「Beam Forming」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a charged particle beam exposure method and a device, where image forming conditions can be efficiently corrected on shape astigmatism caused by a pattern distribution difference between sub-fields in a charged particle beam exposure method of a split transfer system, and resultantly, a pattern of high resolution and high accuracy can be projected for exposure and transferred.例文帳に追加

分割転写方式の荷電ビーム露光において、各サブ・フィールド内のパターン分布の相違に起因する形状非点収差等の結像条件の補正を効率良く実行でき、結果的に高解像・高精度のパターン転写露光を実現できる荷電ビーム露光方法及び荷電ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

In forming a modified part 11 formed of a non-magnetic or weak-magnetic material by preparing a hollow member 1 formed of a magnetic material, and irradiating the beam 13 on a part of its outer circumferential surface 15 while adding a modifying material 12, the beam irradiation is conducted while feeding the non-oxidizing shield gas 14 inside the hollow member 1.例文帳に追加

磁性材料の中空部材１を準備し，その外周面１５の一部に改質材料１２を添加しつつビーム１３を照射して，非磁性または弱磁性材料よりなる改質部１１を形成するに当り，ビーム照射は，中空部材１の内部に非酸化性のシールドガス１４を供給しながら行なう。 - 特許庁

To prevent the occurrence of abnormal images resulting from abnormal light emission when there is no input of an image signal in a light emission control means, in an image forming device provided with a light beam generating means and a light emission control means for making the light beam generating means emit light corresponding to the input image signal.例文帳に追加

光ビーム発生手段と、入力される画像信号に応じて光ビーム発生手段を発光させる発光制御手段とを備えた画像形成装置において、画像信号が発光制御手段に入力されていないときの異常発光に起因する異常画像の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a multilayered laminated resin film which is suitable to be used as lotteries or the like and which, when irradiated with a laser beam, absorbs the energy of the laser beam, is carbonized, and develops color, thus enabling distinct laser printing to be performed and forming a printed image which does not undergo external influence after printing and is protected from alteration, forgery, etc.例文帳に追加

レ−ザ−光線照射により、そのエネルギ−を吸収し、炭化、発色して鮮明なレ−ザ−印字が可能であると共に印字後の印字画像が外的影響を受けることなく、その改変、偽造等を防止することができ、例えば、籤等の用途に適する多層積層樹脂フィルムを提案することである。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE ON SUBSTRATE, METHOD FOR FRACTURING OR MASK DATA PREPARATION FOR CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY, METHOD AND SYSTEM FOR FORMING A PLURALITY OF CIRCULAR PATTERNS ON SURFACE, AND SYSTEM FOR FRACTURING OR MASK DATA PREPARATION TO BE USED IN CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY例文帳に追加

半導体装置を基板上に製造するための方法、荷電粒子ビームリソグラフィのための断片化またはマスクデータ準備のための方法、複数の円形パターンを表面上に形成するための方法およびシステム、ならびに荷電粒子ビームリソグラフィで用いるための断片化またはマスクデータ準備のためのシステム - 特許庁

The imaging apparatus comprises a spot diameter altering apparatus 2 for forming a latent image corresponding to an output image by scanning on the circumferential surface of a photosensitive drum 4 with a laser beam and altering the spot diameter of the laser beam arriving at the photosensitive drum 4 based on image information concerning to the output image.例文帳に追加

本発明に係る画像形成装置は、感光体ドラム４の周面上にレーザー光を走査させることにより出力画像に対応した潜像を形成し、感光体ドラム４に到達するレーザー光のスポット径を前記出力画像に関する画像情報に基づいて変更するスポット径変更装置２を備えている。 - 特許庁

The image forming apparatus has a function for correcting the scanning length in a main scanning direction due to the laser beam of the semiconductor laser among two semiconductor lasers becoming same to the scanning length in the main scanning direction on the basis of the laser beam of one semiconductor laser among two semiconductor lasers according to a correction condition.例文帳に追加

画像形成装置においては、補正条件に従って、２つの半導体レーザのうち、１つの半導体レーザのレーザ光を基準として、該レーザ光による主走査方向の走査長に対して他の半導体レーザのレーザ光による主走査方向の走査長が同一の長さになるように補正する機能を有する。 - 特許庁

An optical amplifier integrated excitation light source is realized by forming a semiconductor laser element for outputting a plurality of laser beams of longitudinal oscillation modes containing diffraction gratings, and an optical amplifier for amplifying the laser beam generated from the laser element to output the beam to the exterior on an n-type InP substrate 1.例文帳に追加

ｎ−ＩｎＰ基板１上に、回折格子を内蔵する複数の発振縦モードのレーザ光を出力する半導体レーザ素子部と、その半導体レーザ素子部で生成されたレーザ光を増幅して外部に出力する光増幅器部とを形成することで光増幅器集積励起光源を実現する。 - 特許庁

A writing beam is emitted by a pickup 28 to a recording layer formed in the optical recording medium DSC, causing a change in the optical characteristics in the irradiated and unirradiated parts of the beam in the recording layer, and thereby forming in the medium DSC a visible image pattern suitable for discrimination, control, etc.例文帳に追加

光記録媒体DSCに形成されている記録層にピックアップ２８によって書込み光を照射し、記録層における光の照射部分と非照射部分とで光学特性の変化を生じさせることにより、識別、管理等に適した視認可能なイメージパターンを光記録媒体DSCに形成する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining apparatus, a laser beam machining method, a method of manufacturing a substrate and a method of manufacturing an electro-optical apparatus by which the drop of processing speed is suppressed by decreasing the number of stages for forming property modification zone to form a property modification zone corresponding to one cross section.例文帳に追加

本発明は、ひとつの切断面に対応する改質領域を形成するための改質領域形成工程の回数を低減して、処理速度の低下を抑制することができるレーザ加工装置、レーザ加工方法、基板の製造方法、及び電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The patterning step for applying an electron beam is provided with a correction step for changing a way of irradiation (irradiation quantity and position) of the electron beam in the respective areas where the structural body of a first wiring layer 1 forming a lower wiring structure exists, in consideration of the structural body on alignment in advance.例文帳に追加

電子線を照射するパターニング工程は、下層配線構造を形成する第一配線層１等の構造体の各々が露光に与える影響を予め考慮し、上記構造体の各々の存在領域それぞれについて、上記電子線の照射の仕方（照射量や照射位置等）を変える補正ステップを有する。 - 特許庁

The method for producing the thin film comprises the steps of: irradiating a target 81 with a laser beam through an incident window 31; making target particles 89 fly from the target 81 which has been irradiated with the laser beam; and forming the thin film 83 on a substrate 82 by depositing the target particles 89 on the substrate 82.例文帳に追加

薄膜の製造方法は、レーザ光が入射窓３１を通してターゲット８１に照射される工程と、レーザ光が照射されたターゲット８１からターゲット粒子８９が飛散する工程と、ターゲット粒子８９が基板８２上に堆積することにより、基板８２上に薄膜８３が形成される工程とを備えている。 - 特許庁

According to the SDMA(Spatial Division Multiple Access) method, a beam forming device (32) used in each base station in a GSM(Global System for Mobile communication) is designed to spatially separate many users using the same channel permitted in a cell/sector by generating proper beam patterns (26, 28) to each of the many users using the same channel.例文帳に追加

ＳＤＭＡ手法によれば、ＧＳＭネットワークの各基地局において使用されるビーム形成装置（３２）は、多数の同一チャネルのユーザの各々に適切なビームのパターン（２６、２８）を生成することにより、セルセクタ内で許容される多数の同一チャネルのユーザを空間的に分離するように設計されている。 - 特許庁

In the method for forming the foundation structure of the building in which a bedsill structure for supporting an upper building frame structure including a column and a floor panel is provided in an upper portion of a foundation beam 1 formed of concrete, the foundation beam 1 is formed by placing the concrete below the bedsill structure after the completion of the installation and positioning of the bedsill structure.例文帳に追加

コンクリートにより形成される基礎梁１の上部に、柱及び床パネルを含む上部躯体構造を支持する土台構造と備える建物の基礎構造形成方法であって、土台構造の設置及び位置調整を完了させた後、当該土台構造の下方にコンクリートを打設して基礎梁１を形成する。 - 特許庁

In this forming press for a crank shaft in which a torsional forging part and a shaping forging part are provided in the inside of one press, a torsional cylinder 20 is attached to a crown 2, pressing rods 31 are arranged along the outer surface of a slide 4, lower ends of the pressing rods 31 are mutually connected with a torsionally lowering beam and a torsionally returning beam.例文帳に追加

捩り鍛造部と整形鍛造部を１台のプレス内に設けた行うクランク軸用成形プレスであって、捩りシリンダ２０をクラウン２に取付け、押し杆３１をスライド４の外表面に沿って配置し押し杆３１の下端同士を捩り下げビーム３２および捩り戻しビーム３３で連結している。 - 特許庁

This process for producing an electrostatic capacitance-type acceleration sensor comprising a fixed electrode 4, a movable electrode 6 also serving as a weight, and a beam 5 made of metals and placing them in the direction perpendicular to a substrate, includes the step of forming the fixed electrode 4, the movable electrode 6, and the beam 5 by wet plating process.例文帳に追加

固定電極４、錘を兼ねた可動電極６、および梁５が金属からなり、基板に対して垂直方向にこれらが配置されている容量型加速度センサの製造方法であって、固定電極４、可動電極６、および梁５を湿式めっき法により形成する工程を備えている。 - 特許庁

To provide a use method of a laser beam source extremely easy and efficient in the control of the heating place and heating temperature of a resin material in a method for jointing a metal material and the resin material by heating the resin material of a jointed part to a temperature forming air bubbles with a specific size using the laser beam source.例文帳に追加

レーザ光源を用いて接合部の樹脂材料に特定の大きさの気泡を発生させる温度まで加熱することにより金属材料と樹脂材料を接合する方法において、樹脂材料の加熱場所及び加熱温度の制御が極めて容易でかつ効率的なレーザ光源の使用方法を提供する。 - 特許庁

This method for forming the coated matter has a process of conveying an object, a process of applying a coating agent to the conveyed object and a process of irradiating the object the coating agent is applied with an electron beam obtained by a vacuum tube type electron beam irradiation device substantially in succession to the process of applying the coating agent.例文帳に追加

対象物を搬送する工程、搬送された対象物に被覆剤を施す工程および当該被覆剤を施す工程に実質的に連続して、被覆剤を施した対象物に、真空管型電子線照射装置により電子線を照射する工程を有することを特徴とする被覆物形成方法である。 - 特許庁

An electron beam source is made by forming the cathode K and a first control electrode G1 on the same plane in parallel with the rear face substrate SUB 1 on a rear face substrate SUB 1, and the image display of the high brightness is obtained by installing a second control electrode G2 to focus electrons taken out of this electron beam source.例文帳に追加

背面基板ＳＵＢ１上に、陰極Ｋと第１の制御電極Ｇ１を該背面基板ＳＵＢ１と平行な同一平面上に形成して電子線源とし、この電子線源から取り出される電子を集束する第２の制御電極Ｇ２を設けることにより、高輝度の画像表示を得る。 - 特許庁

A high-resistance film is formed on the outside surface of an insulator provided with a cathode for emitting thermoelectrons and a grid for forming an electron beam by converging the thermoelectrons in this electron beam generation device, and accumulation of the thermoelectrons in the insulator is prevented and thereby discharge is prevented by carrying a minute current to the high-resistance film.例文帳に追加

電子ビーム生成装置における、熱電子を放出するカソード、及び熱電子を集束させ電子ビームを形成するグリッドが設けられた碍子の外面に高抵抗膜を設け、高抵抗膜に微小な電流を流すことにより、碍子における熱電子の蓄積を防ぎ、放電を防止する。 - 特許庁

A resistless ion implantation method is provided, wherein the ions emitted from an ion source are passed through a mask that has an aperture having substantially analogous form to a required ion implanting region for forming a molded ion beam; and this ion beam is radiated to the required regions of a wafer that have not been subjected to application of resist for implanting the ions to the wafer; and by using this wafer, ions is implanted.例文帳に追加

イオン源から放出したイオンを所望のイオン注入領域と略相似形の開口を有するマスクに通過させて成形イオンビームを形成し、該イオンビームをレジストが塗布されてないウエハの所望の領域に照射し、該ウエハにでイオン注入するレジストレスイオン注入方法。 - 特許庁

This method comprises employing a gas obtained by means of gasifying hexamethyldisilane as a material gas, and spraying the gas on a substrate in a film forming chamber, while generating an ion beam of argon from an ion source, and irradiating the substrate with the ion beam at 300 eV or less while simultaneously spraying the material gas, to form the SiC thin-film at 300°C or lower.例文帳に追加

材料ガスとしてヘキサメチルジシランを気化せしめて得たガスを用い、該ガスを成膜チャンバー内の基板上に吹き付け、一方、イオン源によりアルゴンのイオンビームを発生させ、該イオンビームを該材料ガスの吹き付けと同時に基板上に３００ｅＶ以下で照射し、３００℃以下でＳｉＣ薄膜を形成する。 - 特許庁

To record the hologram over a whole surface of the recording medium, a plurality of cylindrical wave beams for forming the reference wave beam are generated so that the whole hologram can be recorded all at once by these cylindrical wave beams, or the hologram may be arranged so as to subsequently record one by one part by using one cylindrical wave beam.例文帳に追加

記録媒体の全面に亘ってホログラムを記録するには、参照波ビームを形成する複数の円筒波ビームを発生させて、それら円筒波ビームによってホログラムの全体を一度に記録するようにしてもよく、また、１本の円筒波ビームを使用してホログラムを一部分ずつ順次記録して行くようにしてもよい。 - 特許庁

A surface modifying method for the structural material 7 is for forming the hydrophilic minute uneven surface to the surface of the structural material by continuously irradiating the surface of the structural material 7 with an electron beam 5 at a given irradiation pitch, wherein the ratio of an irradiation current/an irradiation frequency of the electron beam 5 is 0.015-0.08.例文帳に追加

構造材７の表面に電子ビーム５を所定の照射ピッチで連続的に照射することにより構造材表面に親水性の微細凹凸面を形成する構造材７の表面改質方法において、前記電子ビーム５の照射電流／照射周波数比を０．０１５〜０．０８とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the memory device that has an oxide layer formed of a resistance converted material to reduce and stabilize the reset current comprises a step of, after forming a lower electrode and an oxide layer on a lower structure, irradiating one region of the oxide layer with an electric beam or ion beam.例文帳に追加

抵抗変換物質から形成された酸化層を備えるメモリ素子の製造方法において、下部構造体上に下部電極及び酸化層を形成した後、酸化層の一領域に電子ビームまたはイオンビームを照射するステップを含むリセット電流の安定化のためのメモリ素子の製造方法である。 - 特許庁

A vibrator 201 of the vibrator device 901 is of a both-end supported beam structure made of two kind of materials, the one both-end supported beam structure being constituted by forming two mutually opposed cantilevers 220 and 221 of one material and connecting free ends of the two cantilevers 220 and 221 with the other material.例文帳に追加

振動子デバイス９０１の振動子２０１が二種類の材質からなる両端支持梁構造であり、一方の材質で互いに対向する二本の片持ち梁２２０，２２１を形成し、他方の材質で二本の片持ち梁２２０，２２１の自由端同士を連結することにより、一本の両端支持梁構造とした。 - 特許庁

In this invention, a light synthesizing unit 10 and a light receiving means 24 are structured such that the optical axis of a first synthetic light beam 21 is relatively inclined so that the image forming spot of the first synthetic light beam 21 is situated in the center of the light receiving elements 42, 42a, 42b that are installed in the light receiving means 24.例文帳に追加

本発明は、光合成ユニット１０と受光手段２４とを、第１の合成光線２１の結像スポットが前記受光手段２４に設けた受光素子４２，４２ａ，４２ｂの中心に位置するように、第１の合成光線２１の光軸を相対的に傾斜させるように構成したのである。 - 特許庁

The linearity deviation to the meandering cycle length of the reproduced signals generated due to the high density recording of the meandering patterns are corrected by changing the meandering rate of the exposing light beam in the radial direction of the tracks according to the meandering cycle of the meandering patterns when forming predetermined meandering patterns by irradiating the original plate with the exposing light beam.例文帳に追加

原盤上に露光ビームを照射して所定の蛇行パターンを形成する際に、蛇行パターンの蛇行周期に応じて、露光ビームのトラックの径方向の蛇行量を変化させることにより、蛇行パターンの高密度記録化に伴い発生する蛇行周期長に対する再生信号の直線性のずれを補正する。 - 特許庁

To provide a new configuration of electron emission element, as well as an electron source, an image forming device using the same and a manufacturing method thereof, which have the same or higher quality than a conventional electron emission element, can have an electron beam in a required form by a simple formation means, and a stable structure for preventing swing of an end of the electron beam.例文帳に追加

従来の電子放出素子と同等以上の品質を有し、簡便な作成手段にて所望の形態の電子ビ−ムが得られ、また電子ビームの端部が揺らいだりしない安定な電子放出素子の新規な構成、並びにそれを用いた電子源、画像形成装置、及びそれらの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming the thin film comprises the steps of: molding and working a pellet 15 into such a shape that one or several pieces of the pellets occupy a raw material charging space 21a of a crucible 21; charging one or several pieces of the pellets 15 which have been prepared in the molding and working step to the crucible; and irradiating the pellets with an electron beam or a laser beam.例文帳に追加

るつぼ２１の原料装入空間２１ａを、１つまたは数個によって占めるような形状のペレット１５を、成形加工する工程と、成形加工によって準備されたペレット１５を、１個または数個、るつぼに装入して照射を行う工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The optical scanner of includes a single optical deflection device, pre-deflection optical systems for making the beams of light from two or more light sources incident on the optical deflection device, and an after-deflection optical system including a 1st optical element for image-forming each beam of light reflected from the optical deflection device on a surface to be scanned for each beam of light.例文帳に追加

本発明の光走査装置は、単一の光偏向装置と、複数の光源からの光線を光偏向装置に入射させる偏向前光学系と、光偏向装置からの各反射光線を光線毎の被走査面に結像させる第１の光学素子を含む偏向後光学系とを有する。 - 特許庁

To provide a metal oxide sintered compact which is a forming material for an optical thin film having high refractive index and small light absorbance and which is used as a material for vacuum deposition, wherein the crack of the material and the depression on a beam-irradiated surface or the like are not caused even when performing irradiation with electron beam of high current.例文帳に追加

高屈折率を有する光吸収率の小さい光学薄膜用材料であり、大電流の電子ビームの照射を行っても材料の割れやビーム照射面の陥没などの起こらない真空蒸着用材料として用いることのできる金属酸化物焼結体を提供する。 - 特許庁

To arrange in order diameters of spots formed on a latent image carrying body in the main scanning direction in an image forming apparatus which focuses optical beams into a spot-like beam on the latent image carrying body to form an image while the optical beam is scanned in the main scanning direction by a vibrating deflecting mirror face.例文帳に追加

振動する偏向ミラー面によって光ビームを主走査方向に走査しながら該光ビームを潜像担持体上にスポット状に結像して画像を形成する画像形成装置において、主走査方向における、潜像担持体上に形成されるスポットの径を揃えて画像品質を高める。 - 特許庁

To improve the beam quality of a converted beam obtained after wavelength conversion and to bond a coat substrate to an optical waveguide substrate, in a wavelength conversion element for forming a wavelength conversion part in a ridge type optical waveguide of an optical waveguide substrate and bonding the coat substrate to the surface of the optical waveguide substrate.例文帳に追加

光導波路基板のリッジ型光導波路中に波長変換部を形成し、光導波路基板の表面に被覆基板を接着するタイプの波長変換素子において、波長変換後の変換光のビーム品質を向上させると同時に、被覆基板を光導波路基板に接着可能とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having sensitivity to a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam and usable in a mix and match step of exposure using at least two exposure light sources selected from a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線に対する感度を有し、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光するミックスアンドマッチ工程に使用できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having sensitivity to a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam and usable in a mix and match process where exposure is performed using at least two kinds of exposure light sources selected from a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線に対する感度を有し、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光するミックスアンドマッチ工程に使用できるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

There is provided an image forming device in which dependent beams b to d in which image density is adjusted are used by using one of a plurality of beams a to d for simultaneously scanning on a single photoreceptor by keeping a predetermined interval in a sub-scanning direction Z as a reference beam a of image density and using the other beams as the reference beam of image density.例文帳に追加

単一の感光体上を副走査方向Ｚに所定の間隔を保って同時に走査する複数のビームａ〜ｄのうち一つを画像濃度の基準ビームａとし、他を該基準ビームの画像濃度を基準として画像濃度を調整した従属ビームｂ〜ｄとした画像形成装置。 - 特許庁

To accurately inspect characteristics such as the shape or the position of an irradiated spot of a laser beam by eliminating the influence caused by relative speed and relative acceleration to the moving position or the scanning speed of a photodetector in a scanning optical system inspecting device for inspecting the scanning accuracy of the laser beam for forming an image.例文帳に追加

本発明は、画像形成などするレーザービームの走査精度を検査する走査光学系検査装置に関し、受光素子の移動位置や走査速度に対する相対速度・相対加速度による影響をなくして、レーザービームによる照射スポットの形状や位置等の特性を正確に検査可能にすることを目的とする。 - 特許庁

The method for producing nano particle-coated material comprises a coating film formation step of forming a coating film on a support by applying a coating solution containing at least nano particles capable of forming a CuAu-type or Cu_3Au-type hard magnetic ordered alloy phase and a nano particle layer formation step of forming a nano particle layer by radiating laser beam to the coating film.例文帳に追加

少なくとも、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ_3Ａｕ型硬磁性規則合金相を形成し得るナノ粒子を含有する塗布液を支持体上に塗布して塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、前記塗布膜にレーザー光を照射することでナノ粒子層を形成するナノ粒子層形成工程と、を有することを特徴とするナノ粒子塗布物の製造方法である。 - 特許庁

The outer connection electrode 2 of a semiconductor element are formed on an electrode forming surface, and the electrode forming surface mounted with the electrodes 2 is sealed up with resin in a semiconductor device manufacturing method, where a resin layer 3 is formed on the electrode forming surface, and through-holes 3a penetrating the layer 3 are provided to the resin layer 3 by a laser beam radiation corresponding to the electrodes 2.例文帳に追加

半導体素子の外部接続用の電極２が形成された電極形成面上を樹脂で封止した半導体装置を製造する半導体装置の製造方法において、電極形成面上に樹脂膜を貼付して樹脂層３を形成し、この樹脂層３にレーザ照射により電極２の位置に対応して樹脂層３を貫通する貫通孔３ａを形成する。 - 特許庁

This manufacturing method includes a process S101 for forming an etching mask material by a lithography process on a silicon substrate, a process S102 for forming a slit in the etching mask material by cutting the etching mask material formed on the silicon substrate by focused ion beam and a process S104 for forming a groove in a slit portion formed in the etching mask material by etching.例文帳に追加

電子部品の製造方法は、シリコン基板上にリソグラフィ工程によってエッチングマスク材を形成する工程Ｓ１０１と、シリコン基板上に形成されたエッチングマスク材を集束イオンビームで切断してエッチングマスク材にスリットを形成する工程Ｓ１０２と、エッチングによってエッチングマスク材に形成されたスリット部分に溝を形成する工程Ｓ１０４とを含む。 - 特許庁

This positive type photosensitive composition containing a polymer compound having a structure expressed by a specific general formula at its terminal, a photoacid-forming agent for forming an acid by the irradiation of an active beam of light or a radiation, the polymer compound used for the positive type photosensitive composition, the method for producing the polymer composition and the method for forming the pattern by using the positive type photosensitive composition are provided.例文帳に追加

末端に特定の一般式で表される構造を有する高分子化合物及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

This method comprises a step for forming an amorphous silicon layer on a substrate, a step for forming a gapping layer on the amorphous silicon layer, a step for forming a metal catalyst layer on the gapping layer, a step for selectively irradiating the metal catalyst layer with a laser beam to diffuse a metal catalyst, and a step for crystallizing the amorphous silicon layer.例文帳に追加

本発明の方法は基板上に非晶質シリコーン層を形成する段階、非晶質シリコーン層上にギャッピング層を形成する段階、ギャッピング層上に金属触媒層を形成する段階、金属触媒層にレーザービームを選択的に照射して金属触媒を拡散させる段階及び非晶質シリコーン層を結晶化する段階を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A method of manufacturing the printed wiring board comprises processes of forming a conductor circuit by pattern electroplating, with a metal foil 8 on top of insulation resin as a power supply layer, the thickness of the metal foil being 2.0 μm or below; and forming a hole 10 for interlayer connection by first forming a mask hole on the top of the metal foil and then irradiating a laser beam thereon.例文帳に追加

絶縁樹脂上にある金属箔８を給電層としてパターン電気めっきにより導体回路を作製する工程を有するプリント配線板の製造方法において、金属箔の厚みが２．０μｍ以下であり、金属箔上にマスク穴を形成した後にレーザー照射をすることで層間接続用の穴１０を形成する工程を有するプリント配線板の製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor thin film comprises steps of forming at least a semiconductor thin film on a substrate, forming an anti-reflection film pattern and a reflection film pattern on the semiconductor thin film to be adjacent to each other, and forming direction-aligned semiconductor grains in the lower part of the anti-reflection film pattern by applying a first laser beam from the above side of the substrate.例文帳に追加

この発明による半導体薄膜の製造方法は、基板上に少なくとも半導体薄膜を形成し、半導体薄膜上に反射防止膜パターン及び反射膜パターンを互いに隣接するように形成し、基板上方から第１レーザを照射して反射防止膜パターンの下部に方向性の揃った半導体粒を形成する工程を備える。 - 特許庁