「First layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(478ページ目) - Weblio英語例文検索

The optical element has the antireflection function, and includes a substrate which has a first uneven structure of projections or recessed, arrayed at a pitch equal to or less than a half of a wavelength λ, formed on a surface, and a thin film layer having at least one thin film on the first uneven structure, and the thin film layer has a lower refractive index than the substrate.例文帳に追加

反射防止機能を有する光学素子であって、波長λの半分以下のピッチで並ぶ、凸または、凹の形状をした第１の凹凸構造が表面に形成された基板と、前記第１の凹凸構造の上に少なくとも１層以上の薄膜を有する薄膜層と、を有し、前記薄膜層は、前記基板の屈折率よりも屈折率が低く、また、２層以上の薄膜を有する場合は、前記基板側から空気側に向かって、屈折率が低くなる順に配置され、前記薄膜層の最上層には、前記第１の凹凸構造に対応する第２の凹凸構造があるとともに、下記条件式を満たすことを特徴とする光学素子。 - 特許庁

The light-emitting element is provided with a first electrode and a second electrode set in opposition, at least either being transparent or translucent, and a light-emitting layer pinched between the first electrode and the second electrode structured of light emitter particle powder including light emitter particles with the surface coated with a hole transport material and with conductive nanoparticles carried on the surface of the hole transport material.例文帳に追加

発光素子は、互いに対向して設けられ、少なくとも一方が透明又は半透明である、第１電極及び第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に挟持された発光層であって、発光体粒子の表面が正孔輸送材料で被覆され、該正孔輸送材料の表面に導電性ナノ粒子が担持された発光体粒子を含む発光体粒子粉末で構成された、発光層と、を備える。 - 特許庁

The circuit has a transistor for controlling an electrical connection between first wiring for supplying a supply potential to the signal processing circuit and second wiring for supplying the supply potential, and a transistor for determining whether or not to ground the first wiring for supplying the supply potential to the signal processing circuit, and at least one of the two transistors is a transistor whose channel is formed in an oxide semiconductor layer.例文帳に追加

信号処理回路に対する電源電位の供給を担う第１の配線と、電源電位を供給する第２の配線との電気的な接続を制御するトランジスタ、及び、信号処理回路に対する電源電位の供給を担う第１の配線を接地させるか否かを制御するトランジスタとを設け、当該２つのトランジスタの少なくとも一方として、チャネルが酸化物半導体層に形成されるトランジスタを適用する。 - 特許庁

The light emitting element is characterized by having: a semiconductor laminated material having a light-emitting layer; a transparent electrode having a first plane with a protruded area in a shape of island or net and a second plane in ohmic contact with the semiconductor laminated material; and a pad electrode provided at least in any one of the upper surface of the protruded area and the bottom surface in the circumference of the protruded area on the first plane.例文帳に追加

発光層を有する半導体積層体と、島状または網状の凸部が設けられた第１の面と、前記半導体積層体との間でオーミックコンタクトを可能とする第２の面と、を有する透明電極と、前記第１の面における前記凸部の上面および前記凸部の周囲の底面のうちの、少なくともいずれかの上に設けられたパッド電極と、を備えたことを特徴とする発光素子が提供される。 - 特許庁

In a dry etching method, first reaction gas containing hydrogen and second reaction gas containing fluorine are brought into contact with a heating element 110 formed of nickel to generate hydrogen radicals and fluorine radicals, the hydrogen radicals and the fluorine radicals are reacted with the first reaction gas and the second reaction gas to generate etching gas, and a silicon oxide layer on a substrate is etched with the etching gas.例文帳に追加

本実施形態のドライエッチング方法は、水素を含む第１の反応ガスとフッ素を含む第２の反応ガスとをニッケルで形成された加熱体１１０に接触させることで、水素ラジカルとフッ素ラジカルとをそれぞれ生成し、前記水素ラジカルおよび前記フッ素ラジカルと、前記第１の反応ガスおよび前記第２の反応ガスとを反応させることでエッチングガスを生成し、前記エッチングガスによって基板上のシリコン酸化物層をエッチングする。 - 特許庁

A method for manufacturing organic EL devices comprises a first step for heating an inorganic laminated element including a substrate and a hale charging electrode formed on one side thereof, and processing the application of bias voltage on the inorganic laminated element, and a second step for forming another laminated element including an organic emissive layer and an electron injection electrode at the opposite side to the substrate of the hale charging electrode subsequent to the first step.例文帳に追加

上記課題を解決する本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、基板及びその一側に形成されたホール注入電極を備える無機積層体を加熱して、その無機積層体にバイアス電圧の印加処理を行う第１工程と、第１工程の後にホール注入電極の基板と反対側に有機発光層及び電子注入電極を備える積層体を形成する第２工程とを有するものである。 - 特許庁

On a semiconductor substrate 1, this semiconductor device has a resistance portion 13, made of polysilicon where impurities are diffused, a first insulating film (SIN film) 14 formed on the resistance portion 13, a second insulating film (SIN film) 15 formed on the first insulating film 14 and an impurity-containing layer (BPSG film) 16 formed on the second insulating film 15.例文帳に追加

半導体基板１上に形成された、不純物が拡散されたポリシリコンからなる抵抗部１３と、該抵抗部１３上に形成された、第１の絶縁膜（ＳｉＮ膜）１４と、該第１の絶縁膜１４上に形成された、第２の絶縁膜（ＳｉＮ膜）１５と、該第２の絶縁膜１５上に形成された、不純物含有層（ＢＰＳＧ膜）１６とを有する半導体装置または半導体記憶装置および半導体装置の製造方法。 - 特許庁

In manufacturing the ultrasonic probe having this adhesive layer for a first adhesive applied to the vibration or non-vibration region of the piezoelectric element, the one having a viscosity at which the adhesive can be prevented from flowing from the vibration region to the non-vibration region of the piezoelectric element 121 or vice versa is used.例文帳に追加

当該接着層を有する超音波プローブの製造において、最初に圧電素子の振動領域又は非振動領域の一方に充填される接着剤については、圧電素子１２１の振動領域又は非振動領域の他方に流入しない程度の粘度を有するものが使用される。 - 特許庁

A scroll compressor 100 is constituted by applying carbon bimetal wherein a sintered layer having a journal bearing part 94 and a main bearing part 72 on a surface of a steel plate is impregnated with a resin including carbon, and surface modifying treatment is applied to a driving bush (first bush) 95 and a bush (second bush) 73.例文帳に追加

スクロール圧縮機１００は、ジャーナル軸受部９４及び主軸受部７２を鋼板の表面上に形成された焼結層にカーボンを含む樹脂を含浸させたカーボンバイメタルを適用して構成し、駆動ブッシュ（第１ブッシュ）９５及びブッシュ（第２ブッシュ）７３に表面改質処理を施したことを特徴とする。 - 特許庁

In a process for forming the protective film on the organic EL element having a pair of electrodes and an organic compound layer arranged between the pair of electrodes, a pipe 11a of a gas supply means 11 having a surface facing a first surface of a substrate 1 with the organic EL element stacked thereon is cooled by cooling water passages 17.例文帳に追加

一対の電極と、前記一対の電極の間に配置されている有機化合物層を有する有機ＥＬ素子に保護膜を成膜する工程で、基板１の有機ＥＬ素子が積層された第１面に対向する面を有するガス供給手段１１の配管１１ａを、冷却水通路１７によって冷却する。 - 特許庁

In this manufacturing method, after forming the display electrode pairs and the light shielding film on the front base board 11, work for applying and baking a dielectric material is performed twice for forming the dielectric layer 17, and a baking temperature of first time is selected to a temperature lower than a softening temperature of the dielectric material.例文帳に追加

本製法では、前面基板１１の上に、表示電極対と遮光膜とを形成した後に、誘電体層１７を形成するために誘電体材料を塗布して焼成する作業を２回行い、１回目の焼成温度を誘電体材料の軟化温度よりも低い温度に選定する。 - 特許庁

A discharge electrode 12 is disposed in a first exhaust gas passage 10, and a charge electrode 11 is disposed in an exhaust gas leading surface 181, the discharge electrode 12 is brought into point-contact with an inner wall surface 130, and the charge electrode 11 is brought into electrically contact with an accumulated soot layer 80.例文帳に追加

第１排ガス通路１０には放電電極１２が，排ガス導入面１８１には帯電電極１１が設けてあり，放電電極１２は内壁面１３０と点接触するよう構成され，上記帯電電極１１は堆積煤層８０に対し電気的に接触可能に構成されている。 - 特許庁

A sheet material 20 includes a first sheet material having a binder sheet 250 bonded to the insertion part 10 and an LDPE sheet formed from a polyethylene resin, and a second sheet material having, as an external layer opposite to a face stuck to the LDPE sheet, a PET sheet 212 formed from a polyethylene terephthalate resin.例文帳に追加

シート材２０は、挿入部１０に接着されるバインダシート２５０、及びポリエチレン樹脂からなるＬＤＰＥシートを有する第一のシート材と、ＬＤＰＥシートに貼り合わされた面とは反対側に位置する外層としてポリエチレンテレフタレート樹脂からなるＰＥＴシート２１２を有する第二のシート材とを備える。 - 特許庁

The lens liquid crystal layer is housed in the main lens and the sublens, is arranged between the first lens substrate and the second lens substrate, consists of liquid crystal molecules having anisotropic refractive indexes and refracts light polarized in a predetermined direction at a boundary face with the stereoscopic image lens part to change a planar image to a stereoscopic image.例文帳に追加

レンズ液晶層は、メインレンズ及びサブレンズに収容され、第１及び第２レンズ基板の間に配置され、異方性の屈折率を有する液晶分子からなり、所定の方向に偏光された光を立体画像レンズ部との境界面で屈折させ、平面画像を立体画像に変更させる。 - 特許庁

An expanded grid formed by expanding a rolled sheet 3 formed by arranging first coating layers 1 formed of a lead-tin-based alloy and second coating layers 2 formed of a lead-antimony-based alloy on one surface or each of both surfaces of a lead-calcium-based alloy layer is used as a positive electrode grid.例文帳に追加

鉛−カルシウム系合金層の片面または両面のそれぞれに鉛−錫系合金からなる第１の被覆層１と鉛−アンチモン系合金からなる第２の被覆層２とが並べて形成された圧延シート３をエキスパンド加工することにより作成したエキスパンド格子を正極格子として用いた。 - 特許庁

Continuously, a second resist pattern 20 is formed over the Si substrate 10, and with the first and second resist patterns 16 and 20 as masks, impurity ions 22 are implanted in the Si substrate 10 with efficiently high energy for forming an impurity-ion- implanted layer 24 at a specified depth D in the Si substrate 10.例文帳に追加

続いて、Ｓｉ基板１０上に第２のレジストパターン２０を形成し、第１及び第２のレジストパターン１６、２０をマスクとして十分に高いエネルギーでＳｉ基板１０に不純物イオン２２を注入して、Ｓｉ基板１０中の所定の深さＤに不純物イオン注入層２４を形成する。 - 特許庁

The secondary battery is provided which comprises an electrode assembly 200 in which a separator 230 is interposed between a first electrode plate 210 and a second electrode plate 220, a case 110 of metallic material which houses the electrode assembly 200 and has an insulating layer 250 formed, and a lid assembly for closing the case 110.例文帳に追加

本発明は，第１電極板２１０と第２電極板２２０との間にセパレータ２３０が介在された電極組立体２００と，電極組立体２００を収容する，絶縁層２５０が形成された金属材質のケース１１０と，ケース１１０を密閉する蓋体組立体とを含む二次電池を提供する。 - 特許庁

A belt molding drum 1 having a projected outer peripheral surface 1A of a curvature almost same to that of the inner surface of a mold with which tread rubber 4 comes into contact at the time of vulcanization, is used, and a first belt layer 2 is cylindrically wound around the belt molding drum 1 to be shaped corresponding to the shape of the outer peripheral surface of the belt molding drum 1.例文帳に追加

加硫時にトレッドゴム４が当接する凹状の金型内面と略同じ曲率を有する凸形状の外周面１Ａを備えたベルト成形ドラム１を使用し、そのベルト成形ドラム１に１層目のベルト層２を筒状に巻き付けた後、これをベルト成形ドラム１の外周面形状に合わせて型付けする。 - 特許庁

To surely prevent the clogging of a filter material layer due to an insufficient backwashing and the deterioration of treating performance due to the excess of the backwashing by automatically controlling the most suitable backwashing interval, in a method for backwashing a biological filter in which a first backwashing by timer setting and a second backwashing based on filter pressure loss are performed in combination.例文帳に追加

タイマー設定による第１の逆洗と、濾過圧損に基く第２の逆洗とを組み合せて行う生物濾過装置の逆洗方法において、最適な逆洗間隔を自動制御することにより、逆洗不足による濾材層の閉塞、過剰逆洗による処理性能の低下を確実に防止する。 - 特許庁

Thus, the optical axes of the liquid crystal layer can be arranged in free directions without receiving restrictions except that the transmission axes of the first and second polarizing plates are interested orthogonally with each other while the optical axes are held fixed in the horizontal direction desirable for the stability of the bend orientation, and the visual angle of the desired direction concentration can be made wider.例文帳に追加

このように、液晶層の光学軸はベンド配向の安定性上望ましい水平方向に固定したまま、かつ、第１及び第２の偏光板の透過軸は相互に直交させること以外に制約を受けずに自由な方向に配置でき、所望の方向の視野角を広くすることができる。 - 特許庁

After that, the polyaryl ether film 18 is selectively etched, the viahole 24a extending the surface of a first wiring layer 16 is opened, second thermal treatment is performed at 350°C for 5 minutes, and water content absorbed in the second interlayer insulating film 22 is discharged by exposure to the outside air when a semiconductor base substance is transferred to sputtering equipment.例文帳に追加

その後、ポリアリールエーテル膜１８を選択的にエッチングし第１配線層１６表面にまで達するビアホール２４ａを開口した後、温度３５０℃、５分間の第２の熱処理を施し、半導体基体をスパッタ装置に搬送する際の外気暴露によって第２層間絶縁膜２２に吸収された水分を放出する。 - 特許庁

While gradually increasing the widths of lines 104a, 104b, 105a and 105b of first and second groups of differential signal lines 104 and 105 to suppress attenuation in the lines, the opening widths of slits 104s and 105s formed in a GND layer 102 below the respective differential signal lines are similarly changed.例文帳に追加

第１、第２の組の差動信号配線１０４、１０５の各配線１０４ａ、１０４ｂ、１０５ａ、１０５ｂの配線幅を徐々に太くすることで、配線での減衰を抑えつつ、各差動信号配線の直下のＧＮＤ層１０２に形成するスリット１０４ｓ、１０５ｓの開口幅も同様に変化させる。 - 特許庁

An electric insulating layer 61 side is made to face a piezoelectric element 13 side to set the terminal 57 oppositely to the common electrode 19, and a liquid conductive adhesive 79 is filled in the through-hole 67 in a state that the first liquid stopper 69-1 is interposed in the gap between the terminal 57 and the common electrode 19.例文帳に追加

電気絶縁層６１側を圧電素子１３側に望ませて端子部材５７を共通電極１９に対面させ、端子部材５７と共有電極板１９との間隙に第１の液止め部材６９−１を介在させた状態で、貫通孔６７内に導電性接着剤液７９が充填されている。 - 特許庁

The charging/discharging circuit 100 comprises a first arm 110 having switching elements SW11 and SW12 and diodes D1 and D2, a second arm 120 having switching elements SW13 and SW14 and diodes S3 and D4, and a capacitor line 130 having an electric double layer capacitor C and DC reactors L1 and L2.例文帳に追加

スイッチング素子ＳＷ１１，ＳＷ１２とダイオードＤ１，Ｄ２を有する第１アーム１１０と、スイッチング素子ＳＷ１３，ＳＷ１４とダイオードＳ３，Ｄ４を有する第２アーム１２０と、電気二重層キャパシタＣと直流リアクトルＬ１，Ｌ２を有するキャパシタ用ライン１３０とで、充放電回路１００が構成されている。 - 特許庁

The nonaqueous electrolyte secondary battery can be manufactured via a first process of assembling the battery provided with the porous polymer layer between the positive electrode and negative electrode, a second process of filling an electrolyte in the battery, and a third process of heating the battery at 100°C or higher after sealing the battery.例文帳に追加

正極−負極間に有孔性ポリマー層を備えた電池を組み立てる第１の工程と、前記電池に電解液を注液する第２の工程と、前記電池を封口した後、１００℃以上の温度で加熱する第３の工程を経ることにより本発明の非水電解質二次電池を製造することができる。 - 特許庁

A metal oxide layer to be formed into a crystal nucleus is preformed on a substrate (first step), and thereafter, a zinc oxide precursor solution is applied thereto, and thermolysis is performed at ≤200°C (second step), thus a transparent zinc oxide thin film having c-axis orientation can be easily formed on the crystal nucleus inexpensively.例文帳に追加

基板上にあらかじめ結晶核となる金属酸化物層を形成させた（第一工程）後、これに酸化亜鉛前駆体溶液を塗布し、２００℃以下の温度で加熱分解する（第二工程）ことによって、結晶核上に、ｃ軸配向性を持ち、かつ透明な酸化亜鉛薄膜を、低コストかつ簡易に形成することができる。 - 特許庁

The first substrate has a plurality of pillar structures 15a and 15b substantially of the same height provided on a predetermined position on the side of the liquid crystal layer and the second substrate has a plurality of recessed parts 24b at a position opposite to a part 15b preliminarily selected among the plurality of pillar structures.例文帳に追加

第１基板は液晶層側の予め決められた所定の位置に設けられた、実質的に同じ高さの複数の柱状構造体１５ａおよび１５ｂを有し、第２基板は複数の柱状構造体の内の予め選択された一部１５ｂと対向する位置に複数の凹部２４ｂを有する。 - 特許庁

A first fixed holding piece and a variable holding piece facing each other are formed on the inner circumferential coating layer, and a deformation holding piece is formed so that the variable holding piece is pressed upwardly in a cooling condition to increase a gap by the operation of a variable tool 13 in a softened state after passing through the second die 21.例文帳に追加

内周被覆層には、相対応する第１固定保持片と、可変保持片とを成形し、その後、第２金型ダイス２１の通過後の軟化状態の時に可変治具１３の作動により、冷却しながら該可変保持片を上方に押圧して隙間を大きくするように変形保持片を形成する。 - 特許庁

Then the compound semiconductor layer 50 is stuck to the element substrate 7 by pressurizing the laminate 130 through the softened pressurizing cushion layers 150 and 111 between the first and second pressurizing members 51 and 52, while the laminate 130 is heated to a sticking temperature at which the cushion layers 150 and 111 are softened.例文帳に追加

そして、加圧クッション層１５０，１１１が軟化する貼り合わせ温度に積層体１３０を加熱しつつ、第一加圧部材５１と第二加圧部材５２との間で該積層体１３０を、軟化した加圧クッション層１５０，１１１を介して加圧することにより、化合物半導体層５０と素子基板７とを貼り合わせる。 - 特許庁

A first element isolating insulation film is provided which is buried in an element isolation groove provided on the semiconductor substrate, and the bottom face of which is lower than the height of a face at which the semiconductor substrate and the tunnel insulation film are contacted and the top face of which is lower than the height of a face at which the charge storage layer and the block insulation film are contacted.例文帳に追加

前記半導体基板に設けられた素子分離溝部に埋め込まれ、底面が前記半導体基板と前記トンネル絶縁膜の接する面の高さよりも低く、かつ上面が前記電荷蓄積層および前記ブロック絶縁膜の接する面の高さよりも低い第１の素子分離絶縁膜が設けられる。 - 特許庁

In a package formed by laminating conductor lines for signals and a dielectric where a conductor layer is arranged, when the package and the LD are not connected to ground, a first and a second conductor lines works as signal input terminals, and when the package and the LD are connected to ground, the second conductor line works as a signal input terminal and the conductor is connected to a case for grounding.例文帳に追加

信号用の導体線路と、導体層が設けられた誘電体を積層して成るパッケージにおいて、パッケージとＬＤとの非接地時に、第１、第２の導体線路が信号入力端子を成し、パッケージとＬＤとの接地時に、第２の導体線路が信号入力端子を成すとともに、導体をケースに接地する。 - 特許庁

With one of the side wall of an engaging part of a receptacle connector with a plug connector as a flange part 2b of an insulator 2, and the other side wall as a first shell 4, a contact 3 is arranged in a contact receiving groove 2d set at a flange part, a structure of just one layer of contact as a fitting part of the plug connector can be adopted.例文帳に追加

レセプタクルコネクタにおけるプラグコネクタとの嵌合部の一方の側壁をインシュレータ２のフランジ部２ｂとし、他方を第１のシェル４とし、コンタクト３をフランジ部に設けたコンタクト受け溝２ｄに配置することによって、プラグコネクタの嵌合部として、１層のみのコンタクトを持つ構造を採用可能とする。 - 特許庁

This label comprises anode layers 3a, 3b formed on a base 2, function parts 4a, 4b formed on the base and operated by power supply, first connecting lines 5 for respectively connecting the anode layer and the functional part, second connecting lines 6 respectively extended from the function part, and a battery forming part 7 detachably attached to the base.例文帳に追加

基板（２）上に形成された陽極層（３ａ，３ｂ）と、基板上に設けられて電力の供給により作動する機能部（４ａ，４ｂ）と、陽極層と機能部とを接続する第１接続ライン（５）と、機能部から延びた第２接続ライン（６）と、基板上に着脱自在に貼着されたバッテリー形成部（７）とを備えている。 - 特許庁

In a photocatalytic hydrophilic film suitable for an anti-fogging film for making the surface of a transparent base material such as a mirror, a lens or glass highly hydrophilic and preventing the formation of fog or waterdrops, a first substrate layer 4 is formed from a film excellent in flexibility such as an acrylic resin film comprising polymethyl methacrylate or the like.例文帳に追加

一方、該樹脂フィルムは、曲面上に貼り付ける場面も想定されるため、可撓性のよい素材を選択することが好ましいが、そのような可撓性の良い素材は概して熱変形温度が低く、前記乾燥工程において変形が生じ易く、それを防止するために特別の配慮が必要であった。 - 特許庁

The method also includes removing a second region E2 by machining previously before shaping the three-dimensional structure, which corresponds to a region that is scheduled to be subjected to a predetermined machining step after the three-dimensionally structure has been shaped, out of the first region E1 that corresponds to the hardened layer of the plate 3 for shaping, which will be hardened in the irradiation step.例文帳に追加

そして、照射工程の実施によって硬化されるであろう造形用プレート３の硬化層に相当する第１の領域Ｅ１のうち、三次元形状造形後に所定の機械加工が予定されている領域に相当する第２の領域Ｅ２を、三次元形状造形前に予め除去加工する。 - 特許庁

The exposure apparatus for transferring different types of exposure patterns on a processed substrate having a photosensitive layer formed thereon includes at least a first substrate conveying means, a second substrate conveying means, a substrate receiving stage, an aligning means, an exposure section, a substrate carrying-out section, and a control means, wherein the exposure section comprises a plurality of exposure units.例文帳に追加

感光層が形成された処理基板に異種パターンを露光する露光装置であって、少なくとも第１の基板搬送手段と、第２の基板搬送手段と、基板受け取りステージと、アライメント手段と、露光部と、基板搬出部と、制御手段と、を具備しており、該露光部が複数の露光ユニットからなる。 - 特許庁

Provided are a photoresist composition that comprises: (A) a first polymer comprising units of the following formulas (I), (II) and (III); (B) a second polymer that is (meta)acrylic acid C3-C7 alkyl homopolymer or copolymer; and (C) a photoacid generator, and a method of forming photolithographic patterns by unexposed regions of the photoresist layer being removed by the developer.例文帳に追加

（Ａ）式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）：の単位を含む第１のポリマー；（Ｂ）（メタ）アクリル酸Ｃ３〜Ｃ７アルキルホモポリマーもしくはコポリマーである第２のポリマー；並びに（Ｂ）光酸発生剤；を含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジスト層の未露光領域が現像剤によって除去されて、フォトリソグラフィパターンを形成する方法。 - 特許庁

The light deflection element 28 includes a second light deflection element for complementing a part to be a dark part in a first light deflection element, is arranged toward a light source 41 side of a display 70 and ejects uniform diffusion light from the light diffusion layer 24 after deflecting incident light H from an incident surface of the light deflection element 28.例文帳に追加

光偏向素子２８は、第１の光偏向素子で、暗部となる箇所を補完するような第２の光偏向素子を有しており、表示装置７０の光源４１側に向けて配置され、光偏向素子２８の入射面から入射した光Ｈを偏向して、光拡散層２４から均一な拡散光を射出する。 - 特許庁

In the access control of the optical pickup including moving between recording layers, first, it is judged whether the focus jump on a present address can be carried out or not and when it can not be carried out, the focus jump is carried out after moving a light spot to a closest position capable of focus jump on the present layer so that the failure of the focus jump can be avoided.例文帳に追加

記録層間の移動を含む光ピックアップのアクセス制御において、まず現在アドレスでのフォーカスジャンプ実行可否の判断を行い、否の場合は光スポットを現在層上のもっとも近接なフォーカスジャンプ可能位置へ移動させた後にフォーカスジャンプを実行して、フォーカスジャンプ失敗を回避する。 - 特許庁

Further, a steel material subjected to hardening and tempering is used as a first sliding member of the sliding structure, and a steel material having an ion-nitrided surface layer is used as a second sliding member, and further, an agent in which the pulverized material (thickening agent) obtained by pulverizing the fullerene-graphite laminate is blended in an amount of ≥80 mass% is used as the sliding agent.例文帳に追加

また、摺動構造体の第１摺動部材として焼入れおよび焼き戻しされてなる鋼材を用い、第２摺動部材としてイオン窒化表面層を持つ鋼材を用い、摺動剤としてフラーレン−グラファイト積層体が破砕されてなる破砕体（増ちょう剤）を８０質量％以上配合したものを用いる。 - 特許庁

A first core 16A with a refractive index n1 which satisfies the relationship of n2/n1=2^-1/2 and a second core 16B with a refractive index n2 are joined to a planate surface boundary 161 inclined at 45 degrees to the light moving direction, so as to form a waveguide 16 which has a metallic reflective layer 18 for the core as a clad.例文帳に追加

ｎ２／ｎ１＝２^−１／２の関係を満たす屈折率ｎ１の第１のコア１６Ａと、屈折率ｎ２の第２のコア１６Ｂとを、光の移動方向に対して４５°傾斜した平面状の界面１６１で接合し、このコアを金属製の反射層１８をクラッドとした導波路１６を形成する。 - 特許庁

The hole parts 5 are constituted so that the core part 2 has the highest effective refractive index distribution and the first hole part layer 51 has the lowest effective refractive index distribution, and the refractive index distributions are formed to be a W type distribution, so that the optical fiber has larger effective cross section than that of a conventional optical fiber.例文帳に追加

前記コア部２の実効屈折率分布が一番高く、前記第１の空孔部層５１の実効屈折率分布が一番小さくなるように空孔部５を構成して、屈折率分布がＷ型分布となるように形成したので、従来の光ファイバよりも大きな実効断面積を実現できる。 - 特許庁

The capacitor comprises the dielectric composition that contains resin and the high-permittivity inorganic particle having the content of ≥70 wt.% and ≤97 wt.%; and a first metal layer containing at least one of Cr, Ni, Ti, W, Nb, and Zr being provided adjacent to the dielectric composition.例文帳に追加

樹脂と高誘電率無機粒子を含有し、高誘電率無機粒子の含有量が、７０重量％以上９７重量％以下である誘電体組成物と、誘電体組成物に接して設けられたＣｒ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｗ、Ｎｂ、Ｚｒのいずれかを含む第１金属層を有するキャパシタ。 - 特許庁

In the atomic layer deposition method(ALD), a first reaction product is utilized, which contains at least one alkoxide group and is adsorbed on a substrate chemically and reacts with an activated oxidizing agent without a hydroxide and forms a dielectric substance showing an excellent coverage and improved leakage current characteristics.例文帳に追加

原子層蒸着法（ＡＬＤ）は最少限一つのアルコキシド基を含み、基板表面上に化学的に吸着されて水酸化基を含まない活性化された酸化剤と反応して優れているステップカバーレージおよび向上された漏洩電流特性を示す誘電物質を形成する第１反応物を利用する。 - 特許庁

At least either of the first and the second substrates 1a and 1b is a plastic film and the intermediate layer 3 consists of metal, non-metal or one species selected from an alloy thereof, an oxide thereof and a composite thereof.例文帳に追加

第１の非磁性支持体１ａと第２の非磁性支持体１ｂのうちの少なくともいずれかが、プラスチックフィルムであるものとし、また、中間層３は、真空薄膜形成技術によって形成された金属、非金属、またはこれらの合金、酸化物の化合物、複合物から選定されたものより成るものとする。 - 特許庁