「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(84ページ目) - Weblio英語例文検索

After an etchant for the metal film 103 is supplied to the peripheral region of the metal film 103 at a first flow velocity while rotating the semiconductor substrate 101 on which the metal film 103 is formed by the electrolytic plating process, the etchant is successively supplied at a second flow velocity less than the first flow velocity.例文帳に追加

電解メッキ法により金属膜１０３が形成された半導体基板１０１を回転させながら、金属膜１０３用のエッチング液を第１の流速で金属膜１０３の外周領域に供給した後、引き続き第１の流速よりも小さい第２の流速でエッチング液を供給する。 - 特許庁

Further, the method of manufacturing the electronic device having (A) a first electrode and a second electrode and (B) an active layer 20 provided between the first electrode and second electrode 16 includes a process of making the metal oxide semiconductor forming the active layer 20 to adsorb ligand molecules.例文帳に追加

また、（Ａ）少なくとも、第１電極及び第２電極、並びに、（Ｂ）第１電極と第２電極１６の間に設けられ、金属酸化物半導体から成る能動層２０を備えた電子デバイスの製造方法は、能動層２０を構成する金属酸化物半導体にリガンド分子を吸着させる工程を含む。 - 特許庁

In the method for manufacturing the toner, the method of sticking the first inorganic particulates to the toner particles is different from the second inorganic particulates, and sticking the first inorganic particulates are stuck to the toner particles by a wet process or by applying mechanical energy by means of a member which itself does not generate heat.例文帳に追加

第１無機微粒子と第２無機微粒子とで、トナー粒子への付着方法が異なっており、第１無機微粒子を湿式法でトナー粒子に付着させるか、または自ら発熱しない部材により機械的エネルギーを与えることによってトナー粒子に付着させる静電荷像現像用トナーの製造方法。 - 特許庁

To provide a film-forming method that controls at least any one content of a metal, nitrogen and carbon contained in the thin film which is formed through a film-forming process of alternately supplying a first treatment gas containing metal, nitrogen and carbon, and a second treatment gas for reducing the first treatment gas.例文帳に追加

金属と窒素と炭素を含む第１の処理ガスと、当該第１の処理ガスを還元する第２の処理ガスを交互に供給して薄膜を形成する成膜方法において、前記薄膜に含まれる、前記金属、窒素、および炭素のうち、少なくともいずれか一つの含有率の制御することを可能とすること。 - 特許庁

In the first process, a molded body 60 of valve action metal which serves as the sintered body is manufactured by disposing a dummy member 61 at a spot P where the engagement part is formed, after that, the dummy member 61 is removed from the molded body 60, and the sintered body is then sintered at a first prescribed temperature to manufacture the sintered body.例文帳に追加

そして、第１工程では、焼結体となる弁作用金属粉の成型体60を、嵌合部を形成せんとする箇所Ｐにダミー部材61を配して作製し、その後、成型体60からダミー部材61を取り除き、続いて該成型体60を第１所定温度で焼成して焼結体を作製する。 - 特許庁

In sorting process, the plunger displacement characteristic of the lash adjusters such as leak down amount is measured, and the lash adjuster in which a plunger displacement characteristic belongs to a first range, and the lash adjuster in which the plunger displacement characteristic belongs to a second range different from the first range are sorted out of the measured lash adjusters based on the measurement result.例文帳に追加

選別工程では、リークダウン量などといったプランジャ変位特性の測定されたラッシュアジャスタの中から、該プランジャ変位特性が第１の範囲に属するラッシュアジャスタと、該プランジャ変位特性が第１の範囲とは異なる第２の範囲に属するラッシュアジャスタとがその測定結果に基づき選別される。 - 特許庁

In the laser beam machining process, a plurality of times of the shots are performed while shifting the irradiation position in such a manner that a first irradiation region F1 which is irradiated with the pulse laser and a second irradiation region F2 which is irradiated succeeding to the first irradiation region F1 in the machined surface of the work substrate are overlapped with each other.例文帳に追加

該レーザ加工工程においては、任意の孔形成に関し、ワーク基板の加工面におけるパルスレーザの照射される第一照射領域Ｆ１と、該第一照射領域Ｆ１の次に照射される第二照射領域Ｆ２とが互いに重なり合うように照射位置をずらしながら複数回のショットを行う。 - 特許庁

In the process for forming a channel part, a part of first crystalline polymorphic silicon carbide is etched and second crystalline polymorphic silicon carbide is formed in the entire or a part of the etched place and the conductivity type of first and second crystalline polymorphic silicon carbide is controlled for forming a desired semiconductor device.例文帳に追加

また、チャネル部を形成する工程は、第一の結晶多形の炭化珪素の一部をエッチングし、エッチングされた箇所の全部あるいは一部に第二の結晶多形の炭化珪素を形成してなり、第一と第二の結晶多形の炭化珪素の導電型を所望の半導体装置となるように制御する。 - 特許庁

The chemical strengthening process includes: a first stage where a glass substrate is brought into contact with a chemical strengthening treatment liquid containing first ions having an ionic radius larger than that of alkali metal ions in flat glass; and stages on and after the second one where the flat glass is brought into contact with a treatment liquid containing ions on and after the second stage, which are bivalent ions.例文帳に追加

化学強化工程において、板状ガラス中のアルカリ金属イオンよりもイオン半径の大きい第１のイオンを含有する化学強化処理液にガラス基板を接触させる第１工程と、２価イオンである第２以降のイオンを含有する処理液に板状ガラスを接触させる第２以降の工程とを有する。 - 特許庁

To omit a welding step from a terminal connecting process for connecting a first to fourth circuit board terminal portions 41, 43 provided extending from an FPC 5 and a control circuit board 6 to a first to fourth terminal portions 22, 24 provided at a rectangular cylinder shaped FPC case 7 extending upward from top surface of a flange 1.例文帳に追加

フランジ１の上面から上方側に延設された角筒状のＦＰＣケース７に設けられた第１〜第４フランジ端子部２２、２４に、ＦＰＣ５および制御回路基板６から延設された第１〜第４回路基板端子部４１、４３を接続する端子接続工程から溶接工程を省くことを課題とする。 - 特許庁

In the first approaching process, the image capturing apparatus 32 is linearly moved with respect to the first part 9.例文帳に追加

撮像装置３２が第１部品９を撮像する把持予定場所５５に接近して停止する第１接近工程と、撮像装置３２が第１部品９を撮像して画像を形成する撮像工程と、画像を補正する画像補正工程と、を有し、第１接近工程において撮像装置３２は第１部品９に対して直線移動する。 - 特許庁

The amplifier circuit includes an amplification section for amplifying a first signal to generate a second signal, and a correction section for performing smooth curvilinear process to all or one portion of third signals (Vx), namely the input signals, based on a state variable (VxTyp) varying according to the state of the amplification section, to generate the first signal (Vc).例文帳に追加

増幅回路は、第１信号を増幅して第２信号を生成する増幅部と、当該増幅部の状態に応じて変動する状態変数（VxTyp）に基づいて、その入力信号である第３信号（Vx）の全部又は一部に対し滑曲線化処理を施して前記第１信号（Vc）を生成する補正部と、を備える。 - 特許庁

Here, in the element substrate manufacturing process (S301), from among the plurality of the organic compound layers, the plurality of the organic compound layers are formed so that a first organic compound layer having the lowest glass transition temperature will be pinched between the second and third organic compound layers of glass transition temperatures higher than that of the first organic compound layer.例文帳に追加

ここで、素子基板製造工程（Ｓ３０１）では、複数の有機化合物層のうち、ガラス転移温度が最も低い第1の有機化合物層が、第1の有機化合物層よりガラス転移温度が高い第２および第３の有機化合物層の間で挟持されるように、複数の有機化合物層を形成する。 - 特許庁

In a process of removing the stress imparting layer 16 on the second transistor 12 and the gate structure 13 and leaving the stress imparting layer 16 on the first transistors 11, the silicon oxide film on the second transistor 12 is prevented from being excessively thinned relative to the silicon oxide film on the first transistors 11.例文帳に追加

第二のトランジスタ１２及びゲート構造１３上の応力付与層１６を除去し第一のトランジスタ１１上に応力付与層１６を残す工程にて、第二のトランジスタ１２上のシリコン酸化膜が第一のトランジスタ１１上のシリコン酸化膜よりも過剰に薄くなってしまうことが防止される。 - 特許庁

Further, the carrier robot 50 has a rotation unit, a first movement unit, a second movement unit and a lifting unit, and the first and second hands 52, 53 are respectively moved to a substrate transfer intermediary apparatus 25 and four process chambers 23 where the substrates 6 are placed by the four units.例文帳に追加

また、搬送ロボット５０は、回動ユニット、第１進退ユニット、第２進退ユニット、昇降ユニットを有しており、これら４つのユニットにより第１及び第２ハンド５２，５３を基板６が載置されている基板搬送中継装置２５及び４つのプロセスチャンバ２３に夫々移動させることができるようになっている。 - 特許庁

The control means applies the second driving voltage P2 before detection of an inflection point on the waveform of a signal representing temperatures in a temperature drop process detected by the temperature detection element after application of the first driving voltage P1 and when discharging normally ink from the discharge orifice along with the application of the first driving voltage P1.例文帳に追加

制御手段は、第１の駆動電圧Ｐ１の印加後で且つ、第１の駆動電圧Ｐ１の印加に伴って吐出口からインクが正常に吐出されたときに温度検知素子により検知される降温過程の温度を示す信号の波形で変曲点が検出されるよりも前に第２の駆動電圧Ｐ２を印加させる。 - 特許庁

When the result of a lottery process by the entry of a game ball in an operation-start hole 96 is a big win, this game machine executes a special game and, when the game ball entering in a first game area 37 through the opening/closing operation of a first movable piece 456 is received in a specific ball entry hole 93, also executes the special game.例文帳に追加

始動口９６への遊技球の入球による抽選処理の結果が大当たりであるときに特別遊技が行われるが、第１の可動片４５６の開閉動作を通じて第１の遊技領域内３７ａに進入した遊技球が特定入球口９３に受け入れられたときも特別遊技が行われる。 - 特許庁

When a bonus ball substrate 2 recognizes that given numbers of hire balls and bonus balls are paid out by a hire ball paying out detection signal pa1 and a bonus ball paying out detection signal pa2 from the first paying out sensor 6 and the second paying out sensor 8, it stops the first paying out apparatus 5 and the second paying out apparatus 7 and completes a paying out process.例文帳に追加

賞球基板２は、第１の払出センサ６，第２の払出センサ８からの貸球払出検知信号ｐａ１，賞球払出検知信号ｐａ２により、所定数の貸球及び賞球が払い出されたことを認識すると、第１の払出装置５，第２の払出装置７を停止させ、払出処理を完了する。 - 特許庁

The positioning in the first direction (back and forth) is carried out by slidingly contact of the slope 34 of the middle wall 30 on a slope 32 of the first panel side positioning part 31 in the in the process where the air bag door 20 is brought close from the inflation direction rear side of the airbag (lower side) to opening 18 of the base material 12.例文帳に追加

エアバッグドア２０が、エアバッグの膨張方向後側（下側）から基材１２の開口部１８に近づけられる過程で、中間壁部３０の傾斜面３４が、第１パネル側位置決め部３１の傾斜面３２上を摺接されることにより、第１方向（前後方向）についての位置決めが行なわれる。 - 特許庁

Therefore, air for cooling from a suction fan 61 flows while being branched in four directions between the upside of the fixer 35 and the first auxiliary plate 57 (direction A), on the side of the lower surface of the first auxiliary plate 57 (direction B), on the side of the top end of the process cartridge 21 (direction C) and on the side of the power source part 73 (direction D).例文帳に追加

従って、吸気ファン６１からの冷却用空気は、定着器３５の上方と第１補助プレート５７との間（Ａ方向）と、第１補助プレート５７の下面側（Ｂ方向）と、プロセスカートリッジ２１の先端側（Ｃ方向）と、電源部７３側（Ｄ方向）の４方向に分かれて分流する。 - 特許庁

To process an interface by one interpreter capable of processing a markup language by a method of describing a function applicable to a computer object, the function being invocable in a first markup language, the function being initially expressed in a predetermined programming language different from the first markup language.例文帳に追加

コンピュータオブジェクトに適用可能な関数であって、第１のマークアップ言語において呼び出し可能で、かつ当初は第１のマークアップ言語とは異なる所定のプログラミング言語によって表現される関数を記述する方法により、マークアップ言語を処理可能なインタプリタ１つでインターフェースを処理可能とする。 - 特許庁

This blast dehumidifying method of a combustion furnace is characterized by that a dehumidifying process is carried out by dividing it into two stages in dehumidifying the air 1 fed to the combustion furnace 5; a refrigerant dehumidification method 3 is used as a dehumidification means for the first stage; the air dehumidified in the first stage is dehumidified by a dry type dehumidification means 4 as the second dehumidification means.例文帳に追加

燃焼炉５内に供給される空気１を除湿するにあたり二段に分けて除湿処理を行うようにし、第一段目の除湿手段として冷凍除湿法３を用い、第二段目の除湿手段として、第一段目で除湿した空気を乾式除湿手段４で除湿することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent for a freezing process, which can suppress variations in the line width of a first resist pattern and LWR (line width roughness) which may be caused by freezing treatment applied to the first resist pattern and the formation of a second resist pattern in a double patterning method, and to provide a resist pattern formation method using the surface treatment agent.例文帳に追加

ダブルパターニング法において、第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理及び第二のレジストパターンの形成による、第一のレジストパターンの線幅並びにＬＷＲの変動を抑制することができるフリージングプロセス用の表面処理剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

This method includes a process reacting at least a first reactant selected from a first group comprising phenol and substituted phenols and at least a second reactant selected from a second group comprising ketones and diols, in the presence of the hydrogen chloride catalyst and a volatile sulfur compound including SH linkage as the cocatalyst.例文帳に追加

塩化水素触媒と助触媒としてのＳＨ結合含有揮発性硫黄化合物の存在下、フェノールと置換フェノールからなる第１群より選ばれる少なくとも１つの第１反応物に、ケトンとジオールからなる第２群より選ばれる少なくとも１つの第２反応物を反応させることを含む。 - 特許庁

The process cartridge 60 which can be provided with through-space has constitution where a first unit 5 and a second unit 10 are turnably coupled with a shaft 6 as a common rotating shaft, and the photoreceptor drum 1 and a developing roller 7 are rotatably held in the first unit 5 and the second unit 10, respectively.例文帳に追加

貫通空間を設けることができるプロセスカートリッジ６０は、第１ユニット５と第２ユニット１０が軸６を共通旋回軸として回動可能に連結された構成であり、第１ユニット５に感光体ドラム１、第２ユニット１０に現像ローラ７をそれぞれ回転自在に保持する構成とした。 - 特許庁

A color saturation reducing section 11 carries out a process of reducing color saturation on a first RGB input signal, which is an original input signal, so that the first RGB input signal becomes a second RGB input signal; and thereafter, an output signal generation section 12 obtains transmissivity and a backlight value, on the basis of the second RGB input signal.例文帳に追加

さらに、原入力信号である第１ＲＧＢ入力信号は、彩度低減部１１によって彩度低減処理が施されて第２ＲＧＢ入力信号とされた後、該第２ＲＧＢ入力信号に基づいて出力信号生成部１２において透過率およびバックライト値が求められる。 - 特許庁

To smoothly guide transfer paper by first and second guides in an image forming apparatus, in which a process unit incorporated with a photoreceptor in a unit case is removably mounted on an image forming apparatus body and the transfer paper is guided by the first and second guides provided on the unit case and the image forming apparatus body.例文帳に追加

ユニットケースに感光体を組込んだプロセスユニットを画像形成装置本体に着脱可能に装着して成り、ユニットケースと画像形成装置本体に設けた第１及び第２のガイドによって転写紙を案内する画像形成装置において、第１及び第２のガイドにより転写紙を円滑に案内できるようにする。 - 特許庁

The method for generating the exposure data has a process of generating irradiation position data on the block mask of the first transmission beams so that the edges in the Y or the X direction of the first transmission beams are positioned at a common separation region in the X or Y direction of the plurality of discrete patterns of the block mask.例文帳に追加

この露光データの生成方法では、ブロックマスクの複数の離散パターンのＸ方向またはＹ方向の共通離間領域に前記第１の透過ビームのＹ方向またはＸ方向のエッジが位置するように、前記第１の透過ビームの前記ブロックマスク上での照射位置データを生成する工程を有する。 - 特許庁

The curing process includes the first heating step of heating the intermediate molding at a temperature of 70 to 90°C for 120 to 4,320 min and the second heating step of heating the intermediate molding at a temperature of 120 to 200°C for 10 to 60 min after the first heating step.例文帳に追加

上記硬化工程が、７０℃以上９０℃以下の温度で１２０分以上４３２０分以下の時間に亘って加熱する第一加熱ステップと、上記第一加熱ステップの後になされ、１２０℃以上２００℃以下の温度で１０分以上６０分以下の時間に亘って加熱する第二加熱ステップとを含む。 - 特許庁

After a first HTO film 2a is formed on the upper surface of a silicon substrate 1 by a thermal CVD method, a silicon-rich HTO film 2b having a deep trap level is formed by the thermal CVD method under the condition of decelerating the flow rate of an N_2O of process gas for forming this first HTO film 2a.例文帳に追加

シリコン基板１の上面に、熱ＣＶＤ法によって第一のＨＴＯ膜２ａを成膜した後、この第一のＨＴＯ膜２ａを成膜するプロセスガスのうちＮ２ Ｏの流量を削減した条件で熱ＣＶＤ法によって、深いトラップ準位を有するシリコンリッチＨＴＯ膜２ｂを成膜する。 - 特許庁

In the implantation process, the impurity is implanted in at least one of the first conductivity type region and the second conductivity type region so that the first conductivity type region and the shared contact plug come into ohmic-contact with each other and the second conductivity type region and the shared contact plug come into ohmic-contact with each other.例文帳に追加

前記注入工程では、前記第１導電型領域と前記シェアードコンタクトプラグとがオーミック接触し、かつ前記第２導電型領域と前記シェアードコンタクトプラグとがオーミック接触するように、前記第１導電型領域および前記第２導電型領域の少なくとも一方に対して不純物を注入する。 - 特許庁

The process of collecting the data from the pixels of the first group and the second group includes the execution of a mathematical operation, such as defining a matrix for multiplying pixels of the first group, comparing and subtracting pixel values at both sides of a coordinate axis which divides the test pixels to two parts to produce a difference, and comparing the difference and a threshold.例文帳に追加

第１グループおよび第２グループのピクセルからデータを収集することは、数学的演算を実行することを含み、例えば第１グループのピクセルの乗算をするためのマトリックスを定義し、テストピクセルを二等分する座標軸の両側のピクセル値を比較、減算し、この差とスレッショルドとを比較する。 - 特許庁

In a laminating process for a laminate 30 constituted of a light receiving surface-side protective material 2, a first sealing material 4a, a plurality of solar cells 10, a second sealing material 4b, and a back surface-side protective material 3, the first sealing material 4a is sealed between the light receiving surface-side protective material 2 and second sealing material 4b.例文帳に追加

受光面側保護材２、第１封止材４ａ、複数の太陽電池１０、第２封止材４ｂ及び裏面側保護材３によって構成される積層体３０のラミネート工程において、第１封止材４ａを受光面側保護材２と第２封止材４ｂとの間に封止する。 - 特許庁

In a first process step, a sample 23 is illuminated, and sample light is detected and detected data is recorded, that is, detected data is recorded over the dimensions of the grid field during a movement of the sample table in at least a first direction, and recording of each table position is assigned to data recording.例文帳に追加

第１作業ステップで、試料２３の照明、試料光の検出および検出データの記録、つまり少なくとも１つの第１方向での試料ボード移動過程におけるラスタフィールドサイズを越えての検出データの記録が行われ、それぞれのボードポジションの記録がデータ記録に割り振られる光走査型顕微鏡。 - 特許庁

By utilizing a residue-film-thickness distribution (a pattern-ratio distribution for CMP) which is the assumed-value distribution of residue-film thicknesses after a CMP process; and by using a computer, there is extracted a first region A in a patterning mask, which corresponds to an region X having higher values for the residue-film-thickness distribution than a first threshold.例文帳に追加

ＣＭＰ工程後の残膜厚の推定に関する値の分布である残膜厚分布（ＣＭＰ用パターンレシオ）分布を利用して、コンピュータを用いて、この残膜厚分布の値のうち当該値が第１の閾値よりも高い領域Ｘに対応する、パターニング用マスク内における第１領域Ａを抽出する。 - 特許庁

The production process comprises a step to form a first area comprising an inorganic material on a substrate precursor so as to form the substrate, wherein at least a part of the inorganic material is exposed on the surface of the substrate, and the first area makes a pattern on the substrate precursor.例文帳に追加

当該製造方法は、基板を形成するため無機材料からなる第一の領域を基板前駆物質上に形成する工程を有し、前記無機材料は少なくともその一部が基板表面上で露出し、前記第一の領域は前記基板前駆物質上でパターンを形成していることを特徴とする。 - 特許庁

In the image processor with a processing means for processing first image information into second image information, each image information includes image data and reference information attached to the image data, and the processing means makes the first reference information included in the first image information correspond to the second reference information included in the second image information to thereby process the first image information and generate the second image information.例文帳に追加

第一の画像情報を加工して第二の画像情報とする加工手段を有する画像処理装置において、前記画像情報は、画像データと該画像データに付随するリファレンス情報とを有し、前記加工手段は、前記第一の画像情報に含まれる第一のリファレンス情報と、前記第二の画像情報に含まれる第二のリファレンス情報とを対応づけることにより、前記第一の画像情報を加工し、前記第二の画像情報を生成する画像処理装置。 - 特許庁

The first and the second cooling processes are performed between the discharging process for measurement and the discharging process for measurement which is performed again after adjusting the discharge through the measurement process and the adjustment process.例文帳に追加

ノズルから液滴を吐出する測定用吐出工程と、ノズル付近の温度であるノズル温度を冷却する第１冷却工程及び第２冷却工程と、測定用吐出工程にて、吐出された吐出量を測定する測定工程と、測定工程にて、測定された吐出量を目標吐出量に近づける調整をする調整工程とを有し、測定用吐出工程の後、測定工程及び調整工程を経て吐出量を調整した後、再度測定用吐出工程を行うとき、測定用吐出工程と再度行う測定用吐出工程との間に第１冷却工程及び第２冷却工程を行う。 - 特許庁

The method for selectively separating free astaxanthin from Haematococcus pluvialis includes a process (first process) for obtaining an alkane-based solvent extract containing astaxanthin materials such as free astaxanthin, astaxanthin esters and the like by mixing and agitating a cell culture liquid containing Haematococcus pluvialis with the alkane-based solvent and a process (second process) for obtaining an alcohol extract containing free astaxanthin by mixing and agitating the alkane-based solvent extract with alcohol.例文帳に追加

本発明によれば、緑藻類からフリーアスタキサンチンを選択的に分離する方法に関し、より具体的には、ヘマトコッカスプールビアリースを含む細胞培養液をアルカン系溶媒と混合及び攪拌してフリーアスタキサンチン及びアスタキサンチンエステルなどのアスタキサンチン物質を含むアルカン系溶媒抽出物を得る段階と（第１段階）、及びアルカン系溶媒抽出物をアルコールと混合及び攪拌してフリーアスタキサンチンを含むアルコール抽出物を得る段階（第２段階）を含む、ヘマトコッカスプールビアリースからフリーアスタキサンチンを選択的に分離する方法が提供される。 - 特許庁

The method and the apparatus for continuously manufacturing ammonium diuranate particles has the first process in which droplets of an undiluted solution containing uranyl nitrate are passed through an ammonia gas and dropped into an aqueous ammonia solution to form solid particles containing ammonium diuranate and then the solid particles are continuously transported to the second process, and the second process in which the solid particles are continuously washed and dried.例文帳に追加

硝酸ウラニル含有原液の液滴を、アンモニアガス中を通過させてアンモニア水溶液中に滴下することにより、重ウラン酸アンモニウムを含有する固形粒子を生成し、前記固形粒子を連続的に第二工程に移送する第一工程と、前記固形粒子の洗浄及び乾燥を連続的に行う第二工程とを有する重ウラン酸アンモニウム粒子の連続製造方法および重ウラン酸アンモニウム粒子の連続製造装置。 - 特許庁

The manufacturing method for a fuel cell 100 comprises a first arrangement process of arranging a protection layer 20 made of formation metal of an oxide electrode or formation metal of an oxide electrolyte on a metal support 10 having gas permeability, a second arrangement process of arranging an oxide electrolyte 30 on the protection layer 20, and a calcining process of calcining the oxide electrolyte and the protection layer under an oxidizing atmosphere.例文帳に追加

本発明に係る燃料電池（１００）の製造方法は、ガス透過性を有する金属支持体（１０）上に酸化物電極の構成金属または酸化物電解質の構成金属からなる保護層（２０）を配置する第１配置工程と、保護層上に酸化物電解質（３０）を配置する第２配置工程と、酸化雰囲気において酸化物電解質および保護層を焼成する焼成工程と、を含むことを特徴とするものである。 - 特許庁

The method is characterized by comprising a first process (S1) for preparing a solution containing cellulose and a cellulose-binding peptide, a second process (S2) for incubating the solution to treat the cellulose with the cellulose-binding peptide and break the cellulose-binding peptide, thus producing the partial peptide, and a third process (S3) for recovering one or both of the treated cellulose and the partial peptide.例文帳に追加

本発明に係る方法は、セルロースとセルロース結合性ペプチドとを含有する溶液を調製する第一工程（Ｓ１）と、前記溶液をインキュベーションすることにより、前記セルロースを前記セルロース結合性ペプチドで処理するとともに、前記セルロース結合性ペプチドを切断して部分ペプチドを生成する第二工程（Ｓ２）と、処理された前記セルロース及び前記部分ペプチドの一方又は両方を回収する第三工程（Ｓ３）と、を含む。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process in which the metal film is etched by a first reactive etching with the resist pattern as a mask to form a metal film pattern, a process where a transparent substrate is etched by a second reactive etching with the resist pattern and the metal film pattern as masks to form a pattern on the transparent substrate, and a process for removing the metal film pattern.例文帳に追加

第１の反応性エッチングにより前記金属膜を前記レジストパターンをマスクとしてエッチングし金属膜パターンを形成する工程と、第２の反応性エッチングにより前記透過性基板を前記レジストパターンと前記金属膜パターンとをマスクとしてエッチングし前記透過性基板上にパターンを形成する工程と、前記金属膜パターンを除去する工程と、を具備することを特徴とする位相変調素子の製造方法である。 - 特許庁

This method for producing the functional fibrous material by combining the fibrous material with the silk protein for modifying the fibrous material is characterized by imparting the silk protein to the fibrous material as a first process, and heating after imparting a water soluble dichlorotriazine-based compound as a second process to combine the silk protein with the fibrous material and at the same time performing the shape stabilization process.例文帳に追加

繊維材料と絹蛋白質とを結合させることによって繊維材料を改質するに当って、第一工程として絹蛋白質を繊維材料に付与したあと、第二工程として水溶性のジクロルトリアジン系化合物並びに酸結合剤を付与して熱処理する事によって、絹蛋白質と繊維材料とを結合させると同時に形態安定加工することを特徴とする機能性繊維材料の製造法。 - 特許庁

This removal method of the residual solvent comprises a grinding process where a polymer first crumb which is contained in the slurry obtained by coagulating a reaction solution of a polymer is ground to form a polymer second crumb, a transfer process where the slurry containing the polymer second crumb is transferred, and a solvent removal process where the residual solvent contained in the polymer second crumb in the transferred slurry is removed.例文帳に追加

重合体の反応溶液を凝固させて得られた重合体第１クラムを含むスラリー中の前記重合体第１クラムを粉砕して重合体第２クラムとする粉砕工程と、該重合体第２クラムを含むスラリーを移送する移送工程と、該移送された重合体第２クラムを含むスラリー中の前記重合体第２クラムに含まれている残留溶媒を除去する溶媒除去工程とを、有する残留溶媒の除去方法。 - 特許庁