「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(87ページ目) - Weblio英語例文検索

In this process, the metallic corrugated lattice plates 1k and 1m for elastic contact located on the outermost side are fitted and held in a state of elastic contact between first and second fuel rods 10e1 and 10e2 in the outermost peripheral line and the metallic side frame plates 1a and 1b.例文帳に追加

この際第１、第２最外周列燃料棒１０ｅ１、１０ｅ２と金属製側枠板１ａ、１ｂとの間に、最外側配置の弾接用金属製屈曲格子板１ｋ、１ｍが弾接状態で嵌装保持される。 - 特許庁

The fuel-air mixture is separated into lubricating oil components and gasoline components in a process passing through a first communication passage 55 communicated from the crank chamber 20 to the valve system chamber 16 by vaporizing the gasoline components relatively easily vaporized by the heat of a cylinder block 3.例文帳に追加

混合気は、クランク室２０から動弁室１６への通じる第一の連通路５５を通過する過程で、シリンダブロック３の熱によって、比較的気化し易いガソリン成分が気化し、潤滑油成分とガソリン成分とに分離される。 - 特許庁

To provide a pattern verifying method, used in a double patterning method in which after a first pattern is formed in a film to be processed, a second pattern is formed in the film to be process, verifying a pattern in consideration of a superposition error.例文帳に追加

被加工膜に第１のパターンを形成してから被加工膜に第２のパターンを形成するダブルパターニング法に用いられ、重ね合わせ誤差を考慮してパターンを検証することができるパターン検証方法を提供する。 - 特許庁

It is preferable that the fourth step uses a distiller 22 in separating the volatile organic compound and the water, and further preferable that the fifth step to supply the separated water in the fourth step to the first step is added to the process described above.例文帳に追加

第４の工程は、蒸留器２２で揮発性有機化合物と水とに分離する工程が好ましく、第４の工程で分離された水を第１の工程に供給する第５の工程と、を有することが好ましい。 - 特許庁

To sustain high reliability even if an electronic component is connected to a first substrate with a wire in a process for producing a built-in chip substrate where a chip is built in between a pair of substrates.例文帳に追加

本発明は一対の基板間にチップが内蔵されたチップ内蔵基板を製造するチップ内蔵基板の製造方法に関し、電子部品を第１の基板にワイヤ接続しても高い信頼性を維持させることを課題とする。 - 特許庁

The gas is plasma- discharged in a plasma generator 1, and first active starting gas is jetted from the nozzle part 20 to the side of the silicon wafer W, the nozzle part 20 is scanned by an X-Y driving mechanism 4, and a local etching process is performed.例文帳に追加

プラズマ発生器１でこのガスをプラズマ放電させて第１の活性種ガスをノズル部２０からシリコンウエハＷ側に噴射すると共に、Ｘ−Ｙ駆動機構４でノズル部２０を走査させて局部エッチング工程を行う。 - 特許庁

A stacked poly silicon film 7 is formed by continually depositing a first poly silicon film 7a having no impurity and a second poly silicon film 7b for determining a resistance value through one manufacturing process without exposing the films 7a and 7b to the atmosphere.例文帳に追加

不純物を含有しない第１のポリシリコン膜７ａと、抵抗値を決定するための第２のポリシリコン膜７ｂを大気への曝露なく１回の製造工程により連続して堆積させて積層ポリシリコン膜７を形成する。 - 特許庁

Thereby, from the upper part of a nearly uniform winding 25 by the first winding process W1, a winding 26 whose winding amount is more on the outside than on the inside in the radial direction of the magnetic pole teeth is executed.例文帳に追加

このことにより、第１巻線工程Ｗ１によるほぼ一様な巻線２５の上から、第２巻線工程Ｗ２によって、磁極歯の半径方向の内側よりも外側の方が巻線量の多い巻線２６がなされる。 - 特許庁

After that, in a sealing process, the plug 21 is raised while rotated around the normal line 26 by the sealing device 20, inserted and fitted into the first opening 8 of the vacuum package 1 so as to seal the vacuum package 1.例文帳に追加

次に、封止工程において、封止装置２０により、プラグ２１を法線２６を中心に回転させながら上昇させ、真空パッケージ１の第１の開口部８に挿入し、係合させることにより封止を行う。 - 特許庁

In case a temperature T_DV or a temperature T_PDU of a process development unit (PDU) is increased to temperature higher than a given temperature #T (or in case the temperature T_PDU is increased to temperature higher than the given temperature #T), first of all a cooling fan is operated to cool a radiator.例文帳に追加

ダウンバータの温度Ｔ＿ＤＶまたはＰＤＵの温度Ｔ＿ＰＤＵが、所定の温度＃Ｔよりも高くなった場合（あるいは、所定の温度＃Ｔ以上となった場合）には、先ず、冷却ファンを作動させ、ラジエータを冷却する。 - 特許庁

In a big win game playing process S44, at first, CPU transmits a lottery display command for commanding to display that a probability variable lottery is executed by the passing of a lottery gate, to a sub integrated board in parallel with the big win game.例文帳に追加

大当り遊技中処理（ステップＳ４４）では、大当り遊技と並行して、ＣＰＵは、まず、サブ統合基板に、抽選ゲートの通過によって確変抽選を行う旨の表示を指示する抽選表示コマンドを送信する。 - 特許庁

When the travel distance Ds is less than learning reset threshold value KDs (affirmative determination in step S15), ECU executes second neutral control process using first target fluid pressure KPc1 stores in EEPROM (step S22).例文帳に追加

走行距離Ｄｓが学習再設定閾値ＫＤｓ未満である場合（ステップＳ１５が肯定判定）、ＥＣＵは、ＥＥＰＲＯＭに記憶される第１目標油圧ＫＰｃ１を用いた第２ニュートラル制御処理を実行する（ステップＳ２２）。 - 特許庁

In a method for manufacturing electronic components, the torch opposing process is executed, in which the first torch electrode 12A is opposite to one end 103C of a winding 103, and the second torch electrode 17A is opposite to the other end 103D of the winding 103.例文帳に追加

電子部品の製造方法では、第１トーチ電極１２Ａを巻線１０３の一端１０３Ｃに対向させると共に第２トーチ電極１７Ａを巻線１０３の他端１０３Ｄに対向させるトーチ対向工程を行う。 - 特許庁

To provide a composite MOS transistor circuit which allows an apparent threshold voltage as seen from a first gate to be electronically set in a wide range to equivalently perform a continuous operation without needing other excessive processes than the standard CMOS process.例文帳に追加

標準的なＣＭＯＳプロセス以外の余分なプロセスを必要とせずに、第１ゲートから見たみかけの閾値電圧を広範囲に電子的に設定でき、等価的に連続動作をする複合ＭＯＳトランジスタ回路を提供する。 - 特許庁

Subsequently, the second holding part is moved in the horizontal direction by the moving mechanism while the processed wafer and the support wafer, respectively supported by the first holding part and the second holding part, are heated to peel the processed wafer from the support wafer (Process A3).例文帳に追加

その後、第１の保持部に保持された被処理ウェハと第２の保持部に保持された支持ウェハとを加熱しながら、移動機構によって第２の保持部を水平方向に移動させて、被処理ウェハと支持ウェハを剥離する（工程Ａ３）。 - 特許庁

A first to a third interpolation process circuits 20a, 20b, and 20c are composed of a data identifying unit 51, a data converting unit 52, a data interpolating unit 53, a data reconverting unit 54, and four switches SW1-SW4, as illustrated in figure 3.例文帳に追加

第１ないし第３補間処理回路２０ａ、２０ｂ、２０ｃは、図３に示すように、データ判定部５１、データ変換部５２、データ補間部５３、データ再変換部５４及び４つのスイッチＳＷ１〜ＳＷ４より構成される。 - 特許庁

In the figure, the magnetic substance 108 is contained only in the adhesive layer 106 and the magnetic substance 108 penetrateds the first base paper 102 and the second base paper 104 and exists in them in a pressing process after lamination in production.例文帳に追加

また、図中では、磁性体１０８は接着剤層１０６のみに含まれているが、磁性体１０８は、製造時貼り合わせ後の押圧工程で、第１原紙１０２及び第２原紙１０４内にもめり込んで存在する場合もある。 - 特許庁

In a manufacturing method of this hot-cathode fluorescent lamp, as an assembly process of assembling an electrode part, an exhaust pipe 13 is first inserted into a flare 12 to bring lead wires 11 into a state sandwiched between the flare 12 and the exhaust pipe 13.例文帳に追加

熱陰極蛍光ランプの製造方法では、電極部を組み立てる組立工程として、まずフレア１２の内部に排気管１３を挿入し、フレア１２と排気管１３との間にリード線１１を挟んだ状態にする。 - 特許庁

The process (a) is provided by putting-in an ultra high molecular weight polyethylene 30 into an open roll 1 having a roll 20 set at a first temperature for winding the polymer over the roll 20, further putting-in carbon nanofibers 40 and mixing to obtain a mixture.例文帳に追加

工程（ａ）は、第１の温度の設定されたロール２０を有するオープンロール１に、超高分子量ポリエチレン３０を投入して該ロール２０に巻きつかせ、さらにカーボンナノファイバー４０を投入し、混合して混合物を得る。 - 特許庁

In the data outputting process, first, data are set in the output buffers 94a-94d, and next, before the set data are outputted to the output ports 96a-96d, data set in the output buffers 94a-94d are read.例文帳に追加

データ出力処理では、まず、データを出力バッファ９４ａ〜９４ｄに設定し、次いで、その設定したデータを出力ポート９６ａ〜９６ｄへ出力する前に、出力バッファ９４ａ〜９４ｄに設定されているデータを読取る。 - 特許庁

In an ionizing process (steps S5 to S7), when a second voltage higher than the first voltage is applied as a cleaning solution is kept flowing, the metal at the electrode is oxidized to turn to metal ions again, so that the metal released from the electrode can be made to flow out.例文帳に追加

イオン化過程（ステップＳ５〜Ｓ７）では、洗浄液を流通させつつ第１電圧より高い第２電圧を印加すると、電極の金属が酸化され再びイオンとなり、電極から離脱した金属を流し去ることができる。 - 特許庁

Then, second masking films 41 are formed on the wiring pattern corresponding part of the rear surface of the metal plate 11, and a etching process is performed from above the second masking films 41 so as to form a first wiring pattern 43 from the metal plate 11.例文帳に追加

次に金属板１１の裏面側の配線パターン相当部分に第２のマスキング４１を形成し、この第２のマスキング４１の上からエッチング処理して金属板１１から第１の配線パターン４３を形成する。 - 特許庁

Thus the design of the inner periphery of the body section 30 which is positioned at the periphery of the weight member 20 is not limited to an annular base section 30A formed by the first injection process for creating the body section 30 as in the traditional way.例文帳に追加

従って、重り部材２０の周囲に位置するボディー部３０の内周縁のデザインが、従来のようにボディー部３０を形成する一次射出工程で形成される環状ベース部３０Ａに限られることはない。 - 特許庁

A gear 55a is rotated counterclockwise against a process cartridge 5 in a folded state, a cylindrical shape member 55 is rotated while winding a shutter 56 around it, and the shutter 56 is released from upper part of a first housing 54.例文帳に追加

フォールディング状態にあるプロセスカートリッジ５に対してギア５５ａを反時計回りに回転させ、円柱型の部材５５がその周囲にシャッター５６を巻きつけつつ回転し、シャッター５６が第一筐体５４の上方から退避する。 - 特許庁

The air bag 32 bundled with the regulating member 39 is vertically expanded first in the expansion process of the air bag32, and horizontally expanded after the break point 39b of the regulating member 39 which can not bear the tension is broken.例文帳に追加

エアバッグ３２が膨張する過程で、規制部材３９で束ねられたエアバッグ３２は先ず上下方向に膨張し、張力に耐えられなくなった規制部材３９の破断部３９ｂが破断した後に左右方向に膨張する。 - 特許庁

A log analysis module 15 extracts a log from the first log on the basis of the file identification information detected by an instruction detection system and extracts a log from the second log on the basis of the process identification information included in the extracted log.例文帳に追加

ログ解析モジュール１５は、侵入検知システムが検出したファイル識別情報に基づいて、第１のログからログを抽出し、抽出したログに含まれるプロセス識別情報に基づいて、第２のログからログを抽出する。 - 特許庁

In the first process, the burning is performed at a burning temperature of 200-400°C and at a holding time of 0.5-10 hr.例文帳に追加

第１工程は、焼成温度が２００〜４００℃かつ保持時間が０．５〜１０時間で焼成する工程であり、第２工程は、第１工程より後に行われ、焼成温度が３００〜４５０℃かつ保持時間が０．５〜１０時間で焼成する工程である。 - 特許庁

First, a measurement value obtained inaccurately from the parasitic components R1, R2 is compensated during a manufacturing process, such as an electrical final inspection in an electronic power circuit, regarding the current/temperature dependency or voltage dependency of the components.例文帳に追加

初めに、該寄生構成要素Ｒ１、Ｒ２から不正確に得られた測定値を、該構成要素の電流／温度依存性または電圧依存性に関して、製造工程（例えば、電子電力回路での電気系最終検査）中に補償する。 - 特許庁

In the changed conveyance setting process (S416), after the rear end of the recording paper P is made to pass the nip point of the conveyance roller 60 by a large feed, a changed conveyance amount to make its conveyance stop position a position that exceeds the first point is calculated.例文帳に追加

この変更搬送設定処理（Ｓ４１６）では、記録用紙Ｐの後端を大フィードで搬送ローラ６０のニップ点を通過させた後、その搬送停止位置が第１のポイントを超える位置とする変更搬送量が算出される。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method capable of forming a satisfactory resist pattern, by a double patterning process using a positive type resist composition as a first resist composition, on a support formed with a reflection preventive film on its surface.例文帳に追加

表面に反射防止膜が形成された支持体上に、第一のレジスト組成物としてポジ型レジスト組成物を用いるダブルパターニングプロセスにより良好なレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the first process, among a plurality of spot regions S formed by the outgoing radiation lights from the respective light emitting elements E, the spot region S of an ellipse using a direction P inclined to the direction X as a major axis is determined.例文帳に追加

第１過程においては、各発光素子Ｅからの出射光によって形成される複数のスポット領域ＳのなかからＸ方向に対して傾斜するＰ方向を長軸とする長円形のスポット領域Ｓを特定する。 - 特許庁

The housing has a first exhaust hole 29 for evacuating the interior of the housing in an exhaust process and a second exhaust hole 52 for communicating with the getter chamber, and the getter box has a third exhaust hole 54 for evacuating the interior of the getter chamber.例文帳に追加

外囲器は、排気工程において外囲器内部を排気するための第１排気孔２９と、ゲッタ室に連通する第２排気孔５２と、を有し、ゲッタボックスは、ゲッタ室内を排気するための第３排気孔５４を有している。 - 特許庁

In the method of manufacturing the Nb_3Sn superconductive wire, sheet-shaped first base materials and sheet-shaped second base materials are alternately laminated to form a complex, a process of rolling up the complex 5 is performed, and the rolled body is drawn S4 into the wire.例文帳に追加

シート状の第１の基材とシート状の第２の基材とを交互に積層して複合化し、該複合体５を捲回する加工を行い、前記捲回体を線材に引抜加工Ｓ４するNb3Sn超伝導線材の製造方法。 - 特許庁

At the time when the causation of abnormal winning in a first start winning opening or a second start winning opening is detected and an error is caused, a security signal is externally output from an output terminal common to the execution of an initialization process.例文帳に追加

第１始動入賞口や第２始動入賞口における異常入賞の発生が検出されてエラーが発生したときに、初期化処理の実行時と共通の出力端子からセキュリティ信号を外部出力する。 - 特許庁

In spite of process by the first control section, the drive shaft is controlled exclusively by the second control section, and by increasing the processing speed of the hardware of the second control section, the drive shaft can be operated exactly and quickly.例文帳に追加

これにより、第１制御部での処理にかかわらず、駆動軸を第２制御部で専用に制御でき、また、第２制御部のハードウェアの処理速度を上昇させることで、正確で、かつ迅速に駆動軸を作動させることができる。 - 特許庁

A console control part 42 functions as first and second determination parts 51, 52, so as to determine whether the residual amount of the battery 36 is over the predetermined threshold or not, and whether the imaging executed for each subject unit is in process or not.例文帳に追加

コンソール制御部４２が第１及び第２判定部５１、５２として機能することで、バッテリ３６の残量が所定の閾値を超えているか否か、及び被検者単位で行われる撮影の処理中であるか否かが判定される。 - 特許庁

The light-emitting elements are arranged on the second heat-conductive member, and the connection member manufactured by a metal extrusion process is used for connecting the second heat-conductive member and the adapter by going through the first heat-conductive member.例文帳に追加

前記発光素子は第二熱伝導部材上に設置し、前記接続部材は金属押出プロセスによって作製され、且つ第一熱伝導部材を突き抜けて第二熱伝導部材とアダプターを接続するのに用いられる。 - 特許庁

The resin powder is stuck again on a part necessary to apply the coating film more thicker in the melt-sticking part by a 2nd resin powder sticking apparatus 90 before the resin melt-stuck at first is not cured (a 2nd powder sticking process).例文帳に追加

更に、第２粉体付着装置９０により、上記で溶着した樹脂が硬化する前に、該溶着部分のうち塗膜を厚く形成する必要がある部分に再度樹脂粉体を付着させる（第２粉体付着工程）。 - 特許庁

As a result, a process margin at the time of wet-etching the first side wall film 106 and the sacrifice gate insulated film 104 is increased, and the generation of a slit at the gate electrode side lower part of the second side wall film 110 can be prevented.例文帳に追加

これにより、第１の側壁膜１０６および犠牲ゲート絶縁膜１０４をウェットエッチングする際のプロセスマージンを大きくして、第２の側壁膜１１０のゲート電極側下部にスリットが入るのを防ぐことができる。 - 特許庁

In a primary grinding process (ST11), both sides (first side, second side) of a wafer obtained by slicing an ingot are ground in order to remove processing strain thus reducing warpage caused by difference in the magnitude of processing strain.例文帳に追加

一次研削工程（ＳＴ１１）においては、インゴットから切り出して得られたウェーハの両面（一の面、二の面）を研削することで両面の加工歪みを除去して当該加工歪みの大きさの相違に起因する反りを低減する。 - 特許庁

To provide a touch panel display device which is superior in electromagnetic wave shielding property and can be thinned in a first place, superior in adhesion reliability in a second place and reduced in a possibility of thermal deterioration caused by a manufacturing process in a third place.例文帳に追加

本発明は、第一に、電磁波シールド性に優れ、しかも、薄型化が可能であり、第２に、密着信頼性が優れ、第３に、製造工程に起因する熱的劣化の恐れの少ないタッチパネルディスプレイ装置を提供するものである。 - 特許庁

When a new image signal is inputted before the stand-by period tw after the preceding image forming process is completed reaches a first idle period t1, a toner image responding to the image signal is immediately formed (Fig.(a)).例文帳に追加

先の画像形成動作を終了してからの待機時間ｔｗが第１休止時間ｔ１に達する前に新たな画像信号が入力されたときには直ちに該画像信号に対応したトナー像を形成する（図６（ａ））。 - 特許庁

When the aging process is carried out by applying a predetermined voltage to the plasma display panel after the panel has been produced, first aging 11 is performed, after which the characteristics of the panel are measured and second aging 13 is performed.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルを製造した後、そのプラズマディスプレイパネルに所定の電圧を印加してエージング工程を行う際に、第一のエージング１１を行った後に、前記プラズマディスプレイパネルの特性を測定し、さらに第二のエージング１３を行う。 - 特許庁

In image processing for rendering a three-dimensional virtual space using perspective projection transformation and depth comparison by a Z buffer, firstly, polygons to be rendered in a rendering process are classified into a first-type polygon and a second-type polygon.例文帳に追加

透視投影変換およびＺバッファによる深度比較を用いて３次元仮想空間の描画を行う画像処理において、まず、一度の描画処理における描画対象のポリゴンを第１種ポリゴンと第２種ポリゴンに分類する。 - 特許庁

Thirdly, the user performs the second photographing and moves to a first editing space 34 or a second editing space 35 according to a guidance in the second photographing space 33 to perform an editing process, and receives photographic sticker paper thereafter fourthly.例文帳に追加

３番目に、ユーザは、第２撮影を行ない、第２撮影空間３３における誘導に基づいて第１編集空間３４または第２編集空間３５に移動し、編集処理を実行し、その後４番目に写真シール紙を受け取る。 - 特許庁