「Alignment」に関連した英語例文の一覧と使い方(275ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent display unevenness and image persistence caused by a material directly brought into contact with the liquid crystal layer or the alignment layer such as a coloring layer material in the liquid crystal display device using an array substrate having switching elements, coloring layers and pixel electrodes on the same substrate.例文帳に追加

スイッチング素子、着色層および画素電極を同一基板上に有するアレイ基板を用いた液晶表示装置において、着色層材料など液晶層または配向膜と直接接する材料に起因して、表示むら、焼き付きを防止する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a thin film transistor in which alignment precision of a gate electrode, a source electrode and a drain electrode is enhanced without using an expensive deposition lift-off step, and overlap of the source electrode and drain electrode is reduced for the gate electrode.例文帳に追加

蒸着リフトオフという高価な工程を使用せずに、ゲート電極、ソース電極およびドレイン電極の位置合わせ精度を向上させ、ゲート電極に対するソース電極およびドレイン電極の重なりを小さい薄膜トランジスタ製造方法の提供。 - 特許庁

Alternatively, by providing an opening portion of a colored layer (color filter) with an opening so as to overlap with a contact hole, uneven alignment of liquid crystal molecules does not influence display, and a liquid crystal display having high image quality can be provided.例文帳に追加

あるいは、開口を有する着色層（カラーフィルター）の開口部分をコンタクトホールと重なるように配置することによって、配向が乱れた液晶分子の影響が表示に反映されないため、高画質の液晶表示装置を提供することができる。 - 特許庁

To provide a light generation device in which, when a semiconductor laser, an optical component and an optical waveguide constituting the light generation device are mounted and fixed onto a substrate, mutual alignment of each of the semiconductor laser, the optical component and the optical waveguide can be accurately performed.例文帳に追加

光発生装置を構成する半導体レーザ、光学部品及び光導波路を基板上に搭載固定するに際して、各半導体レーザ、光学部品及び光導波路相互間の位置合わせを精度良く行うことが可能な光発生装置を提供する。 - 特許庁

The flow probe has two sensors (preferably thermistors), it is designed to provide detection results in the gas stream temperature and flow rate, and its shape and alignment decrease the occurrence of condensation on the sensors and enable accurate measurement.例文帳に追加

流量プローブは、２つの（サーミスタであるのが好ましい）センサを備え、ガス流の温度及び流量の検出結果を提供するように設計され、プローブの形状をよび整列が、センサ上での凝結の発生を減少させて正確な測定を可能にしている。 - 特許庁

A polymerizable liquid crystal is filled in grating grooves formed to have predetermined dimensions, and thereafter, the polymerizable liquid crystal is cured to form a uniaxial polymer liquid crystal layer having an orientation direction identical to the longitudinal direction of the grating grooves without using a liquid crystal alignment film.例文帳に追加

あらかじめ所定寸法に形成した格子溝中に重合性液晶を充填し、そこで重合性液晶を硬化することで、液晶配向層を使わずに、配向方位が格子長手方向と一致した一軸性高分子液晶層を形成する。 - 特許庁

The copolymer consisting of a comparatively weekly hydrophobic recurring unit having a 1-9C hydrocarbon group at a terminal of its side chain and a hydrophilic recurring unit having a hydrophilic substituent, the substituted vinyl monomer corresponding to which is water-soluble, is used for an alignment layer.例文帳に追加

側鎖末端の炭化水素基の炭素原子数が１乃至９である比較的弱い疎水性の繰り返し単位と、対応する置換ビニルモノマーが水溶性となる親水性置換基を有する親水性繰り返し単位とのコポリマーを配向膜に用いる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel in which a pixel generating a defective connection can be relieved and a manufacturing yield can be enhanced with respect to a liquid crystal display panel in which the alignment segmenting control of a liquid crystal is performed with an MVA system.例文帳に追加

本発明は、液晶の配向分割制御をＭＶＡ方式により行う液晶表示パネルに関し、連結不良を生じている画素を救済して、製造歩留まりを向上させることができる液晶表示パネルを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a probe block of a probe device for testing a liquid crystal panel, which facilitates alignment of a probe block electrode with an electrode, has high flexibility to cope with a difference in size of a liquid crystal panel and enables a test with reliability.例文帳に追加

液晶パネル検査用のプロ−ブ装置のプロ−ブブロックにおいて、プロ−ブブロック電極３と電極１２との位置合わせし易く、液晶パネル１１の大きさの違いがあっても対応できる汎用性が高く信頼性のある検査ができるようにする。 - 特許庁

To provide a method for accurately and simply manufacturing an optical semiconductor element having a p-type side electrode only on the flat surface of the upper part of a ridge on the overall surface, without using an accurate stepper or the like and without requiring a precise mark alignment.例文帳に追加

リッジ上部の平坦面のみに、かつ、その全面に渡ってｐ側電極を有する光半導体素子を精度の高いステッパ等を用いることなく、また、精密な目合せを要せずに、精度よく且つ簡単に形成する製造方法を提供する。 - 特許庁

The number of manufacturing processes for the alignment marks for aligning the photo resist pattern for forming the active region of the high voltage semiconductor device is reduced, and failure generated when an element separating film is subsequently formed is removed in advance, so that the manufacturing processes are made easier.例文帳に追加

高電圧半導体装置の活性領域を形成するためのフォトレジストパターンをアラインするためのアラインメントマークの製造工程の数を減少させ、後続に素子分離膜を形成するときに発生する不良を事前に除去して製造工程が容易である。 - 特許庁

At the alignment unit 130, the measuring optical system emits light onto the standard wafer BW, to obtain reflection intensity and sets the obtained reflection intensity as a reference value for relative comparison with the reflection intensity of a workpiece semiconductor wafer W and carries out calibration work.例文帳に追加

アライメント部１３０では、測定光学系から標準ウェハーＢＷに光を照射して反射強度を取得し、処理対象半導体ウェハーＷの反射強度との相対比較の基準値として設定しなおし、キャリブレーション作業を行う。 - 特許庁

A mask 5 for etching having openings for forming alignment marks is formed on a support silicon substrate 1, and the substrate 1 and a silicon oxide layer 2 are etched in accordance with opening patterns 4 for forming patterns provided in the mask 5 to form a silicon membrane 3a.例文帳に追加

支持シリコン基板１上に、アライメントマーク形成用の開口を有するエッチング用マスク５を形成し、エッチング用マスクに設けられたパターン形成用開口パターン４に合わせて、支持シリコン基板、酸化シリコン層２をエッチングしてシリコンメンブレン３ａを形成する。 - 特許庁

To form an alignment mark for mask matching which is utilized when forming a MOSFET etc. in forming a trench at a first conductive semiconductor layer and epitaxially growing a second conductive semiconductor layer in it for forming a parallel pn junction structure.例文帳に追加

第１導電型半導体層にトレンチを形成し、その中に第２導電型半導体層をエピタキシャル成長させて並列ｐｎ接合構造を形成する際に、ＭＯＳＦＥＴ等の形成時に利用されるマスク合わせ用のアライメントマークを形成すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor laser for reducing capacity which is parasitic to a semiconductor laser, and solving the alignment between a mesa-shaped embedded hetero-layer (BH) that is sufficiently fined to obtain satisfactory high-frequency characteristics/demodulation bandwidth, and a contact electrode.例文帳に追加

半導体レーザに寄生する容量を低減し、良好な高周波特性・変調帯域を得るために十分に微細化されたメサ形状の埋め込みヘテロ（ＢＨ）層とコンタクト電極のアライメントを解決する半導体レーザ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor package with which alignment of a semiconductor element chip is easily done in a die bonding process, inspection for rotation and dislocation of the semiconductor element chip is easy in an inspection process, and a flow-out failure of die bonding paste is prevented.例文帳に追加

ダイボンディング工程において半導体素子チップのアライメントを行い易く、検査工程での半導体素子チップの回転や位置ズレなどの検査が容易となり、また、ダイボンディングペーストの流れ出しの不具合を防止することができる半導体パッケージを提供する。 - 特許庁

To provide an optical pickup device which is capable of assuring a desired writing output and realizing high-quality writing by decreasing the fluctuations in the output of a front photodetector element even when optical axis alignment occurs in high-output light emission of a semiconductor laser.例文帳に追加

半導体レーザーの高出力発光時に光軸ずれが発生した場合においても、前方受光素子の出力変動を低減し、所望の書き込み出力を確保するとともに高品質な書き込みを実現することができる光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁

In the method for producing a color filter, R pixel patterns 3, G pixel patterns 4 and B pixel patterns 5 are formed on a substrate 2, and simultaneously, substrate side alignment marks 6 are formed on the substrate 2 together with any of the pixel patterns 3, 4, 5.例文帳に追加

本発明によるカラーフィルターの製造方法において、基板２上にＲ画素パターン３と、Ｇ画素パターン４と、Ｂ画素パターン５とが形成され、同時にこれら画素パターン３、４、５のいずれかとともに基板２上に基板側アライメントマーク６が形成される。 - 特許庁

This process flow provides a direct body tie contact 222 to mitigate floating body effects but also eliminates hysteresis and transient upset effects common in non-direct body tie contact configurations, without the critical alignment requirements and critical dimension control of the layout.例文帳に追加

このプロセスフローは、浮遊ボディ効果を緩和するように直接ボディ・タイ・コンタクト２２２を提供するが、臨界的なアライメント要求ならびにレイアウトの臨界的な寸法制御なしで、非直接ボディ・タイ・コンタクトに共通のヒステリシスおよび過渡アップセット効果をも除去する。 - 特許庁

The method includes projecting at least two images respectively, and projecting the methodology mark on the substrate at the same time in the region outside of the combined image to measure the alignment of the methodology mark to define the relative position of at least two figure portions.例文帳に追加

方法は、少なくとも２つのイメージ部分のそれぞれを投影するのと同時に、複合イメージの区域の外側でメトロロジーマークを基板に投影し、少なくとも２つの図部分の相対的位置を求めるためにメトロロジーマークの位置合わせを測定することを含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, by which occurrence of a void or a connection failure originating in an oxide film on a solder bump surface can be suppressed without using a flux agent while maintaining alignment accuracy and connectivity between solder bumps.例文帳に追加

半田バンプ同士の位置合せ精度や接続性を維持しつつ、フラックス剤を用いることなく、半田バンプ表面の酸化膜に起因するボイドや接続不良の発生を有効に抑制することを可能にした半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The alignment processing in the pasting step is performed when a state of the pasted faces is in a meniscus absorption state where the pasted faces are attracted by a meniscus force caused by the adhesive agent contacting the facing pasted faces.例文帳に追加

貼り合わせ工程におけるアライメント処理は、貼り合わせ面同士の状態が、接着剤が対向する貼り合わせ面に接触して発生するメニスカス力により該貼り合わせ面同士同士が互いに引きつけられるメニスカス吸着状態にあるときに行われる。 - 特許庁

To form an alignment mark for mask registration which is utilized when forming a MOSFET etc. in forming a trench on a first conductivity type semiconductor layer and epitaxially growing a second conductivity type semiconductor layer in it to form a parallel pn junction structure.例文帳に追加

第１導電型半導体層にトレンチを形成し、その中に第２導電型半導体層をエピタキシャル成長させて並列ｐｎ接合構造を形成する際に、ＭＯＳＦＥＴ等の形成時に利用されるマスク合わせ用のアライメントマークを形成すること。 - 特許庁

To provide a system for observing a cornea for transplantation allowing easy confirmation of the position of the cornea for transplantation simultaneously with observation of a magnified image and facilitating alignment to obtain the magnified image and specification of the position of the obtained magnified image.例文帳に追加

移植用角膜の位置を容易にかつ拡大像の観察と同時に確認することができ、拡大像を得るための位置合わせ、及び得られる拡大像の位置の特定を容易に行うことができる移植用角膜観察システムの提供を目的とするものである。 - 特許庁

When aligning the crystal direction of the sample to an optical axis of a scanning transmission electron microscope, accurate and quick crystal direction alignment can be performed since a direction for inclining the sample can be directly determined from the shape of the electron beam diffraction image.例文帳に追加

本発明によれば、ＳＴＥＭの光軸に対して試料の結晶方位を合わせる際、試料を傾斜させるべき方向を電子線回折像の形状から直接判断することができるため、正確かつ迅速な結晶方位合せが可能となる。 - 特許庁

To provide a light emitting device for reliably performing self-alignment even when electrodes on the side of a substrate are formed by separation with respect to one element to be mounted, and also suppressing a solder ball and the void of the electrode.例文帳に追加

基板側の電極が実装する一つの素子に対して分離して形成している場合であっても、確実にセルフアライメントを行うことができると共にハンダボールの発生を抑制し、また、電極のボイドの発生を抑制することができる発光装置を提供すること。 - 特許庁

A miniature spectrum detector can be obtained which can easily detect a peak wavelength distribution included in the light of an unknown wavelength even without using any optical components such as a diffraction grating and a prism, thus eliminating the need for the optical axis alignment of a complex optical system.例文帳に追加

本発明によれば、回折格子やプリズム等の光学部品を用いなくとも、波長が未知の光に含まれるピーク波長の分布を容易に検出することができ、複雑な光学系の光軸調整不要な小型のスペクトル検出器を実現することができる。 - 特許庁

The liquid-crystal film having excellent interlaminar adhesion is obtained by homeotropically aligning a liquid-crystalline composition containing an acrylic compound having an oxetane group and then polymerizing the oxetane group to fix the homeotropic alignment directly on the COP film.例文帳に追加

オキセタン基を有するアクリル化合物を含有する液晶性組成物をホメオトロピック配向させた後、オキセタン基を重合せしめてＣＯＰフィルム上に直接ホメオトロピック配向を固定化することにより層間密着力に優れた液晶フィルムが得られる。 - 特許庁

In the optical signal processor, a basic mode diameter at a surface linked to the slab waveguide of guided wave light of the alignment light input waveguide is larger than the basic mode diameter at a surface linked to the slab waveguide of the guided wave light of a signal light input output waveguide.例文帳に追加

当該光信号処理装置は、調心光入力導波路の導波光のスラブ導波路に接続する面での基本モード径が、信号光入出力導波路の導波光のスラブ導波路に接続する面での基本モード径に比べて大きい。 - 特許庁

To provide a photolithographic process allowing reduction of an alignment error of an exposure shot formed on a wafer using a method not increasing costs, improving the accuracy of superposition between upper and lower mask patterns even when exposure devices having different shot area sizes are used together.例文帳に追加

コスト上昇を招くことのない方法によってウェーハ上に形成される露光ショットの配列誤差を低減し、ショットエリアの大きさが異なる露光装置を混用しても上下のマスクパターンの重ね合わせ精度が向上できるフォトリソ工程を提供する。 - 特許庁

Wave front aberrations at measuring points in a projection field of view of the projection optical system are measured through processing steps 117 to 123, and the amount of misalignment of a wave front sensor is detected by an image photographed by a reticle alignment detection system through steps 127 to 131.例文帳に追加

ステップ１１７〜ステップ１２３の処理によって、投影光学系の投影視野内の計測点での波面収差を計測し、ステップ１２７〜ステップ１３１において、レチクルアライメント検出系の撮像によりそのときの波面センサの位置ずれ量を検出する。 - 特許庁

To provide a technology capable of stapling paper sheets without any binding loss, binding deviation or defective alignment even when paper sheets of different widths are mixed in a paper sheet post-treatment device having the stapling function for binding a plurality of paper sheets in a stacked state.例文帳に追加

複数枚の用紙を積層した状態で綴じ合わせるステープル機能を備えた用紙後処理装置において、用紙幅が異なる用紙が混在した状態でも綴じ抜けや綴じずれ、揃え不良を発生させないでステープルができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a lens and a combination lens which can be accurately adjusted by restraining the deviation in the alignment of the optical axes of lenses caused when the lenses are combined, and a manufacturing method for the combination lens, an optical pickup device and an optical disk device on each of which the combination lens is mounted.例文帳に追加

組み合わせる際に発生するレンズの光軸のずれを抑制して高精度に調整可能なレンズおよび組み合わせレンズ、組み合わせレンズの製造方法、組み合わせレンズを搭載した光学ピックアップ装置および光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device, a method and a system for mounting solder balls which is superior in uniformity of bump height and can be applied for solder balls of various materials/sizes without requiring advanced technique for alignment of a mounting position for the solder ball.例文帳に追加

半田ボール搭載位置の位置合わせに高度な技術を要することなく、かつ、バンプ高さの均一性に優れ、更に多種多様の材料・大きさの半田ボールに適用ができる半田ボール搭載装置、半田ボール搭載方法及び半田ボール搭載システムを提供する。 - 特許庁

To provide a paper sheet stacking device capable of ensuring a space above a paper delivery tray and realizing excellent alignment with a large inclination without reducing the number of stacked paper sheets and without increasing the size of the paper delivery tray, and an image forming device having the same.例文帳に追加

排紙トレイ上方の空間を確保して用紙蓄積枚数を減らすことなく、排紙トレイを大型化することなく、大きな傾斜をつけて用紙の揃えを良くした用紙積載装置及びそれを備えた画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Considering the detected positional information on the alignment mark(s), the main controller 20 determines a target position of movement of the substrate at the time of exposing a plurality of specific zones except for the first one on the substrate by a process including statistical calculation.例文帳に追加

また、主制御装置２０は、検出されたアライメントマークの位置情報を考慮して、基板上の最初の区画領域を除く特定の複数の区画領域を露光する際の基板の移動目標位置を統計演算を含む処理により決定する。 - 特許庁

The substrates 1, 2 are placed so that the surfaces provided with the alignment layers 8, 9 are opposed to each other, and a medium prepared by adding a photopolymerizable monomer and a polymerization initiator to a negative liquid crystalline compound is injected into a material layer 3 as a region held between the substrates.例文帳に追加

そして、基板１・２の配向膜８・９を形成した面を対向させ、両基板に挟持されてなる領域である物質層３に、ネガ型液晶性化合物に光重合性モノマーおよび重合開始剤を添加した媒質を注入する。 - 特許庁

The wafer identification information is acquired by detecting the displacement amount in the reference layer when the correction amount is determined through wafer alignment treatment in the exposure process for forming the patterns of the first hierarchy and the subsequent on the wafer, and by being based on the detected result.例文帳に追加

ウエハ識別情報は、ウエハ上に形成される第一階層以降のパターンを形成する露光工程において、前記ウエハの位置合わせ処理で補正量を求める際に、基準層でのずらし量を検出し、検出結果に基づいて取得する。 - 特許庁

To provide a method for magnetoresistive effect thin film magnetic head wherein the deviation of alignment of overlap of a magnetoresistive effect element and an electrode can be eliminated, the magnetoresistive effect element is never damaged and the number of manufacturing stages can be reduced.例文帳に追加

磁気抵抗効果素子と電極との重ね合わせのアライメントずれをなくすことができ、磁気抵抗効果素子にダメージを与えることがなく、そして製造工程数を減少することができる磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

Another image processing part 2054 inverts at least one image out of a plurality of images whose positions are adjusted by the alignment processing part 2051, and places a pair of images made of an inverted image and an image, which is not inverted, to be symmetrical about a reference line.例文帳に追加

その他画像処理部２０５４は、位置合わせ処理部２０５１により位置合わせした複数の画像のうち、１つ以上の画像を反転して、反転した画像と反転していない画像とを一組として基準線を挟んで対称となるように配置する。 - 特許庁

External conductors of extra-fine coaxial cables are electrically connected with the gland bar, and fixed to the insulated housing in an alignment state, thereby allowing a center conductor exposed in front of the external conductors to be electrically connected to a center contact of a connector with ease.例文帳に追加

極細同軸ケーブルは、外部導体がグランドバーに電気接続するととともに、整列状態で絶縁ハウジングに対して固定され、外部導体の前方に露出する中心導体を容易にコネクタの中心コンタクトへ電気接続させることができる。 - 特許庁

In addition, preferably, the joints 15 are formed in a line so as to be each positioned at regular intervals in alignment with each other, and the open hole 16 is formed between the front and rear joints 15 adjacent to each other in each line.例文帳に追加

各接合部１５が一定の間隔をおいて一直線上に位置するように該接合部１５を列状に形成すると共に、その列を多列に形成し、各列において、前後隣り合う接合部１５間に開孔１６を形成することも好ましい。 - 特許庁

In wafer exposure (lot processing), a smaller number of alignment marks are detected in a step 608 or 606 to obtain the strain of the wafer, and the plurality of predetermined (conditions for) models are selected based upon rough results thereof in a step 618.例文帳に追加

そして、ウエハ露光（ロット処理）時には、ステップ６０８又は６０６において少ない数のアライメントマークを検出してウエハの歪みを求め、ステップ６１８においてそのラフな結果に基づいて予め決定された複数のモデル（に対する条件）を選択する。 - 特許庁

Therefore, the recognition pattern can be picked up through the detection window, so that an alignment accuracy between the circuit forming body and electronic component can be improved and the electronic component can be also mounted in high density, permitting the improvement of productivity and reduction of cost.例文帳に追加

よって、上記検出用窓を通して上記認識用パターンを撮像できるので、上記回路形成体と上記電子部品との位置合わせ精度が上がり電子部品の高密度実装が可能となり、生産性の向上、コストダウンを図ることができる。 - 特許庁

An optical compensation layer 43 which has optical anisotropy and has a slow axis 43a along a direction approximately orthogonal to an alignment direction in displaying in black, of liquid crystal molecules LC in a corresponding position is disposed between either one of an array substrate 15 or a counter substrate 16 and a liquid crystal layer 17.例文帳に追加

アレイ基板15と対向基板16とのいずれか一方と液晶層17との間に、光学異方性を有し対応する位置での液晶分子LCの黒表示時の配向方向と略直交する方向に遅相軸43aが沿う光学補償層43を配置する。 - 特許庁