Defectを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 18303件
To provide a sodium-chloride type transition metal carbide single crystal substrate that increases lattice matching property with a (0001) or (000-1) plane of a nitride semiconductor crystal such as GaN and that allows epitaxial growth of a nitride semiconductor crystal with little defect.例文帳に追加
GaNなどの窒化物半導体結晶の(0001)又は(000-1)面との間の格子整合性を高めて、低欠陥の窒化物半導体結晶をエピタキシャル育成可能な岩塩型遷移金属炭化物単結晶基板を提供する。 - 特許庁
To provide an optical communication module that suppresses initial stage defect due to contamination of an optical element, that has a high photosensitivity when using a silicon based photo diode or a gallium arsenide based photo diode, and that enables near infrared light to be used for communication.例文帳に追加
光素子の汚染による初期不良を抑え、さらにシリコン系のフォトダイオードやガリウム砒素系のフォトダイオードを用いた場合に受光感度が高い、近赤外の光を通信用に使用可能とする光通信モジュールを提供する。 - 特許庁
To prevent an image defect in a stripe state occurring because developer (toner) T adhering to an electrifying member 2 is discharged at a position corresponding to the paper edge of a medium to be recorded in a cleaner-less system image forming apparatus.例文帳に追加
クリーナレスシステムの画像形成装置において、帯電部材2に付着した現像剤(トナー)Tが被記録媒体の紙コバに対応する位置で吐き出されて発生するスジ状の画像不良を防止することを目的とする。 - 特許庁
To provide the configuration of a semiconductor device for suppressing any influence due to defect factor impurity such as carbon, nitride or oxygen in a semiconductor device including point defects for adjusting a reverse recovery time and a method for manufacturing this semiconductor device.例文帳に追加
逆回復時間を調整するための点欠陥を含む半導体デバイスにおいて、炭素,窒素または酸素などの欠陥要因不純物による影響を抑えるための半導体デバイスの構成とその製造方法を提供する。 - 特許庁
Thus, lowering of the display contrast and display defect due to the lack of the charged particles 31 capable of drive are suppressed by performing proper refresh operation, and since migration of the charged particles is prompted, responsiveness of the images is improved.例文帳に追加
したがって、適宜リフレッシュ動作を行うことにより、駆動可能な帯電粒子31の不足による表示コントラストの低下や表示欠陥が抑制され、且つ帯電粒子の泳動が速やかになるので、画像の応答性が向上する。 - 特許庁
Accordingly, after completion of the brazing, the generation of the brazing defect that the gap is left between the bending curved face of the bending part 41a and the tip side corner part of the separator 31 can be prevented from occurring.例文帳に追加
したがって、ろう付けが完了した後に、折り曲げ部41aの曲げ曲面とセパレータ31の先端側角部との間に隙間が残存してしまうといったろう付け不良が発生することを未然に防止することができる。 - 特許庁
To realize a liquid crystal display device and inspection method therefor, capable of strictly and quantitatively detecting and discriminating defect and defective states of a liquid crystal panel, a signal driver, etc., without necessitating an external inspection device.例文帳に追加
外部に検査装置を必要とすることなく、液晶表示パネルや信号ドライバ等の欠陥や不良状態を厳密かつ定量的に検出、判定することができる液晶表示装置及びその検査方法を提供する。 - 特許庁
To obtain defect-free, smooth and excellent circumferential weld bead by the pulse arc welding or DC arc welding using non-consumable electrode on a groove joint of thick tubular members in which bead joint for each multilayer sequence welding and each welding pass is required.例文帳に追加
多層盛溶接及び溶接パス毎のビード継ぎが必要な厚板管材の開先継手に対して、非消耗性電極のパルスアーク溶接又は直流アーク溶接により欠陥のない平滑で良好な円周溶接ビードを得る。 - 特許庁
Since this flavonoid reacts with ultraviolet rays to emit fluorescence, it is accurately judged whether the fresh defect is present on the skins of the agricultral products 14 by irradiating the agricultural products 14 with light of the ultraviolet region from the light source 20.例文帳に追加
このフラボノイドは紫外線に反応して蛍光発光するため、光源20から紫外線領域の光を農産物14に照射することにより、農産物14の表皮に生傷があるか否かを正確に判定することができる。 - 特許庁
An ROP pattern data converting part 11 converts the plotting attribute of the plotting object, so that the defect is not caused even when the plotting processing is performed as it is in response to the ROP patterns detected by the ROP pattern detecting part 10.例文帳に追加
ROPパターン用データ変換部11では、ROPパターン検知部10にて検知されたROPパターンに応じて、そのまま描画処理を行っても不具合が生じないように描画オブジェクトの描画属性を変換する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device and a semiconductor device capable of repairing any crystal defect caused in the inner wall layer of a trench formed in a substrate and reducing an interface level of the inner wall layer.例文帳に追加
基板に形成されたトレンチの内壁層に生じる結晶欠陥を修復するとともに、内壁層の界面準位を低減することが可能な半導体装置の製造方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁
By having the polyimide orientation film on the TFT array board irradiated with the rays of wavelength of 180 nm or shorter, the defect orientation film on the TFT array board can be completely removed, without giving adverse effects to the characteristics of the TFT.例文帳に追加
本願発明の方法によれば、180nm以下の紫外線を照射することで、TFT特性に悪い影響を与えることなく、TFTアレイ基板上の欠陥配向膜を完全に除去することができる。 - 特許庁
To provide a defect part marking method and a device capable of replacing a marker pen and replenishing ink quickly and continuously, when marking a surface or inside flaw position on the surface of an inspection material such as a thin steel plate.例文帳に追加
薄鋼板等の被検査材表面に、表面または内部の疵位置をマーキングするにあたり、迅速かつ連続にマーカーペンの交換またはインクの補充ができる欠陥部マーキング方法および装置を提供することを課題とする。 - 特許庁
By repeating the adjustment of the length TP and photographing until the brightness of an image obtained by this photographing becomes a predetermined referential state, necessary settings are made for generating an image having brightness suitable for the defect detection.例文帳に追加
この撮影により得た画像の明るさがあらかじめ定めた基準の状態になるまで、TPの長さ調整と撮影とを繰り返すことにより、欠陥の検出に適した明るさの画像を生成するのに必要な設定がなされる。 - 特許庁
To provide a power generating device that prevents driving torque on a driving machine side from being excessive, or, in the event of the occurrence of a defect due to excessiveness of the driving torque, minimizes the influence, and facilitates later maintenance.例文帳に追加
駆動機側の駆動トルクが過大となることを防止し、あるいは、万が一、駆動トルクが過大となりそれによる不具合が発生してもその影響を極力小さくせしめ、後のメンテナンスの容易な発電装置を提供する。 - 特許庁
A defect detecting method for fuel cell material detects defects in cells or half-cells for fuel cells by means of a CCD camera, a laser reflection detector, and/or a contact displacement detector.例文帳に追加
本発明は、CCDカメラ、レーザー式反射検出機および/または接触式変位検出機により、燃料電池用のセルおよび/またはハーフセルの欠陥を検出することを特徴とする燃料電池材料の欠陥検出方法である。 - 特許庁
To provide a synthetic quartz glass substrate having high flatness to perform fine drawing as well as having a substrate surface with less defect and minimal surface roughness, as a synthetic quartz glass substrate for a photomask used in a photolithography process or the like.例文帳に追加
光リソグラフィー法等で使われるフォトマスク用合成石英ガラス基板として、平坦度が良く微細な描画を行うことができ、かつ基板表面が低欠陥で面粗さの小さい合成石英ガラス基板を提供する。 - 特許庁
Terminal devices 24, 34 connected to the network N transmit the diagnosis result of the self- diagnosis program function of the testing devices 20, 30 to the maintenance information providing server 12 corresponding to user operation, and acquires information on the defect generation spot.例文帳に追加
ネットワークNに接続された端末装置24,34は、ユーザの操作に応じて試験装置20,30の自己診断プログラム機能の診断結果をメンテナンス情報提供サーバ12へ送信して不良発生箇所に関する情報を得る。 - 特許庁
To provide a piezoelectric vibrator capable of preventing occurrence of a defect due to scattering and adhering of shavings of an adjustment film to an excitation electrode, in a piezoelectric vibrator with a tuning fork type element for a piezoelectric vibrator arranged in a housing.例文帳に追加
音叉型の圧電振動子用素子を筐体内に設けた圧電振動子において、励振電極に調整膜の削り滓が飛散して付着することによる不良の発生を抑えることができる圧電振動子を提供すること。 - 特許庁
To provide a process for manufacturing a highly reliable semiconductor device in which a semiconductor element and a semiconductor element mounting board having a hollow section between wiring boards are coated tightly with an epoxy based film without causing a defect such as a void.例文帳に追加
半導体素子と配線基板間に中空部を有する半導体素子実装基板をエポキシ系フィルムにより、ボイドなどの欠陥を生じさせることなく密着被覆し、信頼性の高い半導体装置を製造する。 - 特許庁
To provide an antireflection film for an optical element, which suppresses generation of bubbles generated in an interface of a glass and causing poor appearance and prevents an application defect, and to provide paint (antireflection paint) for manufacturing the antireflection film.例文帳に追加
ガラスとの界面に発生し外観不良の原因となる気泡の発生を抑制し、かつ塗布不良を生じない光学素子用の反射防止膜及びこの反射防止膜を作製するための塗料(反射防止塗料)を提供する。 - 特許庁
A diode PND2 is formed on a principal surface f1 of a P-type P substrate 1p, and a crystal defect in the P substrate 1p is detected by inspecting an electric characteristic in applying a reverse voltage to the diode PND2.例文帳に追加
P型のP基板1pの主面f1上にダイオードPND2を形成し、そのダイオードPND2に逆方向電圧を印加したときの電気特性を検査することで、P基板1p内の結晶欠陥を検出する。 - 特許庁
To provide an optimized manufacturing method of a silicon wafer which can obtain the silicon wafer in which oxygen doping concentration having low defect density is at least 4 × 10^17/cm^3 in especially near front surface region.例文帳に追加
特に表面近傍の領域において低欠陥密度を有する酸素ドーピング濃度が少なくとも4×10^17/cm^3 であるシリコンウエハを得ることができる、シリコンウエハの最適化された製造方法を提供する。 - 特許庁
Reconfiguring the TS signals improves the C/N deterioration to eliminate a defect of applying power amplification to deteriorated signals and retransmitting the amplified deterioration signals even on the occurrence of the deterioration in the signals on a propagation path or from the relaying apparatus.例文帳に追加
TS信号を再構成することにより、C/N劣化を改善し、これにより伝搬路上又は中継装置で信号の劣化が発生しても、これを電力増幅して再送出してしまうような不具合を解消する。 - 特許庁
When experiencing a defect in brake, one of the three-way valves 20 and 22 is switched into the second state and the brake system in downstream is exposed to atmosphere, so that a brake actuator 16 or 18 does not operate.例文帳に追加
そして、ブレーキ失陥を体験するときには、三方向バルブ20及び22の一方を第2の状態に切り替え、その下流に位置するブレーキ系統を大気開放してブレーキアクチュエータ16又は18が作動しないようにする。 - 特許庁
To provide a polyurethane urea resin adhesive that has a moderate adhesion power which the conventional polyurethane adhesives could never attain, by improving the defect, the poor removableness, of an acrylic resin adhesive.例文帳に追加
本発明はアクリル樹脂系粘着剤の再剥離性の不足という欠点を改善し、従来のポリウレタン樹脂系粘着剤では達成できなかった中粘着力を有するポリウレタンウレア樹脂粘着剤を提供するものである。 - 特許庁
For example, when linear defective patterns 1, 2 and cursor patterns 3, 4 are superimposed, a linear defect is easily distinguished from the cursor or the background picture because the linear defective pattern is superimposed through parts where the cursor pattern is cut off.例文帳に追加
例えば、線欠陥パターン1、2とカーソルパターン3,4を重ね合わせたときに、カーソルパターンが切れている部分を通して、線欠陥パターンを重ね合わせることができるために、線欠陥とカーソルまたは背景画面との区別がつきやすい。 - 特許庁
To provide a bonding SOI wafer manufacturing method with less defect density in an epitaxial layer in the case where epitaxial growth is performed on a surface of an SOI layer of a bonded wafer manufactured by using an ion implantation peeling method.例文帳に追加
イオン注入剥離法を用いて作製した貼り合わせウエーハのSOI層の表面上にエピタキシャル成長を行った場合に該エピタキシャル層の欠陥密度が少ない貼り合わせSOIウエーハの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To prevent a defect of an organic electroluminescent display device from being caused by contaminations in a laser transfer process by performing dry cleaning to eliminate the contaminations present on a transfer layer on a donor substrate.例文帳に追加
乾式洗浄を行い、ドナー基板の転写層上に存在する汚染物を除去することによって、レーザ転写工程中において汚染物による有機電界発光表示装置の欠陥を防止することを目的とする。 - 特許庁
An amendment to eliminate a reason for refusal about a defect in specific statements pointed out in a final notice of reasons for refusal based on Article 36 falls under "the amendments which are related to the matters stated in the reasons for refusal" provided for in parentheses in(4). 例文帳に追加
第36 条に基づく最後の拒絶理由通知で指摘された特定個所の記載不備の拒絶理由を解消するための補正は、第4 号括弧書きの「拒絶の理由に示す事項についてするもの」に該当する。 - 特許庁
To provide a digital distortion apparatus which is constituted simply and the input/output relation of which is not fixed by eliminating the defect of a conventional digital distortion apparatus which does not create amusing sounds but is apt to make monotonous sounds.例文帳に追加
面白みがなく平板な音となりがちであるという従来のディジタルディストーション装置の欠点を解消し、構成が簡単で、入出力関係が固定的でないようなディジタルディストーション装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a process cartridge, an image forming apparatus and a charging member, capable of obtaining an excellent image not having a defect such as a stripe, and a spot and a ghost, over a long period, while keeping high sensitivity as an excellent electrophotographic characteristic.例文帳に追加
優れた電子写真特性としての高感度を維持しつつ、スジ、ポチ、ゴースト等の画像欠陥のない良好な画像を長期にわたって得ることのできるプロセスカートリッジ、画像形成装置及び帯電部材を提供する。 - 特許庁
Consequently, defect/failure and generation of inner contamination of production installation caused by fragment of film peeling of the oxide film 107 of a high melting point metal formed in the rear of the semiconductor wafer 101 can be prevented.例文帳に追加
これにより、半導体ウエハ101の裏面に形成された高融点金属の酸化膜107が膜剥離を起こして膜剥離した破片による欠陥不良および生産設備内部汚染を発生することを防止することができる。 - 特許庁
To provide a light source device for suppressing an image defect by suppressing angle variation of an optical axis between optical elements such as a semiconductor laser and a collimator lens, an optical scanner, and an image forming apparatus with the same.例文帳に追加
半導体レーザ、コリメートレンズ等の光学系素子間で光軸が角度変化することを抑制して、画像欠陥を抑制することが可能な光源装置、光走査装置およびそれを備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition being used for pixel formation of a solid state imaging device, allowing a pixel excellent in resolution, and enabling suppression of occurrence of release defect in a pixel after post-bake carried out in pixel formation.例文帳に追加
固体撮像素子の画素形成に用いられ、解像性に優れた画素が形成でき、且つ、画素形成の際に行われるポストベーク後において画素の剥がれ欠陥の発生が抑制された感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
As a result, the stress applied to the organic EL element due to the application of the inverse bias is reduced, so that it is possible to restrain a change in characteristic of the organic EL element or dark dot defect due to the stress.例文帳に追加
その結果、逆バイアスがかかることによって有機EL素子に与えられるストレスを軽減できるため、当該ストレスに起因して有機EL素子の特性が変化したり、滅点となったりするのを抑えることができる。 - 特許庁
To provide a recording apparatus which improves cleaning performance (removing performance) of an ink receiving particle remaining on an intermediate transfer body and suppresses an image defect (ghost) by the remaining particle, and the ink receiving particle.例文帳に追加
中間転写体上に残留したインク受容性粒子のクリーニング能(除去能)を向上させ、当該残留した粒子による画像欠陥(ゴースト)が抑制された、記録装置、及びインク受容性粒子を提供すること。 - 特許庁
To provide a liquid crystal device and a projection type display device so formed that a display defect caused by disclination is not generated for a projection type high definition liquid crystal panel and high contrast display is made possible.例文帳に追加
本発明は、高精細な投射型の液晶パネルに対してディスクリネーションに起因する表示欠陥を生じないようにして高コントラストな表示を可能とした液晶装置及び投射型表示装置の提供を目的とする。 - 特許庁
To provide an apparatus and a method for manufacturing a liquid crystal display panel by which display quality and a yield of the liquid crystal display panel are improved by surely removing contaminants in the atmosphere of the process thereby suppressing occurrence of a display defect.例文帳に追加
工程雰囲気内の汚染物質を確実に除去して表示不良の発生を抑制し、液晶表示パネルの表示品位や歩留まりを向上させる液晶表示パネルの製造装置及びその製造方法の提供。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which reduces stress concentration on a corner of a trench groove, can restrain generation of defect in the corner, and has an element isolation structure showing satisfactory element isolation characteristics; and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
トレンチ溝のコーナー部へのストレス集中を低減させ、該コーナー部における欠陥の発生を抑制することができ、十分な素子分離特性を示す素子分離構造を有する半導体装置と製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an information display device prevented from having an operation defect or getting out of order by securely discharging water from the device even when the device is installed outdoors to be weather beaten, and a large amount of water enters the device.例文帳に追加
屋外に設置されるために雨曝しとなり、大量の水が浸入することになっても、確実に装置外へ排出することで、動作不良を防止すると共に故障を防止することが可能な情報表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for welding cold rolled steel plates, in which the occurrence of such a welding defect as tearing apart of the welded parts is accurately prevented in a welding apparatus (a mash seam welding apparatus) disposed in a cold rolled steel plate processing line.例文帳に追加
冷延鋼板処理ラインに設置された溶接装置(マッシュシーム溶接装置)において、溶接部の引きちぎり等による溶接不良の発生を的確に防止することができる冷延鋼板の溶接方法を提供する。 - 特許庁
To provide a folding-back bladder monitoring system which can early detect the occurrence of abnormality and prevent a failure due to the folding-back defect even when the abnormality occurs in an internal pressure for supplying a bladder or the bladder deteriorates with age.例文帳に追加
ブラダに供給する内圧に異常が発生したり、ブラダが経時変化したりしても、その異常発生を早期に検出し、折返し不良に起因する不良を防止することのできる折返しブラダ監視システムを提供する。 - 特許庁
To provide a silicon epitaxial wafer and a production method therefor, with which the defect level of haze or LPD of an expitaxial layer is reduced and oxygen deposition is controlled in a state before putting into the device process of low temperature and short time.例文帳に追加
低温・短時間化されたデバイスプロセスに投入する前の状態で、エピ層のヘイズ、LPD等の欠陥レベルが低減され、かつ酸素析出が制御されたシリコンエピタキシャルウエーハならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁
Thus, a portion that could not be video-recorded due to a data defect caused during time-shift playback can be acquired until starting playback and the acquired substitute data is allocated to the defective position, thereby performing playback at the defective position.例文帳に追加
これにより、タイムシフト再生中にデータ欠損が生じて録画できなかった部分を、その再生開始までに取得することができ、取得した代替データを欠損位置に割り当てることで欠損位置での再生が可能となる。 - 特許庁
The defect inspection device 21 is provided with a lighting device 22 with a light source, a camera 23 capable of imaging transmission light transmitted through the tablet, and an image processor 24 for processing an image signal output from the camera 23.例文帳に追加
不良検査装置21は、光源を具備する照明装置22と、錠剤を透過してくる透過光を撮像可能なカメラ23と、カメラ23から出力される画像信号を処理する画像処理装置24とを備えている。 - 特許庁
To eliminate an image defect due to wrinkles by preventing a belt from wrinkling nearby a rib for dislocation prevention provided one width- directional end part of a reverse surface by suppressing the bias of an intermediate transfer belt made of a rubber elastic material.例文帳に追加
ゴム弾性材製の中間転写ベルトの寄りを抑えることにより、裏面の幅方向片側端部に設けた寄り防止用のリブ近傍でベルトにシワが発生するのを防止し、シワによる画像不良をなくすことである。 - 特許庁
To provide a through hole inspection method for accurately inspecting the existence/absence of a minute through hole causing a ventilation defect in an insulating ceramic sheet such as a solid electrolyte film for a flat solid electrolyte type fuel cell.例文帳に追加
平板状固体電解質型燃料電池用の固体電解質膜の如き絶縁性セラミックシートの、通気欠陥となる微細な貫通孔の有無を正確に検査することのできる貫通孔検査方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a semiconductor member whose productivity is excellent and whose quality is high without the influence of any flow pattern defect or COP(crystal originated particles) at the time of obtaining a single crystal semiconductor layer whose crystallinity is excellent on a substrate such as an insulating substrate.例文帳に追加
絶縁性基板等の基体上に結晶性に優れた単結晶半導体層を得るうえで、生産性等に優れ、フローパターンディフェクトやCOP(Crystal OriginatedParticles)の影響を受けない高品質な半導体部材を提供する。 - 特許庁
To solve a problem wherein, when performing vertical illumination with a catadioptric objective lens, specularly reflected light from a defect which passes through the center of the catadioptric objective lens does not provide an image, thereby causing a flare component on a detection surface and resulting in a low SN.例文帳に追加
反射屈折型対物レンズを用いた垂直落射照明を行う場合、反射屈折型対物レンズ中心を通過する欠陥からの正反射光が結像されないため、検出面ではフレア成分となり低SNになる。 - 特許庁
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