「Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(284ページ目) - Weblio英語例文検索

The defect removing device 1 condenses laser beams 32 into the water column 31, applies condensed laser to the coloring agent 27 in the defective region 55 as a water column laser 33, allows the coloring agent 27 to flow out by dissolving the same and, thereby, removes the same.例文帳に追加

欠陥除去装置１は、水柱３１中にレーザ光３２を集光して水柱レーザ３３として欠陥領域５５の着色剤２７に照射し、当該着色剤２７を溶解流出させて除去する。 - 特許庁

Thereby, only a real defect excluding the part where patterns are joined (false defects) is left in the part where defects are detected by the comparing inspection, which lessens works for deciding defects by an operator and reduces the inspection time for the mask.例文帳に追加

これにより、比較検査で得られた欠陥検出部には、描画繋ぎ部分（擬似欠陥）を除いた正真の欠陥だけが残されるので、作業者の欠陥判定の負担を軽くすることができ、マスクの検査時間を短縮できる。 - 特許庁

To provide an optical disk having high reliability by preventing prepit from generating noise by forming the prepit signals around the inner peripheral side wall surfaces of land regions in order to avert the molding defect which arises on the inner peripheral side wall surface.例文帳に追加

ランド領域の内周側壁面に生じる成形不良を抑制すべく、内周側壁面を中心にプリピットを形成することで、プリピット信号のノイズ発生を防止して信頼性の高い光ディスクを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a semiconductor integrated circuit, to particularly provide a method for manufacturing suitable to reduce a defect, and to flatten a wiring of a copper or an alloy containing the copper as a main body on an insulating film having a low pressure resistance.例文帳に追加

半導体集積回路製造の製造プロセスに関し、特に耐圧性の低い絶縁膜上に銅または銅を主体とする合金の配線を欠陥が少なくかつ平坦にする好適な製造方法を提供すること。 - 特許庁

The inspection device uses a light source arranged so that the light source is close to a Brewster angle where polarization dependence of reflected light becomes largest, and a polarization camera for photographing the reflected light to determine whether the defect is the one on the front surface or on the rear surface.例文帳に追加

反射光の偏光依存性の最も大きくなるブリュースター角に近くなるよう設置した光源と、その反射光を撮影する偏光カメラを用いて、表面の欠陥なのか裏面の欠陥なのかを判別する。 - 特許庁

In the region of the silicon carbide drift layer 20 where a basal plane defect exists, an integral p-type second well region 31 is formed in the top-surface portion of the silicon carbide drift layer 20 so as to overlap the first well regions 30.例文帳に追加

炭化珪素ドリフト層２０の基底面欠陥が存在する領域においては、炭化珪素ドリフト層２０の上面部に、一体的なｐ型の第２ウェル領域３１が第１ウェル領域３０に重ねて形成される。 - 特許庁

Information of the minimum delay margin Tmgn of a path passing through a trouble assumption portion, a machine cycle MC and a delay defect generation frequency DFG is supplied to find an index linked to quality of the circuit, and the quality of the circuit is determined based thereon.例文帳に追加

故障仮定個所を通るパスの最小遅延マージンＴmgn、マシンサイクルＭＣおよびディレイ欠陥発生頻度ＤＦＧの情報を与えて回路の品質にリンクした指標を求め、該回路の品質判定を行うように構成する。 - 特許庁

When data is read out by retry and temperature in writing is the prescribed temperature or less, it is discriminated as non-defect of media, read-out data is not stored in a spare region, but rewritten in the same sector from which read out.例文帳に追加

リトライによってデータが読み出せた場合、温度が書き込み時の温度が所定温度以下の場合は、メディア欠陥ではないと判定し、読み出されたデータは、スペア領域に記憶されることなく、読み出された同一セクタに書き直される。 - 特許庁

To provide an aluminum die casting product and a manufacturing method therefor, and a compressor for freezing or air-conditioning, wherein the loss of air-tightness caused by a shrinkage cavity defect generated in the time of die-casting formation is prevented.例文帳に追加

ダイカスト成形時に発生する引け巣欠陥に起因する機密性の喪失を防止することができる、アルミダイカスト製部品およびその製造方法ならびに冷凍ないし空調用圧縮機を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the reflection light detection type defect detection process, the surface of the electrophotographic photoreceptor is irradiated with light, reflection light reflected by the electrophotographic photoreceptor is received by a light receiving means and the defective part of the electrophotographic photoreceptor is detected.例文帳に追加

反射光検出式欠陥検出工程は、電子写真感光体の表面に光を照射し、電子写真感光体で反射される反射光を受光手段で受光して電子写真感光体の欠陥部を検出する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a uniform sheet-like molding without defect in the molding having excellent releasability even by laminating, and smoothing the front surface and the releasing surface (rear surface) of the molding and a method for manufacturing an electronic component.例文帳に追加

薄層化しても剥離性に優れ、且つシート状成形体の表面、剥離面（裏面）とも平滑にし、またシート状成形体内部にも欠陥のない均一なシート状成形体の製法および電子部品の製法を提供する。 - 特許庁

In the same way, a pressure in the rotor chamber 10 is kept at a higher pressure than that in the gear chamber 9 when viewed from the fourth oil seal 23, thereby eliminating a defect that oil in the gear chamber 9 leaks into the rotor chamber 10 through the fourth oil seal 23.例文帳に追加

同様に、第４オイルシール２３からみて、ギヤ室９内よりもロータ室１０内の圧力が高く保たれることになり、ギヤ室９のオイルが第４オイルシール２３を介してロータ室１０に漏れる不具合もない。 - 特許庁

To provide a manufacturing method with which a generation of such a defect as a crack or the like of a joined part due to a tube expansion is prevented, resulting in a joined body of carbon steel pipes having an excellent mechanical characteristics after expanded, and a tube expansion method for the joined body of the carbon steel pipes.例文帳に追加

拡管にともなう接合部の割れ等欠陥の発生を防止でき、拡管後の機械的性質の優れた炭素鋼管接合体の製造方法および炭素鋼管接合体の拡管方法を提供すること。 - 特許庁

Inspection processes 31, 32, etc., and 3N are provided for every prescribed manufacturing processes 21, 22, etc., and 2N of a wafer 1, and a historical defect list 8 is created in an analysis unit 6 by each time inspection results 51, 52, etc., and 5N are obtained from the respective inspection processes 31, 32, etc., and 3N.例文帳に追加

ウエハ１の所定の製造工程２_1,２_2,……,２_N 毎に検査工程３_1,３_2,……,３_Nを設け、夫々の検査工程３_1,３_2,……,３_Nから検査結果５_1,５_2,……,５_Nが得られる毎に、解析ユニット６で欠陥来歴リスト８が作成される。 - 特許庁

Thereby, defect conditions such as generation of scratches caused by pinch rollers 25, 25 when the tensile force of the metallic belt plate W becomes excessive, or generation of a braking flaw because the tensile force becomes too small, can be avoided.例文帳に追加

これにより、金属帯板Ｗの張力が過大になってデコイラ１２のピンチローラ２５，２５により擦り傷が発生したり、金属帯板Ｗの張力が過小になって折り傷が発生したりする不具合が未然に回避される。 - 特許庁

The present invention allows inspection of a more minute defect.例文帳に追加

本発明は、被検査物体で散乱，回折、または反射された光の、波長，光量，光量の時間変化、および偏光の少なくとも１つを模擬した光を発生する光源装置を有し、前記光を表面検査装置の光検出器に入射させる - 特許庁

To avoid the occurrence of a defect at a divided edge and to prevent divided material and a small piece of glass due to edge removal and terminal part formation from being left behind in a conveying path for a liquid crystal panel involved in dividing a a liquid crystal panel along its cutting-plane line.例文帳に追加

液晶パネルの切断線の分断にともない、分断縁に欠損が発生しないようにすると共に、液晶パネルの搬送路に耳落しや、端子部形成による分断材、ガラスの小塊が残らないようにする。 - 特許庁

In this way, the defect or foreign matter of the groove structure is inspected by optical scatterometry technology.例文帳に追加

スキャトロメトリ法ではプローブ光の入射角を変化させるなど、これまでの磁気ディスク検査装置にはない煩雑な測定が必要であるが、上述したように複数個の光源や光ディテクタを用いる等、測定時間短縮の手段も提供できる。 - 特許庁

To overcome the defect that in a thin-film semiconductor element the moisture contained in a gate insulation film so reacts on W of the material of a gate electrode film as to generate thereby the change of the characteristic of a transistor in the negative direction thereof and damage its reliability.例文帳に追加

薄膜半導体素子において、ゲート絶縁膜中に含まれる水分がゲート電極膜の材料であるＷと反応することにより、トランジスタ特性の負方向への変動が生じ、素子の信頼性を損なう。 - 特許庁

To prevent operation time necessary for correction of a defective pixel from increasing and to securely perform correction such as cutting or short circuiting of a wiring pattern, by avoiding emission of a laser beam to a defect source such as a foreign matter.例文帳に追加

異物などの欠陥源にレーザ光を照射することを回避することによって、欠陥画素の修正に要する作業時間の増大を防止するとともに、配線パターンの切断または短絡などの修正を確実に実行する。 - 特許庁

To easily recognize a chapter mark in a summary copy where a unit page is generated from a plurality of sets of original image information and to eliminate a defect attended with increase in transfer paper expectably produced at the chapter mark of the summary mode.例文帳に追加

複数の原画像情報から単位ページを作る集約コピーにおいて章区切りの認識が容易に行なえ、集約モードの章区切り時に発生することが予想される転写紙の増大にまつわる不具合を解消する。 - 特許庁

Thereby, as the seed crystal substrate is removed during growth of the growth material, the generation of a defect in the growth material, caused by the difference between the thermal expansion coefficients or the like of the growth material and the seed crystal substrate 6, is almost suppressed.例文帳に追加

これにより、成長材料の成長時に種結晶基板が除去されるので、成長材料と種結晶基板６の熱膨張係数等の違いに起因して成長材料中に欠陥が生じることは殆どない。 - 特許庁

To suppress a membrane thickness defect area and non-uniformity of coating thickness at a start end of coating to be very small and enable to carry out high precision coating which is required at the time of manufacturing a liquid crystal color filter.例文帳に追加

塗布開始端部での膜厚不良域および塗布厚のむらを極めて小さく抑制し、液晶用カラーフィルタの製造時に要求されるような高精度塗布を行うことを可能とする塗工用ダイヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide a drying method of a coating film, in which the defect of the coating film is prevented from occurring because a solvent is dew-condensed on the surface of a trough and the dew-condensed solvent is formed into droplets and deposited on the coating film.例文帳に追加

塗布膜の乾燥方法において、溶剤が樋表面に結露し、この結露した溶剤が滴となり塗布膜に付着してしまうことで塗布膜の欠陥が生じるのを防ぐことができる塗布膜の乾燥方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for manufacturing a functional film, preventing the deterioration of flatness of a coating film which causes a defect such as crack/omission of an inorganic film when forming the inorganic film on the coating film with a vacuum film-forming apparatus.例文帳に追加

真空成膜装置によりコーティング膜上に無機膜を成膜する際に、無機膜の割れ／抜け等の欠陥を引き起こすコーティング膜の平滑性悪化を防止する機能性フィルムの製造方法、及び製造装置を提供する。 - 特許庁

Among 66 columns of memory cell units 40 in one line, 64 columns are used as data units, 1 column is used as a redundancy unit, and 1 column is used as a defect specifying unit for storing data to specify a defective unit in the line.例文帳に追加

１行中の６６列のメモリセルユニット４０のうち、６４列がデータ用ユニット、１列が冗長用ユニット、１列が行内の欠陥ユニットを特定するデータを記憶するための欠陥特定用ユニットとして用いられる。 - 特許庁

Thereby, the target patterns AM and the like become irrelevant to an electric field in the vacuum vessel; influence of charge on an electron orbit or discharge generation is prevented; and this high-reliability image display device without causing a display defect is provided.例文帳に追加

これにより、ターゲットパターンＡＭ等は真空容器内部の電界とは無関係となり、帯電による電子軌道への影響、あるいは放電発生が防止され、表示欠陥の発生のない高信頼性の画像表示装置が得られる。 - 特許庁

To provide a method and a device for maintaining data integrity in a flash-memory microcomputer so as to enable control even if such a data defect as disappearance occurs in a program stored in a flash memory in the microcomputer.例文帳に追加

本発明は、マイクロコンピュータ内のフラッシュメモリに記憶させたプログラムに消滅等のデータ異常が発生した場合であっても、制御を可能にするためのフラッシュメモリマイクロコンピュータのデータ保全方法および保全装置に関するものである。 - 特許庁

To provide a fixing device and an image forming device which prevent a defect of image fixing to a synthetic resin plate by making the length in the endlessly moving direction of a fixing member surface longer than that in the carrying direction of the synthetic resin plate.例文帳に追加

定着部材表面の無端移動方向の長さを合成樹脂板の搬送方向の長さ以上にして、合成樹脂板への画像の定着不良を防止できる定着装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a display device in which a method of high-speed transmission of display data signal is improved, defect or constraint accompanying the conventional high-speed signal transmission is removed and low cost and high reliability is achieved.例文帳に追加

本発明は表示装置において表示データ信号の高速伝送の方法を改善し、従来の信号伝送の高速化に伴う欠点や制約を除去し、低コストで信頼性の高い表示装置を実現することを目的とする。 - 特許庁

When an inspection result of a previous step is included in the chip ID, level identification on a defective or acceptable chip can be carried out by only reading the chip ID and thus this can quickly cope with the defect-cause analysis, shipping by characteristics, or the like.例文帳に追加

チップＩＤに前工程の検査結果を含ませる事で、不良品や良品のレベル識別がチップＩＤの読み取りをおこなうだけで可能となり、不具合の原因解析や特性別の出荷などに迅速に対応できる。 - 特許庁

A critical area of one via is calculated on the basis of sizes of a plurality of vias, sizes of defects causing random defect failures of the plural vias and a distance from the one via to another adjacent via.例文帳に追加

複数のビアのサイズ、複数のビアのランダム欠陥不良の原因となる欠陥のサイズ、及び複数のビアのうちの一のビアと該一のビアに隣接する他のビアとの間の距離に基づいて、一のビアのクリティカルエリアを算出する。 - 特許庁

A defect extraction part 205 compares comparison object information acquired by imaging the reference subject after acquiring the reference information with the reference information stored in the storage part 207, and extracts a different portion between both information as defects.例文帳に追加

欠陥抽出部２０５は、基準情報の取得後に基準被写体を撮像して得られた比較対象情報と、記憶部２０７に保存されている基準情報とを比較し、両者が異なる部分を欠陥として抽出する。 - 特許庁

The accumulator battery 15 applies a voltage having a prescribed potential difference with respect to the potential of the steel tower member 200 to the copper plate 300B from voltage application points 300a to c via a rainfall detection part 40, a switch 18, and a device defect detection part 50.例文帳に追加

蓄電池１５は、降雨検出部４０、スイッチ１８、装置不良検出部５０を介して、電圧印加点３００ａ〜ｃから銅板３００Ｂに、鉄塔部材２００の電位に対して所定電位差の電圧を印加する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and an image forming method capable of forming an image without the need for changing a process speed and without causing any defect even when the image is continuously formed for a plurality of kinds of media.例文帳に追加

複数種類のメディアに対して連続して画像を形成する際にもプロセス速度を変更することなく、また不具合が発生することなく画像を形成可能な画像形成装置及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating method which enables a good and stable coating not imparting a flaw defect to a film when the film is coated with a coating solution with an applicator roll which is rotated in a direction opposite to the running direction of the film in a film forming process.例文帳に追加

製膜工程において走行するフィルムの走行方向と逆方向に回転するアプリケーターロールで、フィルムに塗液を塗布する際、フィルムに傷欠点がない、良好で安定な塗布を行える塗布方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical disk having high reliability by preventing prepit signals from generating noise by forming the prepit around the inner peripheral side wall surfaces of land regions in order to avert the molding defect which arises on the inner peripheral side wall surfaces.例文帳に追加

ランド領域の内周側壁面に生じる成形不良を回避すべく、外周側壁面を中心にプリピットを形成することで、プリピット信号のノイズ発生を防止して信頼性の高い光ディスクを提供する。 - 特許庁

A correcting device 1 comprise a pattern correcting mechanism 2, image detecting mechanism 3, drive part 6, drive-part control part 7, defect discriminating circuit 11, pattern comparison circuit 12, matching identifying circuit 13, and correction pattern control circuit 14, etc.例文帳に追加

修正装置１は、パターン修正機構２、画像検出機構３、駆動部６、駆動部制御部７、欠陥選別回路１１、パターン比較回路１２、一致指摘回路１３、および修正パターン制御回路１４等を備えている。 - 特許庁

In setting the characteristics parameters, the leak current due to the internal leak in the TFT is increased by setting the voltage level and/or the timing of application, and any internal defect in the TFT is detected with the increased leak current.例文帳に追加

特性パラメータの設定において電圧値および／又は印加時期を設定することによってＴＦＴの内部リークによるリーク電流を増加させ、増加させたリーク電流によってＴＦＴの内部欠陥を検出する。 - 特許庁

The defect detecting device 40 attaches an AE sensor 41 for detecting the defects of the gear part 33 on the gear to be inspected 16 provided with the gear part 33, having a large number of engaging teeth and formed of a synthetic resin material.例文帳に追加

損傷検出装置４０は、多数の噛合歯を有し且つ合成樹脂材により形成されたギヤ部３３を備えている被検歯車１６に、当該ギヤ部３３の損傷を検出するためのＡＥセンサ４１を取り付けてなる。 - 特許庁

The focus of an imaging means 3 is passed through a preform 2 to be aligned with a dot pattern 4, and a defect 12A in the preform 2 is detected through distortion in the dot pattern 4 inside an image 10B of the preform 2 imaged by the imaging means 3.例文帳に追加

撮像手段３の焦点をプリフォーム２を透過させてドットパターン４に合わせ、撮像手段３により撮像されるプリフォーム２の画像１０Ｂ内のドットパターン４の歪みによりプリフォーム２の欠陥１２Ａを検出する。 - 特許庁

To provide an image forming device and a process cartridge that output a satisfactory image free of an image defect, such as retransfer ghost, with an inexpensive configuration in a color cleaner-less system having a plurality of image forming stations.例文帳に追加

複数の画像形成ステーションを有するカラークリーナレスシステムにおいて、安価な構成で、再転写ゴースト等の画像弊害がなく良好な画像を出力することが可能な画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

The vicinity of crack type defect 10 caused on a welded material 9 of reactor structure irradiated by neutron is cut (a), a new welding material 12 is provided to the cut surface (a) and contact surfaces are welded with a laser welder 13.例文帳に追加

中性子照射を受けた原子炉構造物の被溶接部材９に生じたき裂状の欠陥10近傍を切断ａし、切断ａ面に新たな被溶接部材12を設けて、レーザ溶接機13により接合面を溶接して接合する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a honeycomb formed body and drying equipment thereof which are capable of drying the honeycomb formed body having a cell wall thickness of 0.125 mm or below, without causing a defect such as a crack or a wrinkle in the outer peripheral skin part.例文帳に追加

セル壁厚さが０．１２５ｍｍ以下のハニカム成形体を，外周スキン部に割れ，しわ等の欠陥を生じさせることなく乾燥することができるハニカム成形体の製造方法及び乾燥装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a detecting method for a crystalline defect with high measurement sensitivity in which even a microdefect such as a small BMD formed nearby a wafer surface after a low-temperature process as an advanced device process can be measured.例文帳に追加

先端デバイスプロセスである低温プロセス後のウェーハ表面近傍に形成される小さなＢＭＤなど微小な欠陥であっても測定することができる測定感度の高い結晶欠陥の検出方法を提供する。 - 特許庁