「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(83ページ目) - Weblio英語例文検索

The conveyed pre-process blank 10' is stopped to rotate around the axis so that this center is not deviated while held between a first holding shaft 23 and a second holding shaft 32, and pushed into a die 20 while kept in such a state.例文帳に追加

搬送された前工程素材１０’は、第１ホールド軸２３と第２ホールド軸３２に挟持されて心ずれしないようにその軸線回りに回り止めされ、この状態を維持されたままダイ２０に押し込まれる。 - 特許庁

The apparatus is equipped with first and second support legs 13, 14 disposed on the process measurement surface 12; and the measurement object 15, having the flat surface to be measured 15a in its upper surface and being supported in a cross-linking form between both the support leges 13, 14.例文帳に追加

加工計測面１２上に設置される第１及び第２支持脚１３，１４と、両支持脚１３，１４間に橋架支持され、上面に被計測平面１５ａを有する被計測部材１５とを備える。 - 特許庁

(a) In the first process, either of two kinds of cylinder needles (CL, CH) are tuck-selected, and the other are welt-selected, as cylinder needles (30), and all needles are welt-selected as dial needles (34).例文帳に追加

（ａ）第１過程においては、シリンダー針（３０）は、２種類のシリンダー針（ＣＬ，ＣＨ）のいずれか一方がタック選針され、選択されなかったシリンダー針はウエルト選針され、ダイアル針（３４）は、全ての針がウエルト選針される。 - 特許庁

The network communication unit 102 switches the process with which the application communication is processed to one of the first TCP/IP protocol processing and the second TCP/IP protocol processing based on a communication condition of the application communication.例文帳に追加

ネットワーク通信部１０２は、アプリケーション通信の通信状態によって、第１のＴＣＰ／ＩＰプロトコル処理と第２のＴＣＰ／ＩＰプロトコル処理のいずれでアプリケーション通信を処理するかを切り替える。 - 特許庁

First, the line width of the inside of the wafer surface is measured after a photolithography process is completed, and a Zernike coefficient in a Zernike polynomial for indicating a plurality of in-plane pattern components is calculated from the in-plane line width measurement value of the wafer.例文帳に追加

先ず，フォトリソグラフィー工程が終了したウェハ面内の線幅を測定し，そのウェハ面内の線幅測定値から，複数の面内傾向成分を表すゼルニケ多項式のゼルニケ係数を算出する。 - 特許庁

In this method for manufacturing a semiconductor device, the mask pattern of a first layer and the mask pattern of a second layer can be formed as mask patterns whose shapes are similar, and whose dimensions are different by self-align only in single photo-lithograph process.例文帳に追加

本発明の作製方法によれば、１回のフォトリソグラフ工程のみで第１層のマスクパターン及び第２層のマスクパターンをセルフアラインで、かつ、相似形で寸法の異なるマスクパターンとして形成できる。 - 特許庁

A data associating process part 13 compares the name of the output data item of a first Web application with that of the input data item of a second Web application and associates the name of the output item with that of the input item.例文帳に追加

データ関連付け処理部１３が、第１のＷｅｂアプリケーションの出力データ項目名と、第２のＷｅｂアプリケーションの入力データ項目名とを比較し、出力項目名と入力項目名とを関連付ける。 - 特許庁

When face information is detected by a face detecting unit 101 (T1), the number of faces is determined using the number of pieces of face information detected once in a first face number deciding process "A" before a SW1 is turned on (T2).例文帳に追加

顔検出部１０１で顔情報が検出されると（Ｔ１）、ＳＷ１がオンされる前の第１の顔数決定処理Ａでは、１回の検出された顔情報の数を用いて顔数が決定される（Ｔ２）。 - 特許庁

An additional oxidation process is carried out in an atmosphere that contains water vapor, whereby a silicon oxide film 162 of thickness 5 nm is formed on the first region 11a, and a silicon oxide film 172 of thickness 8 nm is formed on the second region 11b.例文帳に追加

水蒸気を含む雰囲気中で追加酸化を行い、第１の領域１１ａに、膜厚５ｎｍのシリコン酸化膜１６_2 を、第２の領域１１ｂに膜厚８ｎｍのシリコン酸化膜１７_2 を形成する。 - 特許庁

Consequently, when the both time series data are differentiated by a first predetermined threshold value (S18) or more, it is determined that there is a delay process part between the both sensors or around the downstream side sensor part between the both sensor parts.例文帳に追加

この結果、両時系列データが第１所定閾値以上に異なる場合（Ｓ１８）には、両センサ部の間、または、両センサ部のうちの下流側のセンサ部付近に遅滞工程部があると判定することができる。 - 特許庁

The stopper 60 is brought into contact with the second taper part 23, when the seal ring 50 reaches a round part 27 between the first taper 22 and the flat part 23 in a process for inserting the plug 20 into the socket 40.例文帳に追加

プラグ２０をソケット４０に挿入する過程で、シールリング５０が第１テーパ部２２から平坦部２３に移るＲ状部分２７に至った後に、ストッパ６０が第２テーパ部２４に当接するように構成されている。 - 特許庁

The process returns back to ST1 if the answer is NO and a decision is made whether a flag F (indicative whether the first voice guidance has outputted or not)=1 or not (ST9) if the answer is YES.例文帳に追加

これがＮＯのときは音量及び速さを初期値のままで音声ガイダンスの出力を開始し（ＳＴ１１）、ＹＥＳのときは音量を大、速さをゆっくりとし（ＳＴ１０）、音声ガイダンスの出力を開始する（ＳＴ１１）。 - 特許庁

In the drying treatment at the high temperature in the first process, the heating temperature is 65-73°C, preferably 70-73°C and heating time is 1-5 hours, preferably 4-5 hours and a bactericidal treatment is preferably carried out.例文帳に追加

第１工程の高温乾燥処理は、加熱温度が６５℃〜７３℃、好ましくは７０℃〜７３℃、かつ、加熱時間が１時間〜５時間、好ましくは４時間〜５時間の加熱を行い、殺菌処理をすることが望ましい。 - 特許庁

Since the first and the second memory sections can be rewritten, reference voltage and verification voltage can be set, after a semiconductor memory is manufactured, in accordance with characteristics of a memory cell modified by variation of a manufacturing process.例文帳に追加

第１および第２記憶部が書き換え可能であるため、製造プロセスの変動により変化するメモリセルの特性に応じて、半導体メモリの製造後に参照電圧および検証電圧を設定できる。 - 特許庁

In a process of forming a photosensitive resin pattern on a substrate, a portion except for a pattern forming portion is first exposed and developed to obtain an alignment mark, and then the pattern portion is exposed and developed.例文帳に追加

基板上に感光性樹脂のパターンを形成する工程において、パターン形成部以外の部分を露光し、現像したアライメントマークが存在た後で、パターン部に対し露光、現像を行なうことにより解決した。 - 特許庁

The manufacturing method of the electrochromic display element provided with an electrochromic layer 107 and an electrolyte layer 106 between first and second electrodes 102 and 104 includes: a process for forming the electrochromic layer 107 on the first electrode 107 by an electro-spinning method; and a process for forming the electrolyte layer 106 coming in contact with the electrochromic layer 107.例文帳に追加

本発明に係るエレクトロクロミック表示素子の製造方法は、第１の電極１０２と第２の電極１０４との間にエレクトロクロミック層１０７と電解質層１０６とを備えるエレクトロクロミック表示素子の製造方法であって、第１の電極１０２上にエレクトロスピニング法によりエレクトロクロミック層１０７を形成する工程と、エレクトロクロミック層１０７に接する電解質層１０６を形成する工程とを含むことを特徴とするものである。 - 特許庁

An information processor comprises interruption issuing means for issuing a first interruption according to the input for an instruction of memory dump collection, reset process start means for issuing a second interruption to execute a program, which is arranged at an address indicated by a reset vector, according to the first interruption, and memory dump recording means for recording the memory dump in storage means in the process of the execution by the program, according to the second interruption.例文帳に追加

情報処理装置は、メモリダンプの採取指示の入力に応じ、第一の割り込みを発行する割り込み発行手段と、前記第一の割り込みに応じ、リセットベクタによって示されるアドレスに配置されているプログラムを実行させるための第二の割り込みを発行するリセット処理開始手段と、前記第二の割り込みに応じ、前記プログラムの実行過程においてメモリダンプを記憶手段に記録するメモリダンプ記録手段とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing a ceramic formed body is characterized by including a process for forming a green ceramic formed body 1 by molding a desired form from ceramic material, and a process for sintering the green ceramic formed body 1 while placing the first surface 1A of the green ceramic formed body 1 on a sintering stand 100 and installing a warpage adjusting plate 200 which faces the second surface 1B which is opposite to the first surface 1A.例文帳に追加

本発明のセラミック成形体の製造方法は、セラミック材料から所望の形状に成形し、グリーンセラミック成形体１を形成する工程と、前記グリーンセラミック成形体１の第１の面１Ａを焼結台１００上に載置するとともに、前記第１の面１Ａに対向する第２の面１Ｂに対向する反り調整板２００を設置し、前記グリーンセラミック成形体１を焼結する工程とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The control means 14 increases the temperature of the inner pot 3 up to the boiling temperature and maintains it in a first step of the first half of the rice cooking process and lowers the temperature of the inner pot 3 up to below the boiling temperature and maintains it in a second step of the second half of the rice cooking process.例文帳に追加

内鍋３と、内鍋３を加熱する加熱手段４と、予熱工程、炊飯工程及び蒸らし工程の各工程毎に加熱手段４を制御する制御手段１４とを備え、制御手段１４は、炊飯工程前半の第１の工程で、内鍋３の温度を沸騰温度まで上昇させて維持すると共に、炊飯工程後半の第２の工程で、内鍋３の温度を沸騰温度未満に降下させて維持することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a ceramic electronic component comprises: a first process for forming a corrugated section including convex and/or concave section on the surface; a second process for forming a first electrode film to be the terminal electrode, by mutually contacting a tapered section consisting of top of the convex section, or convex and/or concave section; to the end face of the ceramic raw material.例文帳に追加

本発明のセラミック電子部品の製造方法は、導電性ペーストを用いて、表面に凸部または／および凹部を備える波状形成部を形成する第１工程と、凸部の頂点部あるいは凸部または／および凹部により構成される傾斜部と、セラミック素体の端面と、を互いに接触させ、セラミック素体の端面に端子電極となるべき第１電極膜を形成する第２工程と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The exposure apparatus includes a plasma processing device which icnludes a first supply port capable of supplying a plasma produced from a process gas, and brings the plasma supplied from the first supply port into contact with a predetermined member coming into contact with the exposure liquid to enhance liquid repellency of a surface of the predetermined member to the exposure liquid.例文帳に追加

露光装置は、プロセスガスより生成されたプラズマを供給可能な第１供給口を有し、第１供給口から供給されたプラズマと露光液体と接触する所定部材とを接触させて、所定部材の表面の露光液体に対する撥液性を高めるプラズマ処理装置を備えている。 - 特許庁

During the channel selection process, the controller 160 adjusts a gain section, a modulator and an amplifier as necessary to reduce the transmission power of the first output 120 and the second output 122 so that the first output 120 can not be detected by a receiver (far-end user of the system 100) connected to the link 120.例文帳に追加

チャネル選択プロセス中、コントローラ１６０は、リンク１２０に接続された受信機（システム１００の遠端ユーザ）によって第１出力１２０が検出されないように第１出力１２０および第２出力１２２の送信パワーを低減するために、必要に応じて利得セクション、変調器および増幅器を調整する。 - 特許庁

A pitch pattern generation means generates a first pitch pattern or its feature quantity from analysis information of an input text in accordance with a prescribed rule and generates a second pitch pattern, which is obtained by correction based on a pitch pattern generation process model, from the first pitch pattern or its feature quantity and outputs this second pitch pattern.例文帳に追加

ピッチパターン生成手段は、所定の規則にしたがって入力テキストの解析情報から第１のピッチパターンもしくはその特徴量を生成し、この第１のピッチパターンもしくはその特徴量からピッチパターン生成過程モデルに基づいて補正した第２のピッチパターンを生成し、この第２のピッチパターンを出力する。 - 特許庁

This method includes a process in which an input signal for exciting a surface acoustic wave between first and second comb-like electrodes is applied, and the input signal is not substantially applied between third and fourth comb-like electrodes to thereby generate a resonance signal having a third frequency located between the first and second frequencies.例文帳に追加

第１、第２の櫛形電極間に弾性表面波を励起するための入力信号を印加し、かつ、第３、第４の櫛形電極間に入力信号を実質的に印加しないことにより、第１、第２の周波数間に位置する第３の周波数を有する共振信号を生成する工程を含む。 - 特許庁

A process forming dielectric layer 13 comprised a first laminate step laminating a first green sheet 110 in a closed room 103 of reduced pressure atmosphere, a second laminate step laminating a second green sheet 120, and a burning step burning the second green sheet 120.例文帳に追加

誘電体層１３を形成する工程は、減圧雰囲気にした密閉室１０３内で第１グリーンシート１１０をラミネートする第１ラミネートステップ、第２グリーンシート１２０をラミネートする第２ラミネートステップ及びラミネートされた第１グリーンシート１１０及び第２グリーンシート１２０を焼成する焼成ステップからなる。 - 特許庁

If the control part 12 cannot process the specific data file due to a full state of the memory when generating the first index printing data, it postpones processing for the specific data file, and selects the specific data file when generating the second index printing data to be generated after generating the first index printing data.例文帳に追加

制御部１２は、第１インデックス印刷データを生成する際に、メモリフルに起因して特定のデータファイルを処理できない場合に、特定のデータファイルの処理を延期し、第１インデックス印刷データよりも後に生成されるべき第２インデックス印刷データを生成する際に、特定のデータファイルを選択する。 - 特許庁

In a first manufacturing line 1, manufacturing apparatuses 10A-12A, 13, 14A and 15A are laid so that repeating processing units of a wafer process are configured, and one team A of operators takes charge of the first manufacturing line 1 composed of the manufacturing apparatuses 10A-12A, 13, 14A and 15A which are laid in an order of manufacturing processes.例文帳に追加

第１製造ライン１において、ウェハプロセスの反復処理単位を構成するように、製造装置１０Ａ〜１２Ａ、１３、１４Ａ、１５Ａをレイアウトし、製造工程順にレイアウトされた製造装置１０Ａ〜１２Ａ、１３、１４Ａ、１５Ａからなる第１製造ライン１を一つの作業者チームＡが担当するようにする。 - 特許庁

The master cylinder has a liquid passage which is leading from the first 3 and second pressure chambers 6 to the reserver 8 and is furnished with a throttle passage 22 to be actuated when the flowing pressure is slow in the process in which the working liquid flows from the first 3 and second pressure chambers 6 to the reserver 8 and a relief valve 23 which is open when the flowing pressure is high.例文帳に追加

第１圧力室３、第２圧力室６からリザーバ８へ作動液が流動する過程で、流動圧が低圧のときに作動する絞り通路２２と、流動圧が高圧のときに開放するリリーフ弁２３とを第１、第２圧力室３、６とリザーバ８との間の液通路に設けた。 - 特許庁

In a groove forming process, a saw teeth shape part DT corresponding to a first and a second reflecting faces 23a, 23b which are a plurality of reflecting faces to extract light guided into the interior of the light guide plate 20 to the exterior is formed by a first and a second flat faces 123a, 123b which form a prescribed angle α in the resin base material 50.例文帳に追加

溝形成工程において、導光板２０内部に導いた光を外部へ取り出すための複数の反射面である第１及び第２の反射面２３ａ，２３ｂに対応する鋸歯状部ＤＴが所定角度αとなる第１及び第２の平坦面１２３ａ，１２３ｂにより樹脂基材５０に形成される。 - 特許庁

In the method for fabricating a TMR element having a tunnel barrier layer sandwiched between ferromagnetic layers, a process for making the tunnel barrier layer comprises a step for depositing a first metallic material film on the ferromagnetic layer, and a step for oxidizing the first metallic material film thus deposited under an environment where the impurity concentration is 1E-02 or less.例文帳に追加

強磁性層間にトンネルバリア層が挟設されてなるＴＭＲ素子の製造方法であって、トンネルバリア層を作製する工程が、強磁性層上に第１の金属材料膜を成膜し、成膜した第１の金属材料膜を不純物濃度が１Ｅ−０２以下の環境下で酸化することを含む。 - 特許庁

The near field communication multifunctional device involves: an operation to perform a first initiation procedure for a first data format in compliance with a standard protocol; an operation to perform a second initiation procedure for a second data format in compliance with a standard protocol; an operation to make a delay; and an operation to repeat these operations in a repetitive process.例文帳に追加

前記各動作は，ある標準のプロトコルによる第1データ形式のための第1開始手続を実行する動作と，ある標準のプロトコルによる第２データ形式のための第２開始手続を実行する動作と，遅延を実行する動作と，反復処理においてこれらの動作を繰り返す動作とである。 - 特許庁

This invention relates to the method of manufacturing the thin film solar cell including a deformation processing process S102 that simultaneously impresses a first vertical tension in a longitudinal direction and a first horizontal tension in a width direction of the flexible substrate, while letting the temperature of the belt-shaped flexible substrate reach equal to or higher than the glass transition point of the substrate material.例文帳に追加

帯状の可撓性基板をその基板の材質のガラス転移点以上の温度に到達させながら、可撓性基板の長手方向の第１の縦張力と幅方向の第１の横張力とを同時に印加する変形処理工程Ｓ１０２を含む薄膜太陽電池の製造方法。 - 特許庁

When a laser irradiation unit is indexed and fed in the Y-coordinate direction to be positioned on the first splitting line 11 to be used as a processing object next, a positioning process indexes and feeds an indexing/feeding position determined by the distance between the first splitting lines 11 by being shifted by the displacement amount L21.例文帳に追加

そして、位置付け工程は、レーザー照射ユニットをＹ座標方向に割り出し送りして次に加工対象とする第１の分割予定ライン１１に位置付ける際に、第１の分割予定ライン１１間の距離によって定まる割り出し送り位置をズレ量Ｌ２１分ずらして割り出し送りする。 - 特許庁

To provide a front loading type disk device equipped with a plurality of guide parts (4D1-4D4) that can be adjusted to a first height (hh) at which visibility is good when a disk is mounted on a tray (4) and to a second height (hl) lower than the first height in correspondence with a thin-type body (1) in the process of ejection or loading of the tray.例文帳に追加

トレイ（４）にディスクを載置するときは視認しやすい第１の高さ（ｈｈ）とし、かつトレイを搬入又は搬出する途中では薄型の本体（１）に対応して第１の高さよりも低い第２の高さ（ｈｌ）に調整可能な複数のガイド部（４Ｄ１〜４Ｄ４）を備えたフロントローディング型のディスク装置を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a foldable intraocular lens for integrally forming an optical part and a supporting part with a soft acrylic base material having adherence includes a first cutting process for forming at least a part of a surface of the supporting part or the optical part in the form of a pearskin finish by cutting processing by a first cutting member.例文帳に追加

粘着性を有する軟性アクリル基材により光学部と支持部とが一体的に形成される折り畳み可能な眼内レンズの製造方法は、支持部又は光学部の少なくとも一部の表面を第１切削部材による切削加工により梨地状に形成する第１切削工程を含む。 - 特許庁

The rotary blade is formed in a disk shape having a second edge at an outer peripheral edge, and rotatably mounted to the carriage, and cuts the paper with the fixed blade by rotating in the direction for nipping the paper with the first edge in a process of moving along the first edge.例文帳に追加

前記回転刃は、外周縁部に第２の刃先部を有する円盤状に形成されて、前記キャリッジに回転可能に搭載され、第１の刃先部に沿って移動する過程で前記第１の刃先部とで用紙を挟む方向に回転することにより、前記固定刃とによって前記用紙を切断する。 - 特許庁

A remote control signal generated by combining an 8-bit first data code with command data written therein with an 8-bit second data code is used; an identification code (expansion code) is written in a second-half 4-bit bit string of the second data code; and the operation of a process corresponding to the first data code can be controlled in accordance with the identification code.例文帳に追加

コマンドデータが書き込まれた８ビットの第１データコードと、８ビットの第２データコードとが結合されたリモコン信号が用いられるが、第２データコードの後半４ビットのビット列には識別コード（拡張コード）が書き込まれており、識別コードに応じて第１データコードに対応する処理の動作を制御可能となっている。 - 特許庁

In the process of forming the second rubber layer 13, the overlapped part 15a in which the second rubber strip overlaps itself is formed outward of the non-overlapped part 14b of the first rubber layer, and the non-overlapped part 15b in which the second rubber strip does not overlap itself is formed radially outward of the overlapped part 14a of the first rubber layer 12.例文帳に追加

第２のゴム層１３を形成する工程は、第２のゴムストリップが重なった重なり部１５ａを第１のゴム層の非重なり部１４ｂの外側に形成しかつ、第２のゴムストリップが重ならない非重なり部１５ｂを第１のゴム層１２の重なり部１４ａの半径方向外側に形成する。 - 特許庁

To mount a semiconductor on a first metal plate without using a positioning tool, in a manufacturing method of a semiconductor device wherein a wire is connected to one surface of a semiconductor element, and a first metal plate and a second metal plate are solder-jointed to the other surface and the one surface of the semiconductor element by a once reflow process.例文帳に追加

半導体素子の一面にワイヤを接続するとともに、１回のリフロー工程によって半導体素子の他面、一面に第１の金属板、第２の金属板をはんだ接合してなる半導体装置の製造方法において、位置決め治具を用いることなく、半導体素子を第１の金属板に搭載できるようにする。 - 特許庁

The process for producing a pigment dispersion has steps of supplying a first liquid comprising a solution of a water-soluble metal salt and a second liquid comprising a solution of a dye of general formula 1 or 2, and mixing under stirring the supplied first and second liquids to convert the dye into a pigment to thereby form dispersed pigment particles.例文帳に追加

水溶性金属塩の溶液である第１の液と、一般式１または２の染料の溶液である第２の液とを各々供給するとともに、供給された第１の液と第２の液とを攪拌混合して染料を顔料化し、顔料分散粒子を生成する工程を有する顔料分散物の製造方法。 - 特許庁

The facing end 14a of the facing 14 is sealed in intervention between the first backing 42 and the second backing 44, so that the foam 16 in process of a foaming reaction between the second backing 44 and the facing 14 is prevented from extruding from between the facing end 14a and the first backing 42.例文帳に追加

表皮１４の表皮端末１４ａを第１基材４２および第２基材４４により挟み込んでシールすることで、第２基材４４と表皮１４の間で発泡反応が進行中の前記発泡体１６が、表皮端末１４ａと第１基材４２の間から漏出するのを防止する。 - 特許庁

The radio communication system is provided with a first communication means to transmit the communication parameter, a means to execute registration-processing of the communication parameter, a means which can switch a second communication means to process communications except the first communication means with one specific operation, and a means to protect the switching means by a password.例文帳に追加

通信パラメータを送信する第１の通信手段と、前記通信パラメータを登録処理する手段と、第１の通信手段以外の通信を処理する第２の通信手段をある特定の動作により切り替えることができる手段と、切替手段はパスワードにより保護する手段を具備する。 - 特許庁

The semiconductor light emitting device comprises a base 18 on which an LED chip 11 is mounted; a case 16 including a reflector surface 17 which is formed through surface process such as silver plating or the like, a first electrode 12; a second electrode 13; a first lead 14; a second lead 15; and a heat-proof transparent glass cover 20.例文帳に追加

半導体発光装置は、LEDチップ１１が搭載された基台部１８と、銀メッキ等の表面処理が施されて形成されたリフレクタ面１７を有するケース１６と、第１の電極部１２、第２の電極部１３、第１のリード１４、第２のリード１５、及び耐熱性透明ガラス蓋２０とを具備して構成されている。 - 特許庁

A signal processing part 40 performs a restoration process for generating second image data, equivalent to first image data output from the imaging device 20, when the resolution of the imaging lens 10 is high on the first image data output from the imaging device 20, which has imaged the optical image of an object through the imaging lens 10.例文帳に追加

信号処理部４０が、撮像レンズ１０を通して被写体の光学像を撮像した撮像素子２０から出力される第１の画像データに対し、撮像レンズ１０の解像力が高いときに撮像素子２０から出力される第１の画像データと同等の第２の画像データを生成するような復元処理を施す。 - 特許庁

Further, a characteristics adjustment is carried out through a process of impressing a characteristics shift voltage of a first step of aligning the slanting of the electron emission characteristics lines of a plurality of electron emission elements with the first target value and a second step of aligning the segments of the electron emission characteristics lines of a plurality of elements with the second target value.例文帳に追加

さらに、複数の電子放出素子の電子放出特性直線の傾きを第１の目標値に揃える第１のステップと、複数の素子の電子放出特性直線の切片を第２の目標値に揃える第２のステップとで特性シフト電圧を印加する工程を経て、特性調整を行う。 - 特許庁