, the catalyst electrodes 152, 154, an insulating film 140 composed of SiO_2 or Si_3N_4, a porous gas diffusing layer 130 composed of silicon or silicon oxide and a silicon layer 120 arranged between the glass sheets. - 特許庁

フレキシブルプリント配線板用ソルダーレジストやエレクトロルミネッセントパネル用保護膜に有用な、加水分解性が低く、はんだ耐熱性、耐薬品性、密着性、電気絶縁性等に優れ、ハロゲンフリーで安定した難燃性を有し、かつ耐屈曲性に優れ、硬化後の反りが少ない熱硬化性組成物、及びハロゲンフリーで安定した難燃性を有する硬化塗膜を提供する。例文帳に追加

To provide a thermosetting composition useful for a solder resist for flexible print circuit boards and a protective coat for electroluminescent panels, having low hydrolyzability, excellent in solder heat-resistance, chemical resistance, adhesiveness, electric insulation and the like, having halogen-free stable flame-resistance, excellent in flexing resistance and causing little warpage after curing, and to provide a halogen-free cured film having stable flame resistance. - 特許庁

従来、絶縁性の高い熱可塑性樹脂に帯電防止性を付与する方法では、永久帯電防止性、耐水性および機械特性等を共に満足する成形品を得ることができなかったため、成形性に優れ、優れた永久帯電防止性、耐水性および機械特性を有する成形品を与える帯電防止性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an antistatic resin composition being excellent in moldability and giving a molded product that excels in permanent antistatic property, water resistance and mechanical characteristics, whereas a conventional method for providing an antistatic property for a highly insulative thermoplastic resin heretofore has not produced a molded product that satisfies all of a permanent antistatic property, water resistance, mechanical characteristics and the like. - 特許庁

半導体基板表面にＰ型領域を形成する工程と、該Ｐ型領域上にＡｌ電極を形成する工程と、該Ａｌ電極と接し、Ａｌと比較してＳｉと反応しづらい物質からなる層間膜を形成する工程と、該層間膜上にＳｉを含有する半絶縁性膜を形成する工程とを備えることを特徴とする。例文帳に追加

This method of manufacturing the semiconductor device includes processes of: forming a P-type region on a surface of a semiconductor substrate; forming an Al electrode on the P-type region; forming an interlayer film contacting with the Al film and formed of a substance hardly reacting with Si relative to Al; and forming a semi-insulating film containing Si on the interlayer film. - 特許庁

本願発明の課題は、感光性を有するため微細加工が可能であり、希アルカリ水溶液で現像可能であり、低温（２００℃以下）で硬化可能であり、柔軟性に富み、電気絶縁信頼性、ハンダ耐熱性、耐有機溶剤性に優れ、硬化後の基板の反りが小さく、封止剤との密着性に優れる感光性樹脂組成物を提供することにある。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition that can be micro-processed since it has photosensitivity, is developable with a diluted alkali aqueous solution and curable at a low temperature (200°C or lower), has high flexibility, excellent electric insulation reliability, solder heat resistance and organic solvent resistance, has little warpage of a substrate after being cured and excellent adhesiveness with a sealing agent. - 特許庁

絶縁性基板１上に多結晶ＩＶ族半導体層２を堆積したのち、少なくともソース・ドレイン形成領域及びチャネル形成領域にＩＶ族元素或いは希ガス元素３のいずれかをイオン注入してアモルファス化したのち、アモルファス化したＩＶ族半導体層４のソース・ドレイン形成領域に導電型決定不純物５をイオン注入する。例文帳に追加

A polycrystalline group IV semiconductor layer 2 is deposited on an insulating substrate 1, ions of any one of group IV element or rate gas element 3 are implanted at least into a source/drain formation region and a channel formation region in the layer to amorphize the region, and then ions of conduction type determining impurities 5 are implanted into the amorphized source/drain formation region of the group IV semiconductor layer 4. - 特許庁

バルク基板をエッチングして少なくとも一つのフローティングボディーパターンを形成する第１工程と、フローティングボディーパターン下部のバルク領域をエッチングして、バルク基板を基板領域とフローティングボディー領域とに分離する第２工程と、フローティングボディー領域と基板領域との間を絶縁物質で満たす第３工程と、を含む半導体基板の製造方法。例文帳に追加

The manufacturing method includes: a first step to etch a bulk substrate so as to form at least one floating body pattern; a second step to etch a bulk area beneath the floating body pattern so as to divide the bulk substrate into a substrate area and a floating body area; and a third step to fill an area between the floating body area and the substrate area with an insulating material. - 特許庁

陰極となる第一の電極を形成した後で、膜厚の薄い第二の絶縁膜を間に挟み仕事関数の小さい材料からなる緩衝層を設けることで、有機化合物層へのキャリアの注入性を向上させることができるだけでなく、緩衝層から生じるアルカリイオンがＴＦＴの特性に影響を与えるのを防ぐことができる。例文帳に追加

This device is provided with a buffer layer consisting of a material having a work function with a second insulating film of a small film thickness in-between after first electrodes acting as cathodes are formed, by which not only the carrier implantability to an organic compound layer can be improved but the influence to be exerted by the alkaline ions generated from the buffer layer on the characteristics of the TFTs can be prevented. - 特許庁

外観が黒色であり、プリント配線板としてガラス転移点（Ｔｇ）の低下を起こさず、かつ絶縁性及び信頼性の低下がなく、蛍光を検知する方式による外観検査が可能な積層板を製造するために好適な熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、金属張り積層板およびプリント配線板を提供する。例文帳に追加

To provide a thermosetting resin composition which has a black external appearance, does not cause the lowering of the glass transition point (Tg) as a printed wiring board and does not decrease electrical insulating properties and reliability, and is suitable in producing a laminate enabling the examination of external appearance by the system of detecting fluorescence, a prepreg, a metal-clad laminate and a printed wiring board. - 特許庁

窒化アルミニウムを主成分とする耐熱性電気絶縁性の基板２と；基板２上に印刷形成される発熱体３と；発熱体３に電気的に接続されて、ガラスおよび無機酸化物を１〜１０重量％含有させた導体により基板２上に印刷形成される一対の電極４ａ，４ｂと；を具備している。例文帳に追加

This fixing heater includes the heat resistant electrical insulative substrate 2 which essentially consists of aluminum nitride; a heating element 3 which is formed by printing on the substrate 2 and a pair of the electrodes 4a and 4b which are electrically connected to the heating element 3 and are printed and formed on the surface of the substrate 2 by conductors incorporated with 1 to 10 wt.% glass and organic oxide. - 特許庁

静電容量の温度特性がＢ特性、Ｘ７Ｒ特性を満足し、室温における４ｋＶＤＣ／ｍｍ印加時の絶縁抵抗と静電容量の積が１００００Ω・Ｆ以上であり、薄層化しても信頼性に優れた、積層セラミックコンデンサ用の誘電体セラミック組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a dielectric ceramic composition for laminated ceramic capacitor having such a capacitance that its temperature characteristic meets the B characteristic and X7R characteristic and the product of the capacitance and insulation resistance, when 4 kV Dc/mm is impressed upon the composition at a room temperature becomes ≥10,000 Ω.F and has high reliability even when the thickness of the composition is reduced. - 特許庁