「Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(313ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent an image defect or the like caused by the image flowing as a result that paper dust is kept to be stuck on a photoreceptor surface, in the case of adopting cleaner-less system recovering residual toner on a photoreceptor by a developing device.例文帳に追加

感光体上の残留トナーを現像器で回収するクリーナレスシステムを採用した場合においても、感光体表面に紙粉が付着したままになることにより発生する画像流れに起因した画像不良等を防止した画像形成装置である。 - 特許庁

To exclude possibility incurring defects of all unit pixels when a defect is generated in one switching element by dividing a unit pixel of a liquid crystal display device into two first and second sub pixel regions and separately forming first and second switching devices at each pixel part.例文帳に追加

液晶表示素子の単位画素を第１及び第２画素部に２分割し、各画素部に第１及び第２スイッチング素子を別途に形成することにより、１つのスイッチング素子に不良が発生したとき、単位画素全体が不良になる可能性を排除する。 - 特許庁

Polarization elements are provided, respectively in the first and second detection optical paths branched in a dark field optical system, and are set to bring lights transmitted, through the polarizing elements arranged in the first and second detection optical paths into different characteristics, and the defect-capturing rate is enhanced thereby.例文帳に追加

また、暗視野光学系にて分岐した第１及び第２の検出光路にそれぞれ偏光素子を備え、第１と第２の検出光路に配置した偏光素子を透過する光が異なる特性となるように設定し、欠陥の捕捉率を向上する。 - 特許庁

It is also provided with a suspension type conveyer 12, a screw part detecting means 5 in the carrier process, a vacuum conveyer 99 carrying the detection accepted prodcucts to a next process, and a discharge means 4b discharging the PET preform with defect to the outside of the conveyer line.例文帳に追加

更に、吊り下げ式搬送コンベア１２を設け、この搬送工程中にネジ部検査手段５と、検査合格品を次工程へ搬送するバキュームコンベア９９と欠陥のあるＰＥＴプリフォーム１をコンベアライン外へ排出する排出手段４ｂを設けた。 - 特許庁

To prevent a defect on a print sample by preventing void caused by a discharge product without providing a cleaning member and preventing the soiling of an electrifying means by toner by accurately adjusting the electrified amount of remaining toner on an image carrier.例文帳に追加

クリーニング部材を設けることなく放電生成物による白抜けを防止し、且つ像担持体上の残トナーの帯電量の調整を的確に行って帯電手段のトナー汚れを防止して、プリントサンプル上のディフェクトを防止可能な画像形成装置を得る。 - 特許庁

To provide a device for manufacturing sheet glass capable of manufacturing the sheet glass with little defect for many hours stably, by enabling to coat the body of the device for manufacturing the sheet glass with platinum alloy and using the device body regardless the composition of the sheet glass.例文帳に追加

本発明は、薄板ガラスの製造装置の本体に、白金合金被覆を可能ならしめ、かつガラス組成に関係なく同一の本体を使用でき、欠点の少ない薄板ガラスを長時間安定して製造できる薄板ガラスの製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a lithium secondary battery complementing irreversible capacity generating in an initial charge discharge and eliminating possibility of the occurrence of a defect such as formation of dendrite, decomposition of an electrolyte, or dissolution of a negative current collector; and to provide the method of manufacturing the lithium secondary battery.例文帳に追加

初回の充放電によって発生する不可逆容量を補完し、かつ、デンドライトの発生、電解液の分解または負極集電体の溶解等の不具合が生じる虞のないリチウム二次電池及びリチウム二次電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a semiconductor substrate where an SiGe layer 2 is formed on an Si substrate 1, a crystal defect region 6 or a structure region 6a for facilitating generation or concentration of dislocation is formed on the interface of the Si substrate 1 and the SiGe layer 2.例文帳に追加

Ｓｉ基板１上に、ＳｉＧｅ層２が積層された半導体基板において、Ｓｉ基板１とＳｉＧｅ層２との界面に、転位を発生あるいは集中し易くするための結晶欠陥領域６あるいは構造領域６ａが形成されている。 - 特許庁

An insulating resin material 9 having insulation solids mixed therein is formed in insulation defect portions on a dielectric film 3, formed on a valve metal porous body 2 by electrolytic deposition to provide insulation; and thus a solid electrolytic capacitor superior in electrical characteristics is obtained.例文帳に追加

弁金属多孔質体２上に形成した誘電体被膜３上の欠陥部に絶縁性固形物を混入した絶縁性樹脂材９を電着により形成して絶縁化することで、電気特性の優れた固体電解コンデンサとすることができる。 - 特許庁

To enable a semiconductor solid-state image pickup device to eliminate an OB pixel, shorten the period required for a clamping means, and supply a stable clamping level, with respect to dark level fluctuations due to the defect of the OB pixel and stray light.例文帳に追加

半導体固体撮像装置において、（１）ＯＢ画素が必要でなくなる、（２）クランプ手段に必要な期間を短縮できる、（３）ＯＢ画素の欠陥や迷光等によるダークレベルの変動に対して安定したクランプレベルを供給できる、ということを課題とする。 - 特許庁

When a defect part X is not included in either of one turn of the positive electrode plate P or one turn of the negative electrode plate N, the electrode winding device 2000 produces a wound electrode body 100 by winding the positive electrode plate P, the negative electrode plate N and a separator.例文帳に追加

電極捲回装置２０００は，正極板Ｐの一巻分と負極板Ｎの一巻分とのいずれにも欠陥部分Ｘが含まれていない場合に，正極板Ｐと負極板Ｎとセパレータとを捲回して捲回電極体１００を製作する。 - 特許庁

To provide a method, a device and a program for checking and processing index compatibility of a database to enable compatibility check of a database even when problems such as destruction and a defect are generated in the index itself and to specify/detect a destructed place of data structure.例文帳に追加

インデクス自体に破壊や欠損などの問題が生じている場合であってもデータベースの整合性チェックを可能とし、データ構造の破壊個所を特定・検出するデータベースのインデクス整合性チェック処理方法および装置およびプログラムを提供することにある。 - 特許庁

To efficiently remove a particle adhered at the time of an oxygen ion implantation, and to decrease a deep defect penetrating an SOI layer observed after dipping an SIMOX structure in a hydrofluoric acid solution of 50 wt% concentration at 23°C for 30 minutes.例文帳に追加

酸素イオン注入時に付着したパーティクルを効率良く除去し、ＳＩＭＯＸ構造において、温度２３℃での濃度が５０重量％であるフッ酸水溶液に３０分間浸漬した後に観察されるＳＯＩ層を貫通する深い欠陥を低減する。 - 特許庁

An area to be excluded from an object of the defect judgment is determined on the picture image, based on the reference picture images and on the positions and number associated with the reference picture images while judging the existence of defects, based on density values of pixels outside the determined area.例文帳に追加

基準画像、該基準画像に対応付けられた位置及び個数に基づいて、２次元画像上で欠陥判別の対象から除外されるべき領域を特定し、その特定された領域外における画素の濃度値に基づいて欠陥の有無を判別する。 - 特許庁

Once the toner recovery opening is directed horizontally, the image forming apparatus is free of the defect that the remaining toner 71 falls in and out of the image forming apparatus main body during maintenance operation for collecting the remaining toner 71 removed from the surface of the intermediate transfer body belt 56.例文帳に追加

トナー回収口を水平方向に向ければ、中間転写体ベルト５６の表面から除去した残トナー７１を回収するメンテナンス作業時、残トナー７１が画像形成装置本体の機内や機外にこぼれ落ちる不具合を解消できる。 - 特許庁

To provide a multilayer printed wiring board which can be improved in conductivity between conduction portions stacked with an insulating layer interposed by preventing the occurrence of a structural defect in bonding portions between an inter-layer conduction portion that electrically connects the stacked conduction portions to each other and the conduction portions.例文帳に追加

絶縁層を介して積層された導電部どうしを導通させる層間導通部と、導電部との接合部分での構造欠陥の発生を防止し、積層された導電部間の導電性を高めることが可能な多層プリント配線板を提供する。 - 特許庁

In the first OBIC process 122 and the second OBIC process 124, an observation plane is irradiated with a laser beam at respectively different irradiating angles and two mutually different pieces of planar information at defect positions are detected from the relation of the irradiated positions and OBIC.例文帳に追加

第１のＯＢＩＣ工程１２２と第２のＯＢＩＣ工程１２４とでは，それぞれ異なる照射角で観察面にレーザ光が照射されて，照射位置とＯＢＩＣとの関係から欠陥位置の相異なる２の平面的な情報が検出される。 - 特許庁

Because of this, detection of minute defect is achieved by using detection signals of only forward scattered light among scattered light detection signals detected in many directions while high-accuracy detection of roughness is achieved by using detection signals of only back scattered light.例文帳に追加

このため、多方向で検出した散乱光検出信号のうち、前方散乱光のみの検出信号を用いることにより微小欠陥の検出が可能となり、後方散乱光のみの検出信号を用いることによりラフネスの高精度検出が可能となる。 - 特許庁

The integral values of signal intensity values in the divided areas and the total mean value of the integral values are calculated to find the variance of the integral values in the divided areas based upon the total mean value and when the variance exceeds a threshold, a defect is recorded in the memory.例文帳に追加

そして、各分割領域での信号強度値の積算値と、その積算値の全平均値を算出し、その全平均値に対して各分割領域の積算値の分散を求め、その分散がしきい値を越えた場合にメモリ上に欠陥として記録される。 - 特許庁

To provide a laminating structure of a 3-group nitride semiconductor capable of realizing a flat surface, a controlled film thickness and the reduction of crystal defect by a one time crystal growing process with excellent reproducibility, and provide a manufacturing method thereof and a 3-group nitride semiconductor device.例文帳に追加

一回の結晶成長工程で、表面が平坦で、膜厚が制御され、再現性良く結晶欠陥の低減を実現できる３族窒化物半導体の積層構造、その製造方法、及び３族窒化物半導体装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate processing device that prevents a processing defect of a semiconductor device by speedily grasping abnormality of an operation state of a lift pin and is surely improved in yield of products by greatly reducing manufacture loss of the semiconductor device.例文帳に追加

リフトピンの動作状況の異常を迅速に把握して半導体装置の加工不良を未然に防ぐことができ、半導体装置の製造ロスを大幅に軽減して製品の歩留まりを確実に向上することができる半導体基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A light-reflection preventing film is provided between a photomask substrate of an inspection object and a photodetector for detecting transmission light transmitted through the photomask substrate to remove a noise such as reflected light, and the defect is detected at high precision thereby.例文帳に追加

本発明は、検査対象物であるフォトマスク基板とフォトマスク基板を透過した透過光を検出するための光検出器の間に光の反射防止膜を設けることにより、反射光などのノイズを除去し、高い精度で欠陥を検出することが出来る。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an epitaxial semiconductor substrate, which can effectively getter metal impurity mixed while an epitaxial layer is formed, and to provide a solid-state image pickup device which can manufacture the solid-state image pickup device where a white blemish defect is reduced.例文帳に追加

エピタキシャル層形成中に混入する金属不純物を有効にゲッタリングすることができるエピタキシャル半導体基板の製造方法、及び白傷欠陥を低減した固体撮像装置を製造することができる固体撮像装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a yarn monitoring device capable of accurately detecting a yarn defect, in a yarn winder having a package driving motor 41 rotatingly driving winding bobbins 6 and 7 and a traverse device 5 traversing yarn when winding the yarn by being driven separately from this motor 41.例文帳に追加

巻取ボビン６，７を回転駆動するパッケージ駆動モータ４１と、このモータ４１とは切り離されて駆動し、前記糸巻取の際に糸を綾振るためのトラバース装置５とを備えた糸巻取機において、糸欠点を正確に検出できる糸監視装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a apparatus for producing a compound semiconductor thin film which, when a group I-III-VI compound semiconductor thin film is deposited, realize prevention of the micronization of crystals and the occurrence of the defect in the film, and also, realize improvement in the utilizing efficiency of Se.例文帳に追加

Ｉ−III−VI族化合物半導体薄膜を形成する際に、結晶の微細化や膜欠陥の発生を防止することができ、かつ、Ｓｅの利用効率を向上できる化合物半導体薄膜の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a protecting film for a polarizing film and a release protecting film for the polarizing film which are extremely small in birefringence, superior in drawing-resistance alignment property in heating, and inexpensive, and a polarizing plate which uses those films and makes it easy to detect an optical defect.例文帳に追加

複屈折が極めて小さく、加熱時の耐延伸配向性に優れ、なおかつ安価な偏光フィルム用保護フィルムと偏光フィルム用離型保護フィルム、およびこれらのフィルムを用いた光学的欠陥の検出が容易な偏光板を提供する。 - 特許庁

To provide a rear-face irradiation type imaging apparatus which can prevent any defect on an image due to dust on an adhesive surface by forming an OB part and avoid no filling of an adhesive agent, resulting in high reliability, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ＯＢ部を形成して且つ接着面の塵埃に起因する画像の傷故障を抑制し、更に接着剤の未充填を無くした信頼性の高い裏面照射型撮像装置及び裏面照射型撮像装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image processor which inspects a defect of an image formed on a transfer medium, fully precisely at a high speed, and minimizes a loss time to be generated when an image printed on the transfer medium is defective.例文帳に追加

転写媒体上に形成された画像の欠陥検査を充分な精度で高速に行なうことができるとともに、転写媒体上に印刷された画像に欠陥があった場合に発生するタイムロスを最小限に抑えることができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

This coating device comprises a coater 1 arranged on one side of a base film W, a coating material feeder 2 for continuously feeding coating material to the coater 1, a feeding amount detector 3 for detecting the feeding amount of the base film W, a coating defect inspection device 4, and the like.例文帳に追加

ベースフィルムＷの片面に配置されるコータ１と、コータ１に塗材を連続供給する塗材供給装置２と、ベースフィルムＷの送給量を検知する送給量検知装置３と、塗工欠陥検査装置４などで塗工装置を構成する。 - 特許庁

To provide a device capable of removing a defect of a conventional technique, measuring an ionic current accurately with excellent repeatability especially at a fixed distance, and measuring simply the ionic current even in the case of an electrode of a static charge eliminator mounted on a narrow place.例文帳に追加

本発明の目的は、かかる従来技術の欠点を解消し、特に一定の距離で精度良く、再現性良くイオン電流を測定し、また狭い場所に取付けられた除電器の電極であっても、簡便にイオン電流を測定できる装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device which can stabilize characteristics of a latent image carrier, prevents a defect in transfer of a developer image to a recoding material, and stabilize the coating amount of a release agent to a fixing body or pressure body while reducing an increase in peak power consumption.例文帳に追加

ピーク時の消費電力の増大を軽減しつつ、潜像担持体の特性の安定化、記録材への現像剤像の転写不良の防止、定着体又は加圧体への離型剤の塗布量の安定化を図ることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for supporting a cutter wheel in which cutting life is improved by reducing the contact area of the cutter wheel with a supporting shaft as little as possible, decreasing the friction resistance and the occurrence of the friction and improving the heat releasing property to prevent the occurrence of rotation defect.例文帳に追加

カッターホイルと支持軸の接触面積を極力少なくし、摩擦抵抗と摩耗発生の低減と放熱性の向上により、回転不良の発生を防止して切断寿命を向上させることができるカッターホイルの支持装置を提供する。 - 特許庁

The presence of the ultrasonic wave (defect signal) is evaluated by fixing the ultrasonic flaw detection sensor installing jig 3, by installing the ultrasonic sensor 2 in the same position as that in the acquisition of the shape signal, and by acquiring the ultrasonic flaw detection to be compared.例文帳に追加

センサの移動の自由度を回転移動と平行移動に限定し、移動量を定量評価可能なよう目盛をつけた超音波探傷センサ設置ジグを、無欠陥で検査対象と同じサイズの基準試験片に固定して形状エコーを取得する。 - 特許庁

To provide an adhesion type optical film with excellent heat resistance and stress relaxation, i.e., an adhesion type optical film generating no display unevenness on a liquid crystal display device and generating no defect such as foaming or the like in an adhesive layer in the case it is left under a heating condition.例文帳に追加

加熱耐久性と応力緩和性の良好な粘着型光学フィルム、すなわち加熱条件下におかれた場合にも、液晶表示装置に表示ムラが生じず、粘着層に発泡等の不具合が生じない粘着型光学フィルムを提供すること。 - 特許庁

The drive-part control part 7 controls the driving of the drive part 6, based on a pattern defect position information 27b and information are inputted from the circuits 11, 13, and 14, to control the action of the pattern correcting mechanism 2 and the image detecting mechanism 3.例文帳に追加

駆動部制御部７は、パターン欠陥位置情報２７ｂや、上記各回路１１・１３・１４から入力される情報に基づいて、駆動部６の駆動を制御することによって、パターン修正機構２および画像検出機構３の動作を制御する。 - 特許庁

To resolve the problem that a fault occurs due to dropping of coffee at the time of using an electronic device indoors or rainfall or the like at the time of using it outdoors because water reaches an electronic device circuit part through a keyboard and the problem that a defect of key touch occurs due to accumulation of dust in a keyboard operation part.例文帳に追加

電子機器を屋内で使用する時のコーヒー落下、屋外で使用する時の降雨等により、キーボードを通して水が電子機器回路部に到達して、故障が発生すると共にキーボード操作部にごみがたまり、キータッチ不良が発生する。 - 特許庁

To provide an information input method using a touch control, wherein a defect that erroneous input is induced because a user himself or herself doesn't know whether a proper input is performed or not when performing an input by touch control input is resolved without reducing the convenience.例文帳に追加

タッチコントロール入力で入力する際に、適切に入力されているかを利用者自身が分からないために、誤入力を誘発してしまう欠点を、利便性を低下させることなく解決したタッチコントロールによる情報入力方法を提供する。 - 特許庁

This method prepares a corrosion liquid for silicon wafer crystal defect evaluation by mixing the potassium permanganate KMnO_4 and the hydrogen fluoride HF with a volume ratio of 0.5-1:1-3 and employs a wet chemical method to evaluate silicon wafer crystal defects whose specific resistance value is 0.01 Ωcm or less.例文帳に追加

シリコンウェハの結晶欠陥評価用腐蝕液を、過マンガン酸カリＫＭｎＯ_４とフッ化水素ＨＦを０．５〜１：１〜３の体積比で混合して調製し、比抵抗値が０．０１Ωｃｍ以下のシリコンウェハの結晶欠陥を化学的湿式方法で実施した。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which shows sufficient transmitting property when an exposure light source at ≤160 nm, specifically, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used and which is improved in surface roughness, development defect, scum and resolving power, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源使用時に十分な透過性を示し、表面ラフネス、現像欠陥、スカム、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Because the white defect part has greater influence, the adhesion strengths of the first and second close contact surfaces are set such that the generation of cavities with the time degradation of the adhesion member progresses in the second close contact surface more than in the first close contact surface.例文帳に追加

白欠陥の方が影響が大きいため、密着部材の経時劣化に伴う空隙の発生が第１の密着面内よりも第２の密着面内で進行するように、第１の密着面の密着力及び第２の密着面の密着力を設定する。 - 特許庁

In the defect inspection system, when a plurality of detectors such as an upright detector and an oblique detector are used, the reduction of the inspection sensitivity can be prevented by correcting the field positions of the other remaining detectors with respect to the field of view of the one detector.例文帳に追加

欠陥検査装置において、上方検出系や斜方検出系などの複数の検出系を使用する場合、一つの検出系の視野に対して、他の検出系の視野の位置を補正することによって、検査感度の低減を防ぐことが出来る。 - 特許庁

An analyte image inspection device 20 is provided nearby an outer peripheral part of an inspection rotor 10, and captures an appearance image of an analyte moving while held by a holding part of the inspection rotor 10 to inspect whether the analyte has a defect based upon the appearance image.例文帳に追加

被検体画像検査装置２０は、検査ロータ１０の外周部近傍に設けられ、検査ロータ１０の保持部に保持されて移動する被検体の外観画像を取得して、その外観画像に基づきその被検体における不良の有無を検査する。 - 特許庁

The transmitted light transmitted through the sample 1 is compared with the light intensity of transmitted light transmitted through a normal part, to thereby detect a defect 12 in the sample 1 from the scanning quantity of the measuring device 4 from the scanning base point where decline of the light intensity of the transmitted light is seen.例文帳に追加

試料１を透過した透過光を、正常部を透過した透過光の光強度と比較して、透過光の光強度の低下が見られる時の走査基点からの測定器４の走査量から試料１における欠陥１２を検出する。 - 特許庁

A wheel 22 for a vehicle is assembled into the fixture 1 for working the circumferential face of a casting made of a light alloy, and oscillation is caused in the upper and lower directions, thus the micro-casting defect of the wheel 22 for a vehicle is easily corrected, so as to improve the mechanical properties of the rim 91.例文帳に追加

この軽合金製鋳造品周面加工用治具１に車両用ホイール２２を組み込み、上下方向に揺動をさせることで、容易に、車両用ホイール２２の微小鋳造欠陥を修復し、リム９１の機械的性質を向上し得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a base for photography which can apply gelatine undercoat layer coating liquid at a high speed to the base for continuously traveling photography and is free of coating unevenness, a defect in coating of an undercoat layer due to formation of an air bubble, and breaking of paper at a coater part.例文帳に追加

連続走行する写真用支持体へのゼラチン下引き層塗布液の高速塗布が可能であり、塗布ムラがなく、且つ、泡の発生による下引き層の塗布欠陥がなく、コーター部での断紙のない、写真用支持体の製造方法の提供。 - 特許庁