「ELECTRON-MICROSCOPE」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

The colloidal silica is produced by using an active silicic acid as a raw material in the presence of benzotriazole, and contains benzotriazole in the liquid phase and a group of non-spherical heteromorphic silica particles which has a major axis/minor axis ratio by a transmission electron microscope in the range of 1.2-15 and an average value of the major axis/minor axis ratio of 1.5-10.例文帳に追加

ベンゾトリアゾールの存在下で活性珪酸を原料として製造されるコロイダルシリカであって、液相にベンゾトリアゾールを含有し、透過型電子顕微鏡観察による長径／短径比が１．２〜１５の範囲にありかつ長径／短径比の平均値が１．５〜１０である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカである。 - 特許庁

The colloidal silica is produced by using an active silicic acid as a raw material in the presence of triazole, and contains triazole in the liquid phase and a group of non-spherical heteromorphic silica particles which has a major axis/minor axis ratio by a transmission electron microscope in the range of 1.0-5 and an average value of the major axis/minor axis ratio of 1.2-3.例文帳に追加

トリアゾールの存在下で活性珪酸を原料として製造されるコロイダルシリカであって、液相にトリアゾールを含有し、透過型電子顕微鏡による長径／短径比が１．０〜５の範囲にありかつ長径／短径比の平均値が１．２〜３である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカである。 - 特許庁

To provide a liquid medium for sample observation by an electron microscope and a sample observation method using the liquid medium, capable of preventing charge of a sample observation surface by a simple means, suppressing deformation caused by contraction or the like even after being dried, in a biosample or the like, and restraining an original image of the sample from being obstructed by partial remaining of ion liquid on a contraction impression.例文帳に追加

試料観察面の帯電を簡易な手段で防止でき、生体試料等において、乾燥後も収縮等の変形を抑制でき、さらに収縮痕へのイオン液体の部分的な残留により試料本来の像が妨げられることを抑制できる電子顕微鏡による試料観察用の液状媒体とそれを用いた試料観察方法を提供する。 - 特許庁

When the surface of the metal film 30 is observed using a field emission type scanning electron microscope at an acceleration voltage of 3 kV or lower, small particles having a particle size of 3 μm or smaller, intermediate particles having a particle size of 5-20 μm formed by aggregating the small particles, and large particles having a particle size of 30 μm or larger formed by aggregating the intermediate particles are observed.例文帳に追加

また、金属被膜３０の表面を、電界放射型走査電子顕微鏡を用いて加速電圧３ｋＶ以下で観察した際に、粒径３μｍ以下の小粒子と、この小粒子が凝集して形成された粒径５μｍ以上２０μｍ以下の中粒子と、この中粒子が凝集して形成された粒径３０μｍ以上の大粒子と、が観察されることを特徴とする。 - 特許庁

This curable resin composition contains an epoxy resin, a solid polymer having a functional group reacting with the epoxy group and a curing agent for the epoxy resin, and when the cured material is dyed with a heavy metal and observed by using a transmission electron microscope, a phase separated structure is not observed in a matrix consisting of the resin.例文帳に追加

エポキシ樹脂と、エポキシ基と反応する官能基を有する固形ポリマーと、エポキシ樹脂用硬化剤とを含有する硬化性樹脂組成物であって、硬化物を重金属により染色し、透過型電子顕微鏡により観察したときに、樹脂からなるマトリクス中に相分離構造が観察されない硬化性樹脂組成物。 - 特許庁

The resin structure is constituted by a resin composition substantially comprising (a) a polyester resin and (b) a polyphenylene sulfide resin(PPS resin) at a specific ratio and, simultaneously, the PPS resin layer being allowed to have a special structure such as a continuous phase and a belt-shaped dispersion phase as the resin phase separation structure to be observed in the resin composition by an electron microscope.例文帳に追加

特定比の実質的に（ａ）ポリエステル樹脂及び（ｂ）ポリフェニレンスルフィド樹脂（ＰＰＳ樹脂）からなる樹脂組成物で構成され、かつ、該樹脂組成物中に電子顕微鏡で観察される樹脂相分離構造としてＰＰＳ樹脂層が連続相や帯状分散相等の特殊な構造を持った樹脂構造体とする。 - 特許庁

The polishing jig for physical analysis 1 comprises at least an observing block 2 having a sample attaching surface 5a to which the sample 11 is attached and insertable to an in-lens type scanning electron microscope (SEM), a sample mount 3 having a stepped guide part 6 by which the observing block 2 is positioned, and a sample mount holder 4 to which the sample mount 3 is attached.例文帳に追加

試料１１が貼付される試料貼付面５ａを有し、インレンズ方式の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）に挿入可能な観察用ブロック２と、観察用ブロック２が位置決めされる段差ガイド部６を有する試料マウント３と、試料マウント３が固定される試料マウントホルダ４とを少なくとも備える物理解析用研磨冶具１である。 - 特許庁

A polishing composition comprises water sol containing zirconium oxide particles having a specific surface area value of 10 to 400 m^2/g, a particle diameter in the range of 3 to 110 nm converted from it, and the mean value of a primary particle diameter by scanning electron microscope observation in the range of 5 to 150 nm; and is used for polishing a silicon oxide film in manufacturing semiconductor devices.例文帳に追加

１０〜４００ｍ^２／ｇの比表面積値とそれから換算される３〜１１０ｎｍの範囲の粒子径を有し、走査型電子顕微鏡観察による一次粒子径の平均値が５〜１５０ｎｍの範囲にある酸化ジルコニウム粒子を含有する水性ゾルを含み、半導体装置製造時の酸化珪素膜の研磨に使用される研磨用組成物。 - 特許庁

The aluminum alloy sheet is subjected to cold rolling at a working ratio of 30 to 60%, the average crystal grain size obtained by a cutting method is ≤30 μm, and the area occupancy ratio of intermetallic compounds on the surface obtained by the image analysis of an observed picture in a scanning type electron microscope is 1.0 to 5.0%.例文帳に追加

このアルミニウム合金板は、加工率が３０乃至６０％の冷間圧延が施され、切断法により求めた平均結晶粒径が３０μｍ以下であり、走査型電子顕微鏡の観察画面像の画像解析により求めた表面における金属間化合物の面積占有率が１．０乃至５．０％である。 - 特許庁

The device comprises a sample chamber which enables atmosphere control, a sample holder 14 which introduces a volatile substance containing sample in the sample chamber, a scanning electron microscope for observing this sample held, a manipulator which samples the sample held in the sample holder 14, and a sample holder 15 for taking out the sample sampled to the outside of the sample chamber 2.例文帳に追加

雰囲気制御が可能な試料チャンバー２、試料チャンバー内に揮発性物質含有試料を導入する試料ホルダー１４、この保持された試料を観察するための走査電子顕微鏡、試料ホルダー１４に保持された試料をサンプリングするマニピュレータ、サンプリングされた試料を試料チャンバー２の外部に取り出すための試料ホルダー１５を具備する。 - 特許庁

The method for producing the carbon black comprises subjecting a raw material of the carbon black having 0.5-0.8 μm mode diameter in the size distribution curve drawn by using the structure lengths measured by the transmission electron microscope, and ≥1 μm half width thereof to a heat treatment in a gas flow containing hydrogen to remove an acidic functional group.例文帳に追加

透過型電子顕微鏡によって測定されたストラクチャー長さを用いて描かれた粒度分布曲線の最大頻度径が０．５〜０．８μｍで、その半値幅が１μｍ以上であるカーボンブラック原料を、水素を含む気流中、加熱処理して酸性官能基を脱離させることを特徴とするカーボンブラックの製造方法。 - 特許庁

The scanning electron microscope includes at least two memories for temporarily storing image data; a control part for starting to transfer first image data stored in the first memory out of the two memories, to the external device and setting imaging conditions for the second image data; and a memory selecting part for temporarily storing the second image data imaged under the set imaging conditions, into the second memory.例文帳に追加

画像データを一時格納する少なくとも２個のメモリと、該メモリのうちの第一のメモリへ格納された第一の画像データの外部装置への転送の開始とともに、次の第二の画像データの撮像条件設定を行う制御部と、該設定された撮像条件で撮像された第二の画像データを第二のメモリへ一時格納させるメモリ選択部とを備える。 - 特許庁

The evaluation method of the formation of the serum protein composite to the biometal includes a process <1> for incubating the biometal in serum, a process <2> for washing the biometal with a buffer solution, a process <3> for washing the biometal with refined water and a process <4> for observing the presence of the formation of the serum protein composite to the biometal by a scanning electron microscope.例文帳に追加

生体用金属に対する血清タンパク質複合体形成の評価方法であって、少なくとも、＜１＞生体用金属を血清中でインキュベーションする工程、＜２＞緩衝液で洗浄する工程、＜３＞精製水で洗浄する工程、および、＜４＞生体用金属に対しての血清タンパク質複合体形成の有無を走査型電子顕微鏡で観察する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A sample 2 is cut from a semiconductor chip to be made thin by mechanical polishing and the thin sample is attached to a single-ported mesh 6 for transmission type electron microscope observation and a Pt film 7 is formed to the part with specific depth of an end surface and irradiated with gallium ion beam 8 parallel to the main surface of the sample to make the part other than a principal part thin by etching.例文帳に追加

半導体チップから試料２を切り出し、機械的研磨により薄くした後、透過型電子顕微鏡観察用の単孔メッシュ６に取付け、端面の特定深さの部分にＰｔ膜７を形成し、試料の主面に平行なガリウムイオンビーム８を照射して要部以外の部分をエッチングして薄膜化する。 - 特許庁

To provide an imaging device (a device according to an aberration correction device) for a charge particle beam device as an electron microscope or the like used for the inspection and measurement of a semiconductor, in which a small deviation beam with a high probe current is formed to improve the resolution and throughput in EDX analysis, WDX analysis, or defect inspection.例文帳に追加

半導体の検査および計測に使用される電子顕微鏡等の荷電粒子ビーム装置用の「撮像装置」（収差補正装置に準ずる装置）であって、ＥＤＸ分析、ＷＤＸ分析、欠陥検査等の分解能およびスループットを向上させるために高プローブ電流で分散の小さいビームを形成できるようにする。 - 特許庁

After the sample 10a to measure the resistance characteristics is irradiated with cation beams and charged, the sample 10a is observed with a scanning ion microscope, and the part (low resistance part) 6 where the electric resistance is different from the other area is detected from the contrast of electronic images (secondary electronic images) by a secondary electron from the sample 10a to be tested.例文帳に追加

抵抗特性を測定すべき被検試料１０ａに陽イオンビームを照射して帯電させた後、被検試料１０ａを走査イオン顕微鏡にて観察し、被検試料１０ａから生じる二次電子による電子像（二次電子像）のコントラストから、電気抵抗値がその他の領域とは異なる箇所（低抵抗箇所）６を検出する。 - 特許庁

In order to solve the subject matter, the scanning electron microscope is provided to measure the sample height and the sample potential using measured results obtained at the applied state of a voltage to a sample, so as not to get the charged-particle radiation of an electronic beam to the sample when it is radiated to the sample.例文帳に追加

上記課題を解決するために、試料に向かって電子線等の荷電粒子線等を照射する際に、当該荷電粒子線が試料に到達しないように、試料に電圧を印加した状態で得られる電子等の荷電粒子の検出結果を用いて、試料高さや試料電位を測定する走査電子顕微鏡を提案する。 - 特許庁

To provide an electron microscope in which control of a button and a slider or the like realizing demand of an operator from a complicated operation screen is shown to the operator in a visually comprehensive state, and in which the most effective operation can be instructed to the operator by analyzing an operation state at that time point in the case a problem occurs during observation.例文帳に追加

本発明の目的は、複雑な操作画面からオペレータの要求を実現するボタンやスライダ等のコントロールをオペレータに視覚的にわかり易く示すと共に、観察中に問題が発生した場合には、その時点の操作状態を解析し、最も有効な操作をオペレータに指示することのできる電子顕微鏡を提供することにある。 - 特許庁

In the piezoelectric power generating element, a pair of electrodes is arranged on a piezoelectric ceramics layer formed of a ceramics in a range of average grain size of 0.01-0.1 μm by observation using a scanning electron microscope, and the piezoelectric ceramics layer subjected to polarization processing is applied with an external force different from the polarization direction, thereby generating electric potentials.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡観察により平均粒径０．０１μｍ以上、０．１μｍ以下の範囲のセラミックスで形成されている圧電セラミックス層に対電極を配置し、分極処理した圧電セラミックス素子に、分極方向と異なる外力を与え電荷を発生することを特徴とする圧電発電素子。 - 特許庁

This semiconductor device inspection apparatus 1 is equipped with a stage 141 disposed in a vacuum chamber 11 for setting the semiconductor device (sample S), a femto-second laser device 12 for generating a femto-second laser beam FSLB for cutting the semiconductor device, and a scanning electron microscope (SEM 17) for observing the cut face W of the semiconductor device cut by the laser beam.例文帳に追加

半導体デバイス検査装置１は、半導体デバイス（試料Ｓ）をセットする真空チャンバー１１内に配設されたステージ１４１と、半導体デバイスを切削するフェムト秒レーザビームＦＳＬＢを生成するフェムト秒レーザ装置１２と、当該レーザビームにより切削した半導体デバイスの切削面Ｗを観察する電子顕微鏡（ＳＥＭ１７）とを備えている。 - 特許庁

The magnetic field objective lens for an electron microscope has a first magnetic field lens and a second magnetic field lens generating a magnetic field in the vicinity of a sample mounting region along an optical axis, and in the sample mounting region, the magnetic fields by the first magnetic field lens and the second magnetic field lens are canceled each other to zero.例文帳に追加

電子顕微鏡用磁界型対物レンズは、光軸に沿う試料配置領域の近傍に磁場を発生させる第１磁界型レンズおよび第２磁界型レンズを有し、前記試料配置領域において、前記第１磁界型レンズおよび前記第２磁界型レンズによる磁場が互いに打ち消されてゼロになる。 - 特許庁

The silica-titania composite oxide particle produced by a vapor deposition method has a titania content of 50 wt.% or more, a BET specific surface area of 100 m^2/g or less, a containing rate of a silica single particle and a titania single particle by electron microscope observation of 10% or less, favorably 5% or less, and a hydrophobic surface.例文帳に追加

気相法によって製造されたシリカ・チタニア複合酸化物粒子であって、チタニアの含有量が５０重量％以上、ＢＥＴ比表面積が１００ｍ^2／ｇ以下、電子顕微鏡観察下においてシリカ単独粒子およびチタニア単独粒子の割合が１０％以下、好ましくは５％以下であり、表面が疎水化されているシリカ・チタニア複合酸化物粒子。 - 特許庁

The sample holding mesh 13 used for a transmission electron microscope has a separable part (a primary mesh 13-1) and this part is made to be detachable from the remaining part (a secondary mesh 13-2) after separation so that it may not break a tip of the sample during measurement and precise elemental analysis can be performed.例文帳に追加

透過型電子顕微鏡に用いられる試料保持用のメッシュ１３において、前記メッシュの一部（第１のメッシュ１３−１）が分離し、当該一部が、分離後に残った部分（第２のメッシュ１３−２）と脱着可能な形態とすることにより、測定中、試料の先端を崩さずに、精度の高い元素分析を行なう。 - 特許庁

The resinous structure comprises a resin composition consisting of 5-80% by volume of a polyketone resin and 95-20% by volume of a polyolefin resin and has a phase structure, as a resin phase-separating structure observed with an electron microscope, in which structure the polyolefin resin is of a continuous phase and the polyketone resin is of a beltlike dispersed structure.例文帳に追加

（ａ）ポリケトン樹脂５〜８０容量％及び（ｂ）ポリオレフィン樹脂９５〜２０容量％からなる樹脂組成物であり、電子顕微鏡で観察される樹脂相分離構造として、ポリオレフィン樹脂が連続相、ポリケトン樹脂が帯状分散相である相構造を有する樹脂構造体とする。 - 特許庁

To provide a method corresponding to the subject related to a sample holding stand, sample pretreatment and a sample holder for analyzing a structure, a composition and an electronic state in a device operated state by applying external voltage to a sample to be observed in a sample analyzer inclusive of a transmission electron microscope, and a sample analyzing method.例文帳に追加

透過電子顕微鏡をはじめとする試料分析装置において、観察しようとする試料に外部電圧を印加し、デバイスが動作状態のまま構造、組成、電子状態を分析するための、試料保持台、試料の前処理および試料ホルダに関する課題に対応する方法、および、当該試料の分析を行う方法を提供する。 - 特許庁

The heat-resistance resin is obtained by subjecting to a crystallization treatment a film comprising 70-30 wt.% of a polyarylketone resin having a crystal melting peak temperature of at least 260°C and 30-70 wt.% of a non- crystalline polyetherimide resin and has a maximum crystal grain size of at most 0.3 μm as observed by a transmission electron microscope.例文帳に追加

結晶融解ピーク温度が２６０℃以上であるポリアリールケトン樹脂７０〜３０重量％と非晶性ポリエーテルイミド樹脂３０〜７０重量％とからなるフィルムを結晶化処理したフィルムであって、透過型電子顕微鏡で観察した際に、最大結晶粒径が０．３μｍ以下であることを特徴とする耐熱性フィルム。 - 特許庁

There are provided a method for correcting magnification and position and a system for correcting magnification and position, both of which can correct measurement magnification and measurement position of a spectral image with high efficiency and with high accuracy using an electronic spectroscope and a transmission electron microscope, regarding the spectral image formed with two axes where the amount of energy loss and the measurement position information are orthogonal to each other.例文帳に追加

電子分光器および透過型電子顕微鏡を用いて、エネルギー損失量と測定位置情報が直交する二軸で形成されるスペクトル像について、スペクトル像の測定倍率および測定位置を高効率かつ高精度に補正可能な倍率・位置補正方法および倍率・位置補正システムを提供する。 - 特許庁

An SEM control means 41 of a scanning electron microscope device body 10 is set at a maintenance mode via a computer 50 processing an operation function about an observation operation processed with a normal SEM control means 41, or an output function about an observation operation via a data telecommunication line 80 from a maintenance computer 60 of a development base, a service center or the like of the manufacturer.例文帳に追加

メーカの開発拠点・サービスセンタのメンテナンスコンピュータ６０から、データ通信回線８０を介して、通常のＳＥＭ制御手段４１との間で実行する観察作業に関わる操作機能や観察作業に関わる出力機能を実行するコンピュータ５０を経由して、走査電子顕微鏡装置本体１０のＳＥＭ制御手段４１をメンテナンスモードに設定する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device, which is suitable for mass- production management and has high reliability and stable yield by improving dense distribution of holes and controllability to a hole diameter and by realizing easy inspection process for a buried plug height, using a scanning electron microscope as for the height of the buried plug in formation of a wiring contact part of a dual-damascene wiring.例文帳に追加

デュアルダマシン配線の配線コンタクト部の形成における埋め込みプラグの高さについて、ホールの疎密分布およびホール径に対する制御性を改善し、走査型電子顕微鏡を用いた埋め込みプラグ高さの検査工程を容易にし、量産管理に適した信頼性の高い歩留の安定した半導体装置を得る。 - 特許庁

The thermoplastic resin composition is obtained by compounding 15-50 wt.% polyamide resin (a) and 50-85 wt.% polylactic acid resin (b), and forming a phase structure, wherein, in resin phase separation structure observed by an electron microscope, the polyamide resin (a) forms a continuous phase and the polylactic acid resin (b) forms a continuous phase or a dispersed phase.例文帳に追加

ポリアミド樹脂（ａ）１５〜５０重量％およびポリ乳酸樹脂（ｂ）５０〜８５重量％を配合してなる熱可塑性樹脂組成物であり、かつ電子顕微鏡で観察される樹脂相分離構造においてポリアミド樹脂（ａ）が連続相、ポリ乳酸樹脂（ｂ）が分散相または連続相となる相構造を形成することを特徴とする熱可塑性樹脂組成物。 - 特許庁

In the evaluation method of the co-flocculation capacity of bacteria, external force is applied to a capsule 11 for submerged observation containing at least two kinds of bacteria becoming an evaluation target, the co-flocculation states of bacteria before and after external force is applied is observed by a scanning electron microscope and the co-flocculation capacity of bacteria is evaluated on the basis of the observation result.例文帳に追加

本発明の細菌の共凝集能の評価方法は、評価対象となる二種以上の細菌を含む液中観察用カプセル１１に外力を加え、外力を加える前と加えた後の前記細菌の共凝集状態を走査型電子顕微鏡により観察し、その観察結果に基づいて前記細菌の共凝集能を評価する。 - 特許庁

(b) an average primary particle size of the silica particles measured by a nitrogen adsorption method is 5-100 nm and a coefficient of variation CV value of a particle size of the silica particles measured by an image analysis of a photograph obtained by using a transmission electron microscope is 0-15%; and (c) the polyethylene glycol has a number-average molecular weight of 200-15,000.例文帳に追加

（ａ）：前記シリカ粒子の形状係数ＳＦ１が１．００〜１．２０であること（ｂ）：前記シリカ粒子の窒素吸着法により求められる平均一次粒子径が５〜１００ｎｍであって、且つ透過型電子顕微鏡写真の画像解析から求められる粒子径変動係数ＣＶ値が０〜１５％であること（ｃ）：前記ポリエチレングリコールは、数平均分子量が２００〜１５０００であること - 特許庁

In the manipulation device for the minute work of the electron microscope, the dual probe 10 comprising a main probe 11 and a sub probe 12 bonded to the main probe 11 is provided to one or two or more manipulator units driven in X-axis, Y-axis and Z-axis directions and rotatable around a T-axis and/or an R-axis independently of each other.例文帳に追加

Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向への駆動及びＴ軸および／またはＲ軸の回転が各々独立に可能な1つ又は2つ以上のマニピュレータユニットにメインプローブ１１とそれに接合するサブプローブ１２よりなるデュアルプローブ１０を載置することを特徴とする電子顕微鏡微細作業用マニピュレーション装置である。 - 特許庁

This grid holder sandwiches from the upper and lower sides and fixes this grid for the transmission electron microscope having a base material 1 having at least one opening part 6, a carbon film 2 for covering a first face and the opening part of the base material, a metal later (for example, a tantalum layer) formed on the carbon film, and a ceramic layer (for example, an alumina layer).例文帳に追加

少なくとも１つの開口部６を有する基材１と、基材の第１面および開口部を被覆するカーボン膜２と、カーボン膜上に形成された金属層（例えばタンタル層）３と、セラミック層（例えば酸化アルミニウム層）４とを有する透過型電子顕微鏡用グリッドと、それを上下から挟んで固定するホルダー。 - 特許庁

The surface atom visualizing apparatus 1 is equipped with an exciting unit 2 for irradiating the surface atom of the solid sample 5 with high-energy exciting light 9 for exciteing itinerant valence electrons, to convert the same into photoelectrons and an electron microscope unit 3 for forming an atomic image on the surface of the solid sample 5, on the basis of the photoelectrons excited from the itinerant valence electrons by the exciting unit 2.例文帳に追加

表面原子可視化装置１は、固体試料５の表面原子に高エネルギ励起光９を照射し、遍歴的な価電子を励起して光電子に変換する励起ユニット２と、励起ユニット２によって遍歴的な価電子から励起された光電子に基づいて、固体試料表面上の原子像を生成する電子顕微鏡ユニット３とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The semiconductor test system is composed of a navigation system which makes up all conditions required for photographing/testing from design information, and a scanning electron microscope system which actually carries out photographing/testing, and then the all conditions required for photographing/testing are made up from the design information such as CAD data or the like, and the actual test is carried out in those conditions.例文帳に追加

CADデータ等の設計情報から撮影／検査に必要な全ての条件を作成し、その条件で実際の検査を行うために、半導体検査システムを設計情報から撮影／検査に必要な全ての条件を作成するナビゲーションシステムと実際の撮影／検査を実行する走査型電子顕微鏡システムとから構成させる。 - 特許庁

The measurement on the plurality of items is performed, in which the AMP (auto measurement parameter) registration is performed for the setting of the parameters regarding the preparation of a line profile from a SEM (scanning electron microscope) image, as the common condition to all measurement items, and in which the plurality of AMP registrations for the edge detection method and the distance measurement value calculation method are performed.例文帳に追加

本発明においては、ＳＥＭ画像からラインプロファイルを作成するときに関わるパラメータの設定を全測定項目において共通の条件としてＡＭＰ登録を行い、また、エッジ検出方法と測長値算出方法を複数のＡＭＰ登録を行うことによって、複数項目の測定を行うようにした。 - 特許庁

In order to achieve the objective, a scanning electron microscope is disclosed in which the shield member to shield the exterior magnetic field is constituted with a plurality of plate state parts consisting of magnetic materials, and constituted so that on a circumference of a circle having its center at the center of the space, the plurality of plate state parts are aligned to have the face directions in different directions from tangent lines of the circle.例文帳に追加

上記目的を達成するために、外部磁場をシールドするシールド部材を、磁性材料からなる複数の板状部で構成し、前記空間の中心を円の中心とした円周上に、当該円の接線とは異なる方向にその面方向を持つように、前記複数の板状部を配列するように構成した走査電子顕微鏡を提案する。 - 特許庁

In the component for glassy carbon CVD device, when observing a field of view of 50μm×50μm on its surface by a scanning electron microscope, at least five holes of 1-10μ in diameter exist, or the total length of a linear hole of 0.5-5μm in width is at least 50μm in the field of view.例文帳に追加

ガラス状炭素製ＣＶＤ装置用部品であって、該部品の表面について、走査型電子顕微鏡を用いて観察した５０μｍ×５０μｍの視野中に、直径１〜１０μｍの孔が、少なくとも５個存在するか、該視野中に存在する幅０．５〜５μｍの線状孔の全長さが、少なくとも５０μｍであることを特徴とするガラス状炭素製ＣＶＤ装置用部品である。 - 特許庁

This scanning electron microscope is provided with the function of computing corrected precision after coordinates compensation to be displayed by using a vector 39, the function of automatically determining scale factor during search in automatic detection of foreign materials/defects after coordinates compensation from acquired information, and the function of computing appearance ratio of foreign materials/defects and time required from search scale factor and measuring conditions.例文帳に追加

座標補正後の補正精度を算出し、ベクトル３９を用いて表示する機能、得られた情報から座標補正後異物／欠陥を自動検出する際の探索時の倍率を自動で決定する機能、また探索倍率と測定条件から異物／欠陥の出現率とかかる時間を算出する機能を設けた。 - 特許庁

To hold an observation desired portion stably on a sample holder, when extracting surely the observation desired portion from a large sample substrate and performing finishing process for preparing a thin-film sample, in a method for preparing the thin-film sample for performing observation by a transmission electron microscope by using a focused ion beam.例文帳に追加

集束イオンビームを用いて透過型電子顕微鏡で観察をおこなうための薄膜試料を作製する方法において、大きな試料基板から観察所望部位を確実に抽出し、薄膜試料作製のための仕上げ加工を行なう際に、観察所望部位を試料ホルダに安定して保持することができるようにする。 - 特許庁

In this electron microscope with a magnetic image forming energy filter, the energy filter is provided with direction change systems 11-14 arranged symmetrically with one center plane M and a hexapol provided between the direction change systems 11-14 and a projection system succeeding the energy filter in the beam direction.例文帳に追加

磁気形結像エネルギフィルタを有する電子顕微鏡において、前記エネルギフィルタは、１つの中心平面（Ｍ）に対して対称的に配置された方向変換系（１１−１４）を有し、方向変換系と、ビーム方向でエネルギフィルタに後続する投影系との間に設けられたヘクサポール（Hexapol） を有すること。 - 特許庁

The carbon black has ≤0.5% oxygen content, 150-250 ml/100 g DBP absorption measured based on JIS K 6217, 0.5-0.8 μm mode diameter in a size distribution curve drawn by using structure lengths measured by a transmission electron microscope, and ≥1 μm half width thereof.例文帳に追加

酸素含有量が０．５％以下、ＪＩＳ Ｋ ６２１７によるＤＢＰ吸収量が１５０〜２５０ｍｌ／１００ｇ、透過型電子顕微鏡によって測定されたストラクチャー長さを用いて描かれた粒度分布曲線の最大頻度径が０．５〜０．８μｍで、その半値幅が１μｍ以上であることを特徴とするカーボンブラック。 - 特許庁

The conductive electroless plating powder in which a nickel film is formed by an electroless plating method on the surface of the core member powder is characterized in that grain boundaries are not admitted at the section in the thickness direction of the nickel film when the section is observed by a scanning electron microscope at magnifying power up to 100,000 times.例文帳に追加

本発明の芯材粉体の表面に無電解めっき法によってニッケル皮膜を形成した導電性無電解めっき粉体は、前記ニッケル皮膜の厚さ方向断面を、走査型電子顕微鏡によって１０００００倍迄の拡大倍率で観察したときに、該断面に結晶粒界が認められないことを特徴とする。 - 特許庁

This manufacturing method of a sample for a transmission type electron microscope includes a process for forming a protective film of an amorphous structure to the observation cross section of the specific place of a semiconductor device, a process for removing the periphery of the observation cross section to which the protective film is formed and a process for forming the region containing the protective film into a thin film state.例文帳に追加

透過型電子顕微鏡用の試料の作製方法において、半導体デバイスの特定箇所の観察断面に非晶質構造の保護膜を形成する工程と；前記保護膜が形成された観察断面の周囲を除去する工程と；少なくとも前記保護膜を含む領域を薄膜化する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁